半導體制造領域光刻膠的作用和意義

光刻是半導體加工中最重要的工藝之一，決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時間的40%-50%，占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關鍵耗材，其質量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關。

編輯：黃飛

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芯片(461677) 芯片(461677)
pcb(421992) pcb(421992)
芯片制造(30383) 芯片制造(30383)
光刻(31195) 光刻(31195)
光刻膠(31624) 光刻膠(31624)

微氣泡對光刻膠層的影響

了光刻劑。但重大挑戰(zhàn)仍然存在，部分原因是去除率不足以首先在半導體制造業(yè)中使用微氣泡。因此，我們需要通過明確了解微氣泡去除光刻抗蝕劑層的功能機制，來提高微氣泡的去除能力。本研究的目的是闡明微氣泡對光刻膠層表面的影響。

2022-01-10 11:37:13

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A股半導體光刻膠企業(yè)營收靚麗！打造光刻膠全產業(yè)鏈博康欲成國產光刻膠的中流砥柱

光刻膠為何要謀求國產替代？中國國產光刻膠企業(yè)的市場發(fā)展機會和挑戰(zhàn)如何？光刻膠企業(yè)發(fā)展要具備哪些核心競爭力？在南京半導體大會期間，徐州博康公司董事長傅志偉和研發(fā)總監(jiān)潘新剛給我們帶來前沿觀點和獨家分析。

2022-08-29 15:02:23

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半導體制造之光刻工藝講解

光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用

2023-12-04 09:17:24

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光刻膠的類型及特性

光刻膠類型及特性光刻膠（Photoresist），又稱光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。

2025-04-29 13:59:33

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國產高端光刻膠新進展，KrF、ArF進一步突破！

近日，上海新陽發(fā)布公告稱，公司自主研發(fā)的KrF（248nm）厚膜光刻膠產品已經(jīng)通過客戶認證，并成功取得第一筆訂單，取得不錯進展。 ? 光刻膠用于半導體光刻工藝環(huán)節(jié)，是決定制造質量的重要因素，根據(jù)曝光

2021-07-03 07:47:00

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半導體光刻膠企業(yè)營收靚麗！打造光刻膠全產業(yè)鏈博康欲成國產光刻膠的中流砥柱

電子發(fā)燒友原創(chuàng) 章鷹 ? 近日，全球半導體市場規(guī)模增長帶動了上游半導體材料旺盛需求，“光刻膠”的突破也成為國內關注焦點。正當日本光刻膠企業(yè)JSR、東京應化和美國Lam Research在EUV光刻膠

2022-08-31 07:45:00

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國產光刻膠突圍，日企壟斷終松動

厚膠量產到ArF浸沒式膠驗證，從樹脂國產化到EUV原料突破，一場靜默卻浩蕩的技術突圍戰(zhàn)已進入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A膠以120nm分辨率和93.7%的良率通過中芯國際28nm產線驗證，開創(chuàng)了國內半導體光刻制造的新

2025-07-13 07:22:00

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國產百噸級KrF光刻膠樹脂產線正式投產

? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道近日，八億時空宣布其KrF光刻膠萬噸級半導體制程高自動化研發(fā)/量產雙產線順利建成，標志著我國在中高端光刻膠領域的自主化進程邁出關鍵一步。 ? 此次建成的KrF光刻膠產線采用

2025-08-10 03:26:00

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國產光刻膠重磅突破：攻克5nm芯片制造關鍵難題

電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道近日，我國半導體材料領域迎來重大突破。北京大學化學與分子工程學院彭海琳教授團隊及合作者通過冷凍電子斷層掃描技術，首次在原位狀態(tài)下解析了光刻膠分子在液相環(huán)境中的微觀三維結構、界面

2025-10-27 09:13:04

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光刻膠

改進；廣泛應用于全球半導體行業(yè)。光刻膠產品型號及參數(shù)[tr=transparent]光刻膠名稱型號勻膠厚度規(guī)格[/tr][tr=transparent]Merck AZ 正/負可轉換型光刻膠AZ

2018-07-12 11:57:08

光刻膠在集成電路制造中的應用

]。光刻膠涂覆在半導體、導體和絕緣體上，經(jīng)曝光顯影后留下的部分對底層起保護作用，然后采用超凈高純試劑進行蝕刻，從而完成了將掩膜版圖形轉移到底層上的圖形轉移過程。一個IC的制造一般需要經(jīng)過10多次圖形轉移

2018-08-23 11:56:31

光刻膠有什么分類？生產流程是什么？

光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經(jīng)過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過顯影后被

2019-11-07 09:00:18

光刻膠殘留要怎么解決？

這是我的版圖一部分，然后生成了圖案是這樣的：感覺間距小的地方全都有殘留，間距大的地方?jīng)]有殘留；工藝參數(shù)：s9920光刻膠， evg 620‘未進行蒸汽底漆層涂覆，前烘：100攝氏度，90s

2016-11-29 14:59:18

半導體材料市場構成分析

半導體材料市場構成：在半導體材料市場構成方面，大硅片占比最大，占比為32.9%。其次為氣體，占比為14.1%，光掩膜排名第三，占比為12.6%，其后：分別為拋光液和拋光墊、光刻膠配套試劑、光刻膠、濕化學品、建設靶材，比分別為7.2%、6.9%、 6.1%、4%和3%。

2021-01-22 10:48:36

半導體制造

在制造半導體器件時，為什么先將導電性能介于導體和絕緣體之間的硅或鍺制成本征半導體，使之導電性極差，然后再用擴散工藝在本征半導體中摻入雜質形成N型半導體或P型半導體改善其導電性？

2012-07-11 20:23:15

半導體制造技術經(jīng)典教程（英文版）

半導體制造技術經(jīng)典教程（英文版）

2014-03-06 16:19:35

半導體制造的難點匯總

采取正確的設備維護行動。半導體制造五大難點——集成眾多子系統(tǒng)的大系統(tǒng)伴隨著芯片的集成度越來越高、半導體制造的先進程度也逐漸提升。半導體產業(yè)包含越來越多的機械、化工、軟件、材料等其它領域，是集成了很多

2020-09-02 18:02:47

Futurrex高端光刻膠

半導體制造領域的標志：NR9-PY 系列負性光刻膠，適用于lift-off工藝；具有高效粘附性，高反應速度并耐高溫性能好。 NR71-PY 系列負性光刻膠，適用于lift-off工藝，耐高溫性能好

2010-04-21 10:57:46

Microchem SU-8光刻膠 2000系列

、芯片封裝和微加工等領域。目前，直接采用 SU- 8 光刻膠來制備深寬比高的微結構與微零件已經(jīng)成為微加工領域的一項新技術。SU 8光刻膠光刻前清洗工藝：為了獲得更好的光刻效果，在進行光刻膠旋涂之前，需要

2018-07-04 14:42:34

《半導體制造工藝》學習筆記

`《半導體制造工藝》學習筆記`

2012-08-20 19:40:32

《炬豐科技-半導體工藝》光刻前 GaAs 表面處理以改善濕化學蝕刻過程中的光刻膠附著力和改善濕蝕刻輪廓

還改變了濕蝕刻輪廓GaAs 與沒有表面處理的晶片相比，反應限制蝕刻更具各向同性；簡介 光刻膠的附著力對濕蝕刻的結果以及隨后的電氣和光學器件的產量起著關鍵作用。有許多因素會影響光刻膠對半導體襯底的粘附

2021-07-06 09:39:22

《炬豐科技-半導體工藝》IC制造工藝

`書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：IC制造工藝編號：JFSJ-21-046作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html摘要：集成電路的制造主要包括以下

2021-07-08 13:13:06

一文帶你了解芯片制造的6個關鍵步驟

。正性光刻膠在半導體制造中使用得最多，因其可以達到更高的分辨率，從而讓它成為光刻階段更好的選擇。現(xiàn)在世界上有不少公司生產用于半導體制造的光刻膠。光刻光刻在芯片制造過程中至關重要，因為它決定了芯片上的晶體管

2022-04-08 15:12:41

想了解半導體制造相關知識

{:1:}想了解半導體制造相關知識

2012-02-12 11:15:05

最全最詳盡的半導體制造技術資料，涵蓋晶圓工藝到后端封測

——薄膜制作(Layer)、圖形光刻(Pattern)、刻蝕和摻雜，再到測試封裝，一目了然。全書共分20章，根據(jù)應用于半導體制造的主要技術分類來安排章節(jié)，包括與半導體制造相關的基礎技術信息；總體流程圖

2025-04-15 13:52:11

負光刻膠顯影殘留原因

151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下

2023-04-20 13:13:52

#半導體制造工藝補充光刻膠靈敏度和調制傳遞函數(shù)

靈敏度制造工藝半導體制造光刻膠集成電路工藝

電子技術那些事兒發(fā)布于 2022-10-15 14:56:40

光刻膠與光刻工藝技術

光刻膠與光刻工藝技術微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質引入到硅襯底上的微小區(qū)域內,然后把這些區(qū)域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉涂覆光刻膠,再將其曝露于某種光源下,如紫外光,

2011-03-09 16:43:21

光刻膠是芯片制造的關鍵材料，圣泉集團實現(xiàn)了

這是一種老式的旋轉涂膠機，將芯片上涂上光刻膠然后將芯片放到上邊，可以通過機器的旋轉的力度將光刻膠均勻分布到芯片表面，光刻膠只有均勻涂抹在芯片表面，才能保證光刻的成功。

2018-05-17 14:39:37

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半導體光刻膠:多家廠商實現(xiàn)國產替代

在國家政策與市場的雙重驅動下，近年來，國內企業(yè)逐步向面板、半導體光刻膠發(fā)力……

2019-04-23 16:15:36

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美系光刻膠是否能解救韓系半導體廠的危機?

近日，日本對韓國進行出口限制，光刻膠材料赫然在列。

2019-07-15 09:28:49

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日本已部分解除對韓國出口光刻膠的限制日韓制裁爭端或緩解

2019年7月初，日韓突然陷入制裁爭端，日本宣布限制對韓出口三種關鍵的半導體材料，分別是電視和手機OLED面板上使用的氟聚酰亞胺（Fluorine Polyimide）、半導體制造中的核心材料光刻膠（Photoresist）和高純度氟化氫（Eatching Gas）。

2019-12-24 10:23:32

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南大光電高黏附性的ArF光刻膠樹脂專利揭秘

在國際半導體領域，我國雖已成為半導體生產大國，但整個半導體產業(yè)鏈仍比較落后。特別是由于國內光刻膠廠布局較晚，半導體光刻膠技術相較于海外先進技術差距較大，國產化不足5%。在這種條件下，國內半導體廠商積極開展研究，如晶瑞股份的KrF光刻膠，南大光電的ArF光刻膠均取得較好的研究效果。

2020-03-06 15:40:56

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LCD光刻膠需求快速增長，政策及國產化風向帶動國產廠商發(fā)展

光刻膠按應用領域分類，大致分為LCD光刻膠、PCB光刻膠（感光油墨）與半導體光刻膠等。按照下游應用來看，目前LCD光刻膠占比26．6%，刻膠占比24．5%，半導體光刻膠占比24．1%，PCB光其他類光刻膠占比24．8%。

2020-06-12 17:13:39

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2020年光刻膠行業(yè)情況解析

全球光刻膠市場規(guī)模從2016 年的15 億美元增長至2019年的18億美元，年復合增長率達6.3%；應用方面，光刻膠主要應用在PCB、半導體及LCD顯示等領域，各占約25%市場份額。

2020-09-21 11:28:04

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斯坦得LDI感光干膜及半導體光刻膠項目總投資15億元

9月16日，安徽馬鞍山當涂縣9月份項目集中簽約、集中開工儀式在姑孰工業(yè)集中區(qū)舉行。本次集中簽約8個項目，其中包括斯坦得LDI感光干膜及半導體光刻膠項目。該項目總投資15億元，分2期建設。其中，一期

2020-09-24 11:12:05

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新材料在線：2020年光刻膠行業(yè)研究報告

全球光刻膠市場規(guī)模從2016 年的15 億美元增長至2019年的18億美元，年復合增長率達6.3%；應用方面，光刻膠主要應用在PCB、半導體及LCD顯示等領域，各占約25%市場份額。國內光刻膠整體

2020-10-10 17:40:25

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博聞廣見之半導體行業(yè)中的光刻膠

、電子束、準分子激光束、X射線、離子束等曝光源的照射或輻射，從而使光刻膠的溶解度發(fā)生變化。按照應用領域分類，光刻膠主要包括印制電路板（PCB）光刻膠專用化學品（光引發(fā)劑和樹脂）、液晶顯示器（LCD）光刻膠光引發(fā)劑、半導

2022-12-06 14:53:54

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半導體光刻膠基礎知識講解

此外，由于光刻加工分辨率直接關系到芯片特征尺寸大小，而光刻膠的性能關系到光刻分辨率的大小。限制光刻分辨率的是光的干涉和衍射效應。光刻分辨率與曝光波長、數(shù)值孔徑和工藝系數(shù)相關。

2020-10-15 15:09:18

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半導體集成電路制造的核心材料：光刻膠

首先，我們都知道要制作一顆芯片可以簡單分為三個步驟：IC芯片設計芯片制造封裝測試。從最早誕生于電路設計師的腦袋中，到將大腦中的線路圖像設計出來，最后送到半導體車間經(jīng)由光刻機反復光刻，中間經(jīng)過數(shù)百道

2020-11-14 09:36:57

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為打破光刻膠壟斷，我國冰刻2.0技術獲突破

光刻膠是微納加工過程中非常關鍵的材料。有專家表示，中國要制造芯片，光有光刻機還不夠，還得打破國外對“光刻膠”的壟斷。

2020-12-08 10:53:56

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光刻膠的價值與介紹及市場格局對國產光刻膠的發(fā)展趨勢

近期，專注于電子材料市場研究的TECHCET發(fā)布最新統(tǒng)計和預測數(shù)據(jù)：2021年，半導體制造所需的光刻膠市場規(guī)模將同比增長11％，達到19億美元。

2021-03-22 10:51:12

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光刻膠國產化的道路上有哪6道坎？

材料是半導體大廈的地基，不過，目前中國的這一地基對國外依存度還很高。 2019年，日韓發(fā)生沖突，日本封鎖了三種關鍵的半導體材料，分別是氟化氫、聚酰亞胺和光刻膠。這三種材料韓國，中國都可以制造，但

2021-05-11 13:46:38

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2021年，半導體制造所需的光刻膠市場規(guī)模將同比增長11％

按照應用領域分類，光刻膠主要包括印制電路板（PCB）光刻膠專用化學品（光引發(fā)劑和樹脂）、液晶顯示器（LCD）光刻膠光引發(fā)劑、半導體光刻膠光引發(fā)劑和其他用途光刻膠四大類。本文主要討論半導體光刻膠。

2021-05-17 14:15:52

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光刻膠又遇“卡脖子”，國產替代刻不容緩

化學之所以停止供貨部分晶圓廠KrF光刻膠，與2月份日本福島東部海域發(fā)生7.3級地震有莫大關聯(lián)。地震導致信越化學KrF光刻膠產線受到很大程度的破壞，至今尚未完全恢復生產。 光刻膠是半導體制造中的關鍵產品，重要性毋庸置疑，現(xiàn)在這么多半導

2021-06-25 16:12:28

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光刻膠板塊的大漲吸引了產業(yè)注意，國產光刻膠再遇發(fā)展良機？

5月27日，半導體光刻膠概念股開盤即走強，截至收盤，A股光刻膠板塊漲幅達6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停，容大感光大漲13.28%，揚帆新材大漲11.37%，南大光電

2021-05-28 10:34:15

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半導體技術新進展，南大光電高端ArF光刻膠獲得突破

在半導體制造方面，國內廠商需要突破的不只是光刻機等核心設備，光刻膠也是重要的一環(huán)。而南大光電研發(fā)的高端ArF光刻機，已經(jīng)獲得了國內某企業(yè)的認證，可用于55nm工藝制造。南大光電發(fā)布公告稱，控股

2021-06-26 16:32:37

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默克推出用于芯片制造的新一代環(huán)保光刻膠去除劑

德國達姆施塔特, 2021年7月 28日 –- 全球領先的科技公司默克日前宣布推出新一代環(huán)保精密清洗溶劑產品 ?--?AZ??910?去除劑。該系列產品用于半導體芯片制造圖形化工藝中清除光刻膠

2021-07-28 14:23:10

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光刻膠和光刻機的關系

光刻膠是光刻機研發(fā)的重要材料，換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕跡，就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。

2022-02-05 16:11:00

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晶片光刻膠處理系統(tǒng)的詳細介紹

摘要在這項工作中，研究了新一代相流體剝離溶液在各種半導體光刻膠中的應用。這些實驗中使用的獨特的水基智能流體配方均為超大規(guī)模集成電路級，與銅兼容且無毒。實驗的第一階段是確定是否在合理的時間內與光刻膠

2022-03-03 14:20:05

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一種半導體制造用光刻膠去除方法

本發(fā)明涉及一種去除光刻膠的方法，更詳細地說，是一種半導體制造用光刻膠去除方法，該方法適合于在半導體裝置的制造過程中進行吹掃以去除光刻膠。在半導體裝置的制造工藝中，將殘留在晶片上的光刻膠，在H2O

2022-04-13 13:56:42

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干法刻蝕去除光刻膠的技術

灰化，簡單的理解就是用氧氣把光刻膠燃燒掉，光刻膠的基本成分是碳氫有機物，在射頻或微波作用下，氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學反應，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通過泵被真空抽走，完成光刻膠的去除。

2022-07-21 11:20:17

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光刻膠為何要謀求國產替代

南大光電最新消息顯示，國產193nm（ArF）光刻膠研發(fā)成功，這家公司成為通過國家“02專項”驗收的ArF光刻膠項目實施主體；徐州博康宣布，該公司已開發(fā)出數(shù)十種高端光刻膠產品系列，包括

2022-08-31 09:47:14

2371

光刻膠的原理和正負光刻膠的主要組分是什么

光刻膠的組成：樹脂（resin/polymer），光刻膠中不同材料的粘合劑，給與光刻膠的機械與化學性質（如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等）；感光劑，感光劑對光能發(fā)生光化學反應；溶劑（Solvent

2022-10-21 16:40:04

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國產光刻膠市場前景國內廠商迎來發(fā)展良機

半導體光刻膠用光敏材料仍屬于“卡脖子”產品，海外進口依賴較重，不同品質之間價格差異大。以國內 PAG 對應的化學放大型光刻膠（主要是 KrF、ArF 光刻膠）來看，樹脂在 光刻膠中的固含量占比約

2022-11-18 10:07:43

4880

半導體光刻膠重要性凸出，國產替代加速推進

光刻膠是IC制造的核心耗材，技術壁壘極高。根據(jù)TECHCET數(shù)據(jù)，預計2022年全球半導體光刻膠市場規(guī)模達到23億美元，同比增長7.5%，2025年超過25億美元。

2023-03-21 14:00:49

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一文講透光刻膠及芯片制造關鍵技術

在集成電路制造領域，如果說光刻機是推動制程技術進步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。

2023-05-13 11:28:38

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化學放大型光刻膠的作用原理

感光速度:即光刻膠受光照射發(fā)生溶解速度改變所需的最小能量，感光速度越快，單位時間內芯片制造的產出越高，經(jīng)濟效益越好，另-方面，過快的感光速度會對引起工藝寬容度的減小，影響工藝制程的穩(wěn)定性。

2023-05-25 09:46:09

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半導體制造工藝之光刻工藝詳解

半導體制造工藝之光刻工藝詳解

2023-08-24 10:38:54

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EUV光刻膠開發(fā)面臨哪些挑戰(zhàn)？

EUV光刻膠材料是光敏物質，當受到EUV光子照射時會發(fā)生化學變化。這些材料在解決半導體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關鍵作用，包括提高靈敏度、控制分辨率、減少線邊緣粗糙度（LER）、降低釋氣和提高熱穩(wěn)定性。

2023-09-11 11:58:42

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具有獨特底部輪廓的剝離光刻膠的開發(fā)

金屬圖案的剝離方法已廣泛應用于各種電子器件的制造過程中，如半導體封裝、MEMS和LED的制造。與傳統(tǒng)的金屬刻蝕方法不同的是，采用剝離法的優(yōu)點是節(jié)省成本和工藝簡化。在剝離過程中，經(jīng)過涂層、曝光和開發(fā)過程后，光刻膠會在晶片上形成圖案。

2023-10-25 10:40:05

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半導體關鍵材料光刻膠市場格局發(fā)展現(xiàn)狀

生產光刻膠的原料包括光引發(fā)劑（光增感劑、光致產酸劑幫助其更好發(fā)揮作用）、樹脂、溶劑和其他添加劑等，我國由于資金和技術的差距，如感光劑、樹脂等被外企壟斷，所以光刻膠自給能力不足。

2023-11-01 15:51:48

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光刻膠黏度如何測量？光刻膠需要稀釋嗎？

光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？

2023-11-13 18:14:11

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不僅需要*，更需要光刻膠**

為了生產高純度、高質量的光刻膠，需要高純度的配方原料，例如光刻樹脂，溶劑PGMEA…此外，生產過程中的反應釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測也是至關重要的控制環(huán)節(jié)。例如，2019年，某家半導體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染，導致上萬片12吋晶圓報廢

2023-11-27 17:15:48

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萬潤股份在半導體制造材料領域穩(wěn)步推進，涉足光刻膠單體、PI等業(yè)務

近期，萬潤股份在接受機構調研時透露，其“年產65噸半導體用光刻膠樹脂系列”項目已經(jīng)順利投入運營。該項目旨在為客戶提供專業(yè)的半導體用光刻膠樹脂類材料。

2023-12-12 14:02:58

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光刻膠價格上漲，韓國半導體公司壓力增大

光刻膠類別的多樣化，此次漲價案所涉KrF光刻膠屬于高階防護用品，也是未來各地廠家的競爭焦點。當前市場中，光刻膠主要由東京大賀工業(yè)、杜邦、JSR、信越化學、住友化學及東進半導體等大型制造商掌控。

2023-12-14 15:20:36

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勻膠速度影響光刻膠的哪些性質？

勻膠是光刻中比較重要的一步，而旋涂速度是勻膠中至關重要的參數(shù)，那么我們在勻膠時，是如何確定勻膠速度呢？它影響光刻膠的哪些性質？

2023-12-15 09:35:56

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光刻膠分類與市場結構

光刻膠主要下游應用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產、半導體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應用，占比30%。光刻膠在半導體制造應用占比24%，是第三達應用場景。

2024-01-03 18:12:21

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2023年中國光刻膠行業(yè)市場前景及投資研究報告

光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，是半導體制造中使用的核心電子材料之一。伴隨著晶圓制造規(guī)模持續(xù)提升，中國有望承接半導體

2024-01-19 08:31:24

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瑞紅集成電路高端光刻膠總部落戶吳中

據(jù)吳中發(fā)布的最新消息，簽約項目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項目，該項投資高達15億元，旨在新建半導體光刻膠及其配套試劑的生產基地。

2024-01-26 09:18:43

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光刻膠和光刻機的區(qū)別

光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。

2024-03-04 17:19:18

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關于光刻膠的關鍵參數(shù)介紹

與正光刻膠相比，電子束負光刻膠會形成相反的圖案。基于聚合物的負型光刻膠會在聚合物鏈之間產生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解，而曝光的光刻膠則保留下來，從而形成負像。

2024-03-20 11:36:50

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一文讀懂半導體工藝制程的光刻膠

光刻膠按照種類可以分為正性的、負性的。正膠受到紫外光照射的部分在顯影時被去除，負膠受到紫外光曝光的地方在顯影后被留下。

2024-04-24 11:37:05

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光刻膠的保存和老化失效

我們在使用光刻膠的時候往往關注的重點是光刻膠的性能，但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題，其實這個問題應該在我們購買光刻膠前就應該提出并規(guī)劃好。并且，在光刻過程中如果發(fā)現(xiàn)有異常情況發(fā)生，我們

2024-07-08 14:57:08

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光刻膠的圖形反轉工藝

圖形反轉膠是比較常見的一種紫外光刻膠，它既可以當正膠使用又可以作為負膠使用。相比而言，負膠工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負膠工藝。應用領域在反轉工藝下，通過適當?shù)墓に噮?shù)，可以獲得底切的側壁

2024-07-09 16:06:00

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光刻膠后烘技術

一般光刻過程文章中簡單介紹過后烘工藝但是比較簡單，本文就以下一些應用場景下介紹后烘的過程和作用。化學放大正膠機理當使用“正常”正膠時，曝光完成后光反應也就完成了，但是化學放大的光刻膠需要隨后的烘烤步驟。光反應在曝光期間開始并在后烘環(huán)節(jié)中完

2024-07-09 16:08:43

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光刻膠的一般特性介紹

評價一款光刻膠是否適合某種應用需要綜合看這款光刻膠的特定性能，這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度靈敏度（sensitivity）是衡量曝光速度的指標。光刻膠的靈敏度越高，所需的曝光劑量

2024-07-10 13:43:49

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光刻膠的硬烘烤技術

根據(jù)光刻膠的應用工藝，我們可以采用適當?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結構進行處理以提高其化學或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現(xiàn)整個光刻膠結構的熱交聯(lián)，稱為硬烘烤或者堅膜。或通過低劑量紫外線輻照

2024-07-10 13:46:59

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導致光刻膠變色的原因有哪些？

存儲時間正膠和圖形反轉膠在存儲數(shù)月后會變暗，而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料，在可見光譜的部分具有很強的吸收能力，對紫外靈敏度沒有任何影響。這種變色過程

2024-07-11 16:07:49

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如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠？

控SU-8光刻膠烘烤：軟烘、后曝光烘烤和硬烘在整個SU-8模具制備的過程中，微流控SU-8光刻膠需要烘烤2或3次，每一次烘烤都有不同的作用。第一次光刻膠烘烤叫做軟烘，是SU-8光刻膠旋涂之后需要完成的操作。目標是蒸發(fā)溶劑，使SU-8光刻膠更加堅固。溶劑蒸發(fā)會稍微的改變光

2024-08-27 15:54:01

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掩膜版與光刻膠的功能和作用

掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色，它們的功能和作用各有側重，但共同促進了芯片的精確制造。? 掩膜版?，也稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版，是微電子制造過程中的圖形轉移母版。它的主要功能

2024-09-06 14:09:47

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一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

共讀好書關于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章：收藏！常用光刻膠型號資料大全，幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球，領取公眾號資料

2024-11-01 11:08:07

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國產光刻膠通過半導體工藝量產驗證

來源：太紫微公司近日，光谷企業(yè)在半導體專用光刻膠領域實現(xiàn)重大突破：武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡稱“太紫微公司”）推出的T150 A光刻膠產品，已通過半導體工藝量產驗證，實現(xiàn)配方全自主

2024-10-17 13:22:44

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光刻膠的使用過程與原理

本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。

2024-10-31 15:59:45

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一文解讀光刻膠的原理、應用及市場前景展望

光刻技術是現(xiàn)代微電子和納米技術的研發(fā)中的關鍵一環(huán)，而光刻膠，又是光刻技術中的關鍵組成部分。隨著技術的發(fā)展，對微小、精密的結構的需求日益增強，光刻膠的需求也水漲船高，在微電子制造和納米技術等高精尖領域占據(jù)著至關重要的位置。

2024-11-11 10:08:21

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三星減少NAND生產光刻膠使用量

的使用量降低至目前的一半。這一技術革新不僅將顯著降低生產成本，還將有助于提升生產效率，為三星在全球NAND閃存市場的競爭中增添更多優(yōu)勢。 光刻膠是半導體制造過程中不可或缺的關鍵材料之一，其質量和性能直接影響到芯片的生產質量和良

2024-11-27 11:00:24

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光刻膠成為半導體產業(yè)的關鍵材料

光刻膠是半導體制造等領域的一種重要材料，在整個電子元器件加工產業(yè)有著舉足輕重的地位。它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中，感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關鍵性能，增感劑有助于提高

2024-12-19 13:57:36

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晶圓表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝的研究

隨著半導體器件的應用范圍越來越廣，晶圓制造技術也得到了快速發(fā)展。其中，光刻技術在晶圓制造過程中的地位尤為重要。光刻膠是光刻工藝中必不可少的材料，其質量直接影響到晶圓生產的效率和質量。本文將圍繞著晶圓

2025-01-03 16:22:06

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半導體材料介紹 | 光刻膠及生產工藝重點企業(yè)

體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時，若采用適當?shù)挠羞x擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類

2025-03-18 13:59:53

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光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

引言在半導體制造與微納加工領域，光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料，其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質量。同時，精準測量光刻圖形對把控工藝質量意義重大，白光干涉儀為此提供了有力的技術保障

2025-05-29 09:38:53

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減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

? ? 引言 ? 在半導體制造領域，光刻膠剝離工藝是關鍵環(huán)節(jié)，但其可能對器件性能產生負面影響。同時，光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質量至關重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法，并介紹白光

2025-06-14 09:42:56

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金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應用及白光干涉儀在光刻圖形的測量

引言在半導體制造與微納加工領域，光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對金屬層產生過度刻蝕，影響器件性能。同時，光刻圖形的精確測量也是確保制造質量的關鍵。本文聚焦金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應用，并

2025-06-16 09:31:51

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低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

引言在半導體制造過程中，光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮（NMF）雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色，但因其高含量使用帶來的成本、環(huán)保等問題備受關注。同時，光刻圖形的精準

2025-06-17 10:01:01

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金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物應用及白光干涉儀在光刻圖形的測量

引言在半導體及微納制造領域，光刻膠剝離工藝對金屬結構的保護至關重要。傳統(tǒng)剝離液易造成金屬過度蝕刻，影響器件性能。同時，光刻圖形的精確測量是保障工藝質量的關鍵。本文將介紹金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合

2025-06-24 10:58:22

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行業(yè)案例|膜厚儀應用測量之光刻膠厚度測量

光刻膠，又稱光致抗蝕劑，是一種關鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下，溶解度會發(fā)生變化，主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業(yè)。由于

2025-07-11 15:53:24

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從光固化到半導體材料：久日新材的光刻膠國產替代之路

當您尋找可靠的國產半導體材料供應商時，一家在光刻膠領域實現(xiàn)全產業(yè)鏈突破的企業(yè)正脫穎而出——久日新材（688199.SH）。這家光引發(fā)劑巨頭，正以令人矚目的速度在半導體核心材料國產化浪潮中嶄露頭角

2025-08-12 16:45:38

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光刻膠旋涂的重要性及厚度監(jiān)測方法

在芯片制造領域的光刻工藝中，光刻膠旋涂是不可或缺的基石環(huán)節(jié)，而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優(yōu)可測薄膜厚度測量儀AF系列憑借高精度、高速度的特點，為光刻膠厚度監(jiān)測提供了可靠解決方案。

2025-08-22 17:52:46

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光刻膠剝離工藝

光刻膠剝離工藝是半導體制造和微納加工中的關鍵步驟，其核心目標是高效、精準地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結構。以下是該工藝的主要類型及實施要點：濕法剝離技術有機溶劑溶解法原理：使用丙酮、NMP

2025-09-17 11:01:27

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半導體制造領域光刻膠的作用和意義

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