国产精品久久久aaaa,日日干夜夜操天天插,亚洲乱熟女香蕉一区二区三区少妇,99精品国产高清一区二区三区,国产成人精品一区二区色戒,久久久国产精品成人免费,亚洲精品毛片久久久久,99久久婷婷国产综合精品电影,国产一区二区三区任你鲁

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

默克推出用于芯片制造的新一代環保光刻膠去除劑

話說科技 ? 2021-07-28 14:23 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

德國達姆施塔特, 2021年7月 28日 –- 全球領先的科技公司默克日前宣布推出新一代環保精密清洗溶劑產品 --AZ?910去除劑。該系列產品用于半導體芯片制造圖形化工藝中清除光刻膠。

光刻膠去除是半導體芯片制造圖形化環節中的關鍵技術,而光刻膠去除劑則是決定圖形化最終良率及可靠性的關鍵材料之一。默克此次推出的“AZ?910去除劑”基于不含有NMP(N-甲基吡咯烷酮)的新型特制化學配方,不僅可以快速溶解殘留光刻膠,同時具備超高的經濟性、出色的環保性和廣泛的適用性。

該創新產品可直接溶解負性和正性光刻膠,而并非像傳統NMP清洗劑那樣只能將其從晶圓表面剝離。清洗工藝能因此能縮短近一半時間,同時延長相關材料和過濾設備的使用壽命,從而幫助芯片廠商降低總體成本。

pYYBAGEA98-AWZ2UAACSG4eYHCM977.jpg

默克半導體材料事業部全球負責人Anand Nambiar表示:“這是一種同時具備了環保性和經濟性的創新解決方案,將更好地滿足下一代半導體制造工藝中精密清洗需求。這款AZ?910去除劑能夠以不到三倍的溶劑用量清除光刻膠,在為晶圓廠節省成本的同時也減少了廢料對環境的影響?!?/p>

高純度去除劑在芯片制造過程正發揮著十分重要的作用。每當各種材料被轉移到硅片上后,都需要將硅片表面不需要的殘留物精密清除。隨著芯片制造工藝不斷微型化,整個行業對更高性能且綠色環保去除劑的需求也在與日俱增。默克是全球半導體去除劑市場的重要成員之一,其研發的溶劑產品涵蓋了半導體光刻工藝的所有步驟。此外,憑借在電子材料領域100多年的專業經驗,默克目前為中國大陸100多家芯片制造企業供應著超過150余種材料產品,覆蓋其晶圓加工的每一個環節。

關于默克

默克是一家領先的科技公司,專注于醫藥健康、生命科學和電子科技三大領域。全球有57,000多名員工服務于默克,通過創造更加愉悅和可持續性的生活方式,為數百萬人的生活帶來積極的影響。從先進的基因編輯技術和發現治療最具挑戰性疾病的獨特方法,到實現設備的智能化——默克無處不在。2020年,默克在66多個國家的總銷售額達175億歐元。

科學探索和負責任的企業精神一直是默克科技進步的關鍵,也是默克自1668年以來永葆活力的秘訣。默克家族作為公司的創始者至今仍持有默克大部分的股份,我們在全球都叫“默克”,僅美國和加拿大例外。默克的三大領域:醫藥健康、生命科學及電子科技在這兩個國家分別稱之為“EMD Serono”、“MilliporeSigma”和“EMD Electronics”。默克在中國已經有80多年發展歷史,目前有超過4,200名員工,并在北京、上海、香港、無錫、蘇州和南通擁有20多個注冊公司。

fqj

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 芯片
    +關注

    關注

    463

    文章

    54007

    瀏覽量

    465896
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    中國打造自己的EUV光刻膠標準!

    電子發燒友網報道(文/黃山明)芯片,直被譽為 人類智慧、工程協作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設備
    的頭像 發表于 10-28 08:53 ?6634次閱讀

    光刻膠涂層如何實現納米級均勻性?橢偏儀的工藝控制與缺陷分析

    光刻膠(亦稱光致抗蝕)是集成電路制造中的關鍵材料,其純度直接決定光刻圖形的質量與芯片良率。隨著光刻
    的頭像 發表于 02-09 18:01 ?340次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>涂層如何實現納米級均勻性?橢偏儀的工藝控制與缺陷分析

    光刻膠剝離工藝

    光刻膠剝離工藝是半導體制造和微納加工中的關鍵步驟,其核心目標是高效、精準地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結構。以下是該工藝的主要類型及實施要點:濕法剝離技術有機溶劑溶解法原理:使
    的頭像 發表于 09-17 11:01 ?1890次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝

    光刻膠旋涂的重要性及厚度監測方法

    芯片制造領域的光刻工藝中,光刻膠旋涂是不可或缺的基石環節,而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優可測薄膜厚度測量儀AF系列憑借高精
    的頭像 發表于 08-22 17:52 ?1772次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>旋涂的重要性及厚度監測方法

    國產光刻膠突圍,日企壟斷終松動

    ? 電子發燒友網綜合報道 光刻膠作為芯片制造光刻環節的核心耗材,尤其高端材料長期被日美巨頭壟斷,國外企業對原料和配方高度保密,我國九成以上光刻膠
    的頭像 發表于 07-13 07:22 ?6846次閱讀

    行業案例|膜厚儀應用測量之光刻膠厚度測量

    光刻膠,又稱光致抗蝕,是種關鍵的耐蝕刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下,溶解度會發生變化,主要應用于顯示
    的頭像 發表于 07-11 15:53 ?564次閱讀
    行業案例|膜厚儀應用測量之<b class='flag-5'>光刻膠</b>厚度測量

    針對晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關鍵環節,其效果直接影響芯片性能與良率。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段
    的頭像 發表于 06-25 10:19 ?1021次閱讀
    針對晶圓上<b class='flag-5'>芯片</b>工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關鍵環節。銅布線在制程中廣泛應用,但傳統光刻膠剝離液易對銅產生腐蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精準測量對確保 ARRAY
    的頭像 發表于 06-18 09:56 ?864次閱讀
    <b class='flag-5'>用于</b> ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造過程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現出色,但因其高含量使用帶來的成本、環保等問題備受關注。同時,
    的頭像 發表于 06-17 10:01 ?817次閱讀
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液和制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    ? ? 引言 ? 在半導體制造領域,光刻膠剝離工藝是關鍵環節,但其可能對器件性能產生負面影響。同時,光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質量至
    的頭像 發表于 06-14 09:42 ?886次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠產業國內發展現狀

    如果說最終制造出來的芯片道美食,那么光刻膠就是最初的重要原材料之,而且是那種看起來可能不起眼,但卻能決定
    的頭像 發表于 06-04 13:22 ?1532次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造與微納加工領域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環節的核心材料,其性能優劣直接影響光刻膠去除效果與基片質量。同時,精準測量
    的頭像 發表于 05-29 09:38 ?1341次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕,是芯片制造光刻工藝的核心材料
    的頭像 發表于 04-29 13:59 ?9438次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    【「芯片通識課:本書讀懂芯片技術」閱讀體驗】芯片怎樣制造

    。 光刻工藝、刻蝕工藝 在芯片制造過程中,光刻工藝和刻蝕工藝用于在某個半導體材料或介質材料層上,按照光掩膜版上的圖形,“刻制”出材料層的圖形
    發表于 04-02 15:59

    【「芯片通識課:本書讀懂芯片技術」閱讀體驗】了解芯片怎樣制造

    ,三合工藝平臺,CMOS圖像傳感器工藝平臺,微電機系統工藝平臺。 光掩模版:基板,不透光材料 光刻膠:感光樹脂,增感,溶劑。 正性和負性。 光刻工藝: 涂
    發表于 03-27 16:38