国产精品久久久aaaa,日日干夜夜操天天插,亚洲乱熟女香蕉一区二区三区少妇,99精品国产高清一区二区三区,国产成人精品一区二区色戒,久久久国产精品成人免费,亚洲精品毛片久久久久,99久久婷婷国产综合精品电影,国产一区二区三区任你鲁

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

萬潤股份在半導(dǎo)體制造材料領(lǐng)域穩(wěn)步推進(jìn),涉足光刻膠單體、PI等業(yè)務(wù)

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-12-12 14:02 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

12月12日,萬潤股份在互動(dòng)平臺上透露,公司旗下光刻膠單體、PI漿料及半導(dǎo)體清洗劑添加劑等產(chǎn)品已實(shí)現(xiàn)大批量供應(yīng)且仍處在不斷擴(kuò)張階段。

近期,萬潤股份在接受機(jī)構(gòu)調(diào)研時(shí)透露,其“年產(chǎn)65噸半導(dǎo)體用光刻膠樹脂系列”項(xiàng)目已經(jīng)順利投入運(yùn)營。該項(xiàng)目旨在為客戶提供專業(yè)的半導(dǎo)體用光刻膠樹脂類材料。此外,公司進(jìn)一步強(qiáng)調(diào)了半導(dǎo)體材料業(yè)務(wù)的強(qiáng)大實(shí)力,擬定以全球化視野立足于全球半導(dǎo)體制造材料市場,為客戶提供更加全面的產(chǎn)品和技術(shù)服務(wù)。在當(dāng)前階段,公司的主要產(chǎn)品包括光刻膠單體、光刻膠樹脂、光刻膠引發(fā)劑、半導(dǎo)體制程中的清洗劑添加劑等,并且正在全力拓展下游市場,全力支持國內(nèi)外半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

值得注意的是,萬潤股份全資子公司三月科技自主研發(fā)的OLED顯示用光敏聚酰亞胺(PSPI)成品材料已成功實(shí)現(xiàn)下游面板廠商的銷售,同時(shí),TFT用聚酰亞胺成品材料亦得到了新的客戶認(rèn)可,一旦實(shí)現(xiàn)銷售,將會顯著提升三月科技全年業(yè)績。接下來,三月科技還將著力推動(dòng)顯示用PI漿料在下游更多面板生產(chǎn)線上的應(yīng)用及驗(yàn)證,力圖在行業(yè)內(nèi)取得領(lǐng)先地位。

現(xiàn)階段,公司PI漿料銷售表現(xiàn)良好,同時(shí)熱塑性聚酰亞胺材料等在光纖連接器、航空航天復(fù)合材料等應(yīng)用領(lǐng)域中試用品的供應(yīng)也在穩(wěn)步進(jìn)行。位于山東蓬萊的新產(chǎn)能基地建設(shè)也在緊鑼密鼓地啟動(dòng)中。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    339

    文章

    30737

    瀏覽量

    264106
  • OLED
    +關(guān)注

    關(guān)注

    121

    文章

    6358

    瀏覽量

    233641
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    354

    瀏覽量

    31779
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    國產(chǎn)光刻膠開啟“鉗形攻勢”

    。作為半導(dǎo)體制造中最關(guān)鍵的材料之一,其性能更是直接決定了芯片的線寬、集成度和良率。 ? 《國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金三期規(guī)劃》明確將光刻膠半導(dǎo)體
    的頭像 發(fā)表于 01-13 09:06 ?2354次閱讀

    比肩進(jìn)口!我國突破光刻膠“卡脖子”技術(shù)

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 芯片制造領(lǐng)域光刻膠用光引發(fā)劑長期被美日韓企業(yè)壟斷,成為制約我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵“卡脖子”技術(shù)。近日,這一局面被
    的頭像 發(fā)表于 12-17 09:16 ?6453次閱讀

    半導(dǎo)體芯片制造核心材料光刻膠(Photoresist)”的詳解

    芯片制造這場微觀世界的雕刻盛宴中,光刻膠(PR)如同一位技藝精湛的工匠手中的隱形畫筆,硅片這片“晶圓畫布”上勾勒出億萬個(gè)晶體管組成的復(fù)雜電路。然而,這支“畫筆”卻成了中國芯片產(chǎn)業(yè)最
    的頭像 發(fā)表于 11-29 09:31 ?5771次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>芯片<b class='flag-5'>制造</b>核心<b class='flag-5'>材料</b>“<b class='flag-5'>光刻膠</b>(Photoresist)”的詳解

    光刻膠剝離工藝

    光刻膠剝離工藝是半導(dǎo)體制造和微納加工中的關(guān)鍵步驟,其核心目標(biāo)是高效、精準(zhǔn)地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結(jié)構(gòu)。以下是該工藝的主要類型及實(shí)施要點(diǎn):濕法剝離技術(shù)有機(jī)溶劑溶解法原理:使
    的頭像 發(fā)表于 09-17 11:01 ?1912次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝

    從光固化到半導(dǎo)體材料:久日新材的光刻膠國產(chǎn)替代之路

    當(dāng)您尋找可靠的國產(chǎn)半導(dǎo)體材料供應(yīng)商時(shí),一家光刻膠領(lǐng)域實(shí)現(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈突破的企業(yè)正脫穎而出——久日新材(688199.SH)。這家光引發(fā)劑巨頭,
    的頭像 發(fā)表于 08-12 16:45 ?2024次閱讀

    國產(chǎn)百噸級KrF光刻膠樹脂產(chǎn)線正式投產(chǎn)

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 近日,八億時(shí)空宣布其KrF光刻膠噸級半導(dǎo)體制程高自動(dòng)化研發(fā)/量產(chǎn)雙產(chǎn)線順利建成,標(biāo)志著我國中高端光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 08-10 03:26 ?9705次閱讀

    國產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動(dòng)

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材,尤其高端材料長期被日美巨頭壟斷,國外企業(yè)對原料和配方高度保密,我國九成以上光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?6857次閱讀

    低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀光刻圖形的測量

    引言 半導(dǎo)體制造過程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖
    的頭像 發(fā)表于 06-17 10:01 ?823次閱讀
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液和制備方法及白光干涉儀<b class='flag-5'>在</b><b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀光刻圖形的測量

    引言 半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對金屬層產(chǎn)生過度刻蝕,影響器件性能。同時(shí),光刻圖形的精確測量也是確保
    的頭像 發(fā)表于 06-16 09:31 ?771次閱讀
    金屬低刻蝕的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀<b class='flag-5'>在</b><b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀光刻圖形的測量

    ? ? 引言 ? 半導(dǎo)體制造領(lǐng)域光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí),光刻圖形的精確測量對于保證芯片
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?891次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀<b class='flag-5'>在</b><b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀光刻圖形的測量

    引言 半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?1347次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀<b class='flag-5'>在</b><b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?9469次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測

    ——薄膜制作(Layer)、圖形光刻(Pattern)、刻蝕和摻雜,再到測試封裝,一目了然。 全書共分20章,根據(jù)應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的主要技術(shù)分類來安排章節(jié),包括與半導(dǎo)體制造相關(guān)的基礎(chǔ)技術(shù)信息;總體流程圖
    發(fā)表于 04-15 13:52

    【「芯片通識課:一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗(yàn)】芯片怎樣制造

    光刻工藝、刻蝕工藝 芯片制造過程中,光刻工藝和刻蝕工藝用于某個(gè)半導(dǎo)體
    發(fā)表于 04-02 15:59

    半導(dǎo)體材料介紹 | 光刻膠及生產(chǎn)工藝重點(diǎn)企業(yè)

    體。光刻工藝過程中,用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料表面加工時(shí),若采用適當(dāng)?shù)挠羞x擇性的
    的頭像 發(fā)表于 03-18 13:59 ?4058次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b><b class='flag-5'>材料</b>介紹 | <b class='flag-5'>光刻膠</b>及生產(chǎn)工藝重點(diǎn)企業(yè)