全球光刻膠市場規(guī)模從2016 年的15 億美元增長至2019年的18億美元,年復合增長率達6.3%;應用方面,光刻膠主要應用在PCB、半導體及LCD顯示等領域,各占約25%市場份額。
國內(nèi)光刻膠整體技術水平與國際先進水平仍存在較大差距,自給率僅10%,主要集中于技術含量相對較低的PCB領域,6英寸硅片的g/i線光刻膠的自給率約為20%,8英寸硅片的KrF光刻膠的自給率不足5%,12寸硅片的ArF光刻膠目前尚沒有國內(nèi)企業(yè)可以大規(guī)模生產(chǎn)。
基于此,新材料在線特推出【2020年光刻膠行業(yè)研究報告】,供業(yè)內(nèi)人士參考:














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