近日，上海新陽發(fā)布公告稱，公司自主研發(fā)的KrF（248nm）厚膜光刻膠產(chǎn)品已經(jīng)通過客戶認(rèn)證，并成功取得第一筆訂單，取得不錯(cuò)進(jìn)展。

光刻膠用于半導(dǎo)體光刻工藝環(huán)節(jié)，是決定制造質(zhì)量的重要因素，根據(jù)曝光波長不同，可分為g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm），ArF（193nm）以及EUV光刻膠，其中KrF、ArF和EUV光刻膠被認(rèn)為是高端光刻膠，目前國內(nèi)幾乎空白。

日本壟斷全球光刻膠大部分市場份額，全球排名前四的光刻膠廠商都來自日本，包括合成橡膠、信越化學(xué)、東京應(yīng)化、住友化學(xué)，大概占據(jù)全球市場份額的70%，在EUV、ArF、KrF市場的占比更大，依次是99.9%、93%、80%。

對(duì)外高度依賴具有卡脖子風(fēng)險(xiǎn)，韓國對(duì)日本光刻膠的依賴也很高，2019年日本通過對(duì)韓國實(shí)施貿(mào)易禁運(yùn)，包括光刻膠在內(nèi)的電子材料，韓國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)受到嚴(yán)重打擊，今年6月中旬也有消息稱，受疫情和地震影響，日本越信化學(xué)光刻膠制造能力受限制，該公司表示不打算再向中國出售KrF光刻膠。

可以看到，如果在高端光刻膠方面沒有一定的自主供應(yīng)能力，當(dāng)國外廠商因?yàn)槿魏卧蜻x擇停止供應(yīng)的時(shí)候，國內(nèi)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展無疑會(huì)受到影響。

KrF，ArF光刻膠最新進(jìn)展

目前國內(nèi)在半導(dǎo)體用KrF（248nm），ArF（193nm）光刻膠領(lǐng)域積極投入研發(fā)量產(chǎn)的企業(yè)主要有上海新陽、南大光電和晶瑞股份。

上海新陽在公司2020年年度報(bào)告中透露，公司半導(dǎo)體用高端光刻膠產(chǎn)品正在開發(fā)中，包括邏輯和模擬芯片制造用的I線光刻膠、KrF光刻膠、ArF干法光刻膠，存儲(chǔ)芯片制造用的KrF厚膜光刻膠。

同時(shí)公司采購的用于I線光刻膠研發(fā)的Nikon-i14型光刻機(jī)，用于KrF光刻膠研發(fā)的Nikon-205C型光刻機(jī)，用于ArF干法光刻膠研發(fā)的ASML-1400型光刻機(jī)，用于ArF浸沒式光刻膠研發(fā)的ASML XT 1900 Gi型光刻機(jī)已全部到廠。

2020年11月上海新陽曾發(fā)布定增公告，擬募集資金不超過14.5億元，用于半導(dǎo)體制造用ArF干法工藝使用的光刻膠和面向3D NAND臺(tái)階刻蝕的KrF厚膜光刻膠產(chǎn)品及配套試劑。

該公司表示，項(xiàng)目預(yù)計(jì)KrF厚膜光刻膠2021年實(shí)現(xiàn)少量銷售，2022年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，ArF（干式）光刻膠2022實(shí)現(xiàn)少量銷售，2023年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。此次上海新陽KrF厚膜光刻膠取得第一筆訂單，可以看到公司的項(xiàng)目正在穩(wěn)步推進(jìn)，預(yù)計(jì)明年會(huì)按規(guī)劃實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

南大光電的重點(diǎn)集中在ArF光刻膠產(chǎn)品上，并且取得不錯(cuò)進(jìn)展，今年6月1日南大光電發(fā)布公告稱，子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品在邏輯芯片制造企業(yè)55nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品上取得認(rèn)證突破。

去年12月其ArF光刻膠產(chǎn)品也曾在一家存儲(chǔ)芯片制造企業(yè)的50nm閃存平臺(tái)上通過認(rèn)證。南大光電表示，公司與認(rèn)證通過客戶還在就ArF 光刻膠產(chǎn)品的銷售和服務(wù)在協(xié)商中。

晶瑞股份在g線光刻膠產(chǎn)品上規(guī)模供應(yīng)數(shù)十年，i線光刻膠近年也向中芯國際、合肥長鑫、士蘭微、揚(yáng)杰科技等企業(yè)供應(yīng)。晶瑞股份6月22日對(duì)外表示，公司的KrF光刻膠完成中試建成了中試示范線，目前已進(jìn)入客戶測試階段，達(dá)到0.15μm的分辨率，測試通過后即可進(jìn)入量產(chǎn)階段。

晶瑞股份ArF高端光刻膠研發(fā)工作已正式啟動(dòng)，今年年初曾購入一臺(tái)ASML光刻機(jī)，為ASML XT 1900 Gi 型ArF浸入式光刻機(jī)，可用于研發(fā)最高分辨率達(dá)28nm的高端光刻膠，該設(shè)備于2021年1月 19日運(yùn)抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實(shí)驗(yàn)室。

小結(jié)

中國市場是全球最大的光刻膠市場，根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)顯示，2019年半導(dǎo)體光刻膠銷售額為17.7億美元，中國市場規(guī)模占比達(dá)到32%，美洲、亞太（除中國和日本）、歐洲、日本占比依次為21%、20%、9%、9%。

根據(jù)美國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)數(shù)據(jù)，其中ArF干式和浸沒式光刻膠市場份額占比42%，KrF光刻膠占比22%，g線/i線占比24%。可見ArF、KrF光刻膠有很大的市場，尤其當(dāng)前國家大力支持發(fā)展半導(dǎo)體，對(duì)半導(dǎo)體材料的支持力度也很大，未來有很大的增長空間。

可見上海新陽、南大光電、晶瑞股份等廠商在ArF、KrF光刻膠上積極發(fā)力，不僅有助于填補(bǔ)我國在高端光刻膠領(lǐng)域的空白，打破國外巨頭的壟斷，同時(shí)對(duì)于這幾家廠商來說，作為國內(nèi)的先入局者，未來能夠把握的市場機(jī)會(huì)也會(huì)更大。