電子發燒友網報道（文/黃山明）芯片，一直被譽為 人類智慧、工程協作與精密制造的集大成者 ，而制造芯片的重要設備光刻機就是 雕刻這個結晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機還不夠，還需要光刻膠、掩膜版以及
2025-10-28 08:53:35
6234 了全球 EUV 光刻設備市場，成為各國晶圓廠邁向 7nm、5nm 乃至更先進制程繞不開的 “守門人”。然而，近日俄羅斯科學院微結構物理研究所公布的一份國產 EUV 光刻設備長期路線圖，引發了業界的廣泛關注與討論 —— 俄羅斯，正在試圖挑戰 ASML 的霸權。 ?
2025-10-04 03:18:009690 
7月16日，全球三大光刻巨頭之一的日本尼康公司宣布，正式推出全球首款專為半導體后道工藝設計的無掩模光刻系統——DSP-100，這款設備為先進封裝量身定制，可以容納600mm大基板，并提供1.0μm
2025-07-24 09:29:397818 
新的方向。 ? SK 海力士 ? SK海力士在CES展上展示了公司在推動人工智能時代進步方面所推出的變革性存儲器產品。包括SK海力士的HBM、服務器DRAM、eSSD、CXL及PIM產品。 ? 作為領先的HBM供應商，SK海力士公開了16層HBM3E樣品。這是全球容量最大的HBM產品，48GB 1
2025-01-13 09:11:133033 
M24SR16 - Y：多功能動態NFC/RFID標簽IC的全面解析 在電子設備互聯互通的今天，NFC/RFID技術的應用愈發廣泛。M24SR16 - Y作為一款動態NFC/RFID標簽IC，憑借其
2026-01-05 16:50:0526 KSZ8841-16M/-32M：單端口以太網MAC控制器的卓越之選 在當今數字化飛速發展的時代，以太網技術在各類電子設備中扮演著至關重要的角色。KSZ8841-16M/-32M這一單端口以太網
2025-12-29 15:15:0888 英偉達、SK海力士與群聯電子共同開發AI固態硬盤 ? 日前，據報道，英偉達與韓國SK海力士共同開發新型人工智能固態硬盤，群聯電子也參與開發。這款AI專用固態硬盤的效能預計將達到當前AI服務器所用
2025-12-24 10:39:13942 缺貨先說說為什么會出現這種局面。三星和SK海力士從2024年底就開始減產NAND閃存,幅度還不小。SK海力士2025年NAND晶圓出貨量從2024年的201萬顆降
2025-12-16 14:34:16435 
Amphenol signalmate? C091 M16 Q Quicklock連接器：戶外應用的理想之選 在電子設備的設計中，連接器的選擇至關重要。一個合適的連接器不僅能夠保證設備的穩定運行
2025-12-12 14:35:07274 ? 在電子設備不斷發展的今天，NFC/RFID技術在眾多領域得到了廣泛應用。M24SR16 - Y作為一款動態NFC/RFID標簽IC，具有獨特的特性和廣泛的應用前景。本文將對M24SR16 - Y
2025-11-30 17:43:531140 
電子發燒友網綜合報道，據韓媒報道，存儲行業巨頭SK海力士正全力攻克一項全新的性能瓶頸技術高帶寬存儲HBS。 ? SK海力士研發的這項HBS技術采用了創新的芯片堆疊方案。根據規劃，該技術將通過一種名為
2025-11-14 09:11:212446 
電子發燒友網綜合報道，近日，韓國首爾舉行的“SK AI Summit 2025”峰會上，SK海力士CEO郭魯正（Kwak Noh-Jung）正式宣布了公司向 “全線AI存儲創造者”（Full
2025-11-08 10:49:083183 EUV（極紫外）光刻技術憑借 13.5nm 的短波長，成為 7nm 及以下節點集成電路制造的核心工藝，其光刻后形成的三維圖形（如鰭片、柵極、接觸孔等）尺寸通常在 5-50nm 范圍，高度 50-500nm。
2025-09-20 09:16:09592 method”為題發表在Optics Express上。 全息光刻相比于主流的投影式光刻，不需要復雜的投影物鏡系統，設備成本更低，比傳統接近式光刻的分辨率更高，并且對掩模缺陷不敏感
2025-09-19 09:19:56443 
電子發燒友網綜合報道，SK海力士宣布，已正式向客戶供應其全球率先實現量產的移動端NAND閃存解決方案產品ZUFS 4.1。 ? SK海力士通過與客戶的密切合作，于今年6月成功完成了該產品的客戶驗證
2025-09-19 09:00:003507 電子發燒友網報道（文 / 吳子鵬）近日，SK 海力士宣布全球率先完成第六代高帶寬存儲器（HBM4）的開發，并同步進入量產階段，成為首家向英偉達等核心客戶交付 HBM4 的存儲廠商。 ? 據悉，SK
2025-09-17 09:29:085963 在人工智能（AI）技術迅猛發展的當下，數據處理與存儲能力成為制約其進一步飛躍的關鍵因素。2025 年 9 月 12 日，韓國半導體巨頭 SK 海力士宣布，已成功完成面向 AI 的超高性能存儲器新產品
2025-09-16 17:31:141363 加工技術，。光刻機是光刻技術的核心設備，它的性能直接決定了芯片制造的良率和成本。
光刻技術的基本原理是利用光的照射將圖形轉移到光致抗濁劑薄膜上。
光刻技術的關鍵指標的分辨率。
光刻技術的難點在于需要
2025-09-15 14:50:58
當地時間 8 月 29 日，根據美國《聯邦公報》發布的通知顯示，美國商務部工業與安全局（BIS）修訂《出口管理條例》（EAR），將英特爾半導體（大連）有限公司（已被 SK 海力士收購，按原計劃今年
2025-09-02 17:40:11655 據央視報道；在8月29日，美國商務部撤銷英特爾半導體（大連）、三星中國半導體及SK海力士半導體（中國）的經驗證最終用戶授權。中方商務部回應稱美方此舉系出于一己之私；美方將出口管制工具化，將對全球半導體產業鏈供應鏈穩定產生重要不利影響，中方對此表示反對。 ?
2025-08-31 20:44:16825 電子發燒友網綜合報道 隨著集成電路工藝的不斷突破， 當制程節點持續向7nm及以下邁進，傳統的光刻技術已難以滿足高精度、高密度的制造需求，此時，波長13.5nm的極紫外（EUV）光刻技術逐漸成為支撐
2025-08-17 00:03:004219 澤攸科技ZEL304G電子束光刻機（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設備，專為半導體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設計。該系統采用先進的場發射電子槍，結合一體化的高速圖形發生系統，確保光刻質量優異且
2025-08-15 15:14:01
Sandisk閃迪公司（NASDAQ：SNDK）正式宣布與SK海力士簽署具有里程碑意義的諒解備忘錄（Memorandum of Understanding，MOU），雙方將攜手制定高帶寬閃存
2025-08-08 13:37:381847 電子發燒友網綜合報道，SK海力士截至2025年6月30日的2025財年第二季度財務報告顯示，公司2025財年第二季度營業收入為22.232萬億韓元，營業利潤為9.2129萬億韓元，凈利潤為
2025-08-07 09:30:066211 總建筑面積為67518平方米，總投資額約500億日元，投產后佳能的光刻設備產能將較2021年翻倍。該工廠將于今年9月啟動最初生產，明后年補充鏡頭加工制造能力。 ? 佳能宇都宮工廠不制造EUV、ArF等較為先進的光刻設備，而是聚焦i線、KrF等成熟光源
2025-08-05 10:23:382173 與成熟制程市場提供更多設備產能支持。 據介紹，這座新工廠是佳能在 2023 年開始動工建設的，并可能使用自家開發的 Nanoimprint (納米壓印) 技術，總投資額超過 500 億日元，涵蓋廠房與先進制造設備。新廠面積達 6.75 萬平方公尺，投產后將使光刻設備總產能提
2025-08-04 17:39:28712 近日，SK集團旗下在錫三家ICT企業，SK海力士半導體（中國）有限公司，英普賽信息技術（無錫）有限公司，愛思開希恩希系統（北京）有限公司在旺莊街道建發社區籌建組社區黨群服務中心舉行SK海力士幸福未來教育成長中心2號店啟動儀式。
2025-07-24 11:38:17838 激光（IR）轟擊 Sn 等離子體，從而釋放出 EUV 輻射，隨后通過收集鏡將 EUV 輻射會聚到中間焦點（IF）處。 然而，在這一過程中，冗余的紅外輻射若進入曝光光學系統，將會產生熱負載，對光刻系統的穩定性以及曝光圖樣質量造成不良影響。因此，深入研究紅外輻
2025-07-22 17:20:36956 
1969年，40萬名科技工作者憑借堅韌不拔的協作精神，成功完成登月計劃“阿波羅11號任務”，開啟了人類探索宇宙的新紀元。2003年，來自6個國家20多家研究機構的科學家，歷經13年通力合作，完成了“人類基因組計劃”，重塑了現代醫學格局。當人類團結一心，便能夠不斷創造新的輝煌。
2025-07-21 15:57:13742 厚膠量產到ArF浸沒式膠驗證，從樹脂國產化到EUV原料突破，一場靜默卻浩蕩的技術突圍戰已進入深水區。 ? 例如在248nm波長的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A膠以120nm分辨率和93.7%的良率通過中芯國際28nm產線驗證，開創了國內半導體光刻制造的新
2025-07-13 07:22:006083 SK海力士致力于成為“全方位面向AI的存儲器供應商（Full Stack AI Memory Provider）”，不僅在DRAM領域持續創新，在NAND閃存（NAND Flash，以下簡稱NAND
2025-07-10 11:37:591508 SK海力士的成功神話背后，離不開眾多核心技術的支撐，其中最令人矚目的便是“微細工藝”。通過對肉眼難以辨識的微細電路進行更為精細化的處理，SK海力士憑借壓倒性的技術實力，引領著全球半導體行業的發展。這一切的基礎正源于“一個團隊”協作精神（One-Team Spirit）。
2025-07-03 12:29:501593 圓進行處理，將曝光形成的光刻圖案顯影出來。整個流程對設備性能要求極高，需要在毫秒級的時間內完成響應，同時確保納米級的操作精度，如此才能保證光刻工藝的準確性與穩定性，進而保障半導體器件的制造質量。 （注：圖片
2025-07-03 09:14:54770 
剛接觸電子設備安裝那會，我總在為選對連接器犯難。曾在組裝一套戶外監控設備時，因選錯連接器類型，設備沒用多久就出現連接不穩定的問題。后來接觸到惟興科技電源連接器 5 芯 M16 接口的產品，才發現
2025-06-30 15:59:18513 的應用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優化曝光工藝參數 曝光是決定光刻圖形線寬的關鍵步驟。精確控制曝光劑量，可避免因曝光過度導致光刻膠過度反應，使線寬變寬；或曝光不足造成線寬變窄。采用先進的曝光設備，如極紫外（EUV）光刻機
2025-06-30 15:24:55739 
引言 在半導體制造與微納加工領域，光刻圖形的垂直度對器件的電學性能、集成密度以及可靠性有著重要影響。精準控制光刻圖形垂直度是保障先進制程工藝精度的關鍵。本文將系統介紹改善光刻圖形垂直度的方法，并
2025-06-30 09:59:13489 是 ASML 在極紫外光刻（EUV）技術基礎上的革命性升級。通過將光學系統的數值孔徑（NA）從 0.33 提升至 0.55，其分辨率從 13.5nm（半節距）躍升至 8nm（半節
2025-06-29 06:39:001916 HY-M8&M16動態信號測試分析系統介紹
HY-M8/16是一款西安環測自動化技術有限公司高性能數據采集分析的動態信號測試分析系統主機。系統采用LAN接口和計算機進行通訊，機箱可
2025-06-25 11:41:37
引言 在晶圓上芯片制造工藝中，光刻膠剝離是承上啟下的關鍵環節，其效果直接影響芯片性能與良率。同時，光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法，并探討白光
2025-06-25 10:19:48815 SK海力士在鞏固其面向AI的存儲器領域領導地位方面，HBM1無疑發揮了決定性作用。無論是率先開發出全球首款最高性能的HBM，還是確立并保持其在面向AI的存儲器市場的領先地位，這些成就的背后皆源于SK海力士秉持的“一個團隊”協作精神（One Team Spirit）。
2025-06-18 15:31:021666 在 MEMS（微機電系統）制造領域，光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環節。光刻 Overlay（套刻精度），則是衡量光刻機將不同層設計圖案對準精度的關鍵指標。光刻 Overlay 指的是芯片制造過程中，前后兩次光刻工藝形成的電路圖案之間的對準精度。
2025-06-18 11:30:491557 
至關重要。本文將介紹用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液，并探討白光干涉儀在光刻圖形測量中的應用。 用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液 配方設計 低銅腐蝕光刻膠剝離液需兼顧光刻膠溶解能力與銅保護性能。其主要成分包括有機溶
2025-06-18 09:56:08693 聲波振蕩、等離子體處理和超臨界干燥，確保掩膜板圖案的完整性與光刻精度。該設備適用于EUV（極紫外光刻）、ArF（氟化氬光刻）及傳統光刻工藝，支持6寸至30寸掩膜板的
2025-06-17 11:06:03
測量對工藝優化和產品質量控制至關重要。本文將探討低含量 NMF 光刻膠剝離液及其制備方法，并介紹白光干涉儀在光刻圖形測量中的應用。 低含量 NMF 光刻膠剝離液及制備方法 配方組成 低含量 NMF 光刻膠剝離液主要由低濃度 NMF、助溶劑、堿性物質、緩蝕劑
2025-06-17 10:01:01678 通過使用光掩膜和光刻膠在基板上復制流體圖案的過程。基板將涂覆硅二氧化層絕緣層和光刻膠。光刻膠在被紫外光照射后可以容易地用顯影劑溶解，然后在腐蝕后，流體圖案將留在基板上。無塵室(Cleanroom)排除掉空間范圍內空氣中的微
2025-06-16 14:36:251070 ? ? 引言 ? 在半導體制造領域，光刻膠剝離工藝是關鍵環節，但其可能對器件性能產生負面影響。同時，光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質量至關重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法，并介紹白光
2025-06-14 09:42:56736 大家好，今天咱們來聊聊一個在工業自動化、機器人、傳感器網絡等領域里，看似不起眼卻至關重要的“小家伙”——防水連接器8芯M16插頭。它就像我們身體里的毛細血管，負責將各種控制信號、傳感器數據等“血液
2025-06-09 16:46:29610 
的基礎，直接決定了這些技術的發展水平。 二、顯影在光刻工藝中的位置與作用 位置：顯影是光刻工藝中的一個重要步驟，在曝光之后進行。 作用：其作用是將曝光產生的潛在圖形，通過顯影液作用顯現出來。具體而言，是洗去光刻
2025-06-09 15:51:162127 SK海力士于5月20日至23日舉辦的2025年臺北國際電腦展（COMPUTEX Taipei 2025，以下簡稱COMPUTEX）上，展示了其涵蓋AI服務器、個人電腦和移動設備等多個領域的豐富
2025-06-05 14:13:561805 
SK海力士宣布，5月19日于首爾COEX麻谷會展中心舉行的“第60屆發明日紀念儀式”上，來自HBM開發部門的宋清基TL榮庸銅塔產業勛章。
2025-06-03 09:36:481001 引言 在半導體制造與微納加工領域，光刻膠剝離液是光刻膠剝離環節的核心材料，其性能優劣直接影響光刻膠去除效果與基片質量。同時，精準測量光刻圖形對把控工藝質量意義重大，白光干涉儀為此提供了有力的技術保障
2025-05-29 09:38:531108 
近日，SK海力士向無錫市首個應急救援驛站（山水城（雪浪街道）石塘社區）捐贈自動體外除顫儀（AED）設備，助力提升基層應急救援能力，為居民生命健康筑起堅實屏障。
2025-05-28 15:36:51761 近年來，SK海力士屢獲創新成果，這些成就皆得益于“一個團隊”協作精神（One Team Spirit）”。無論是創下歷史最佳業績、開發出全球領先產品，還是躍升成為全球頂級面向AI的存儲器供應商，這些
2025-05-23 13:54:361014 。該產品具備全球領先的順序讀取性能與低功耗特性，專為端側AI進行優化；產品厚度減薄15%，適用于超薄旗艦智能手機。 ? SK海力士表示：“為了在移動設備上實現端側（On-device）AI的穩定運行
2025-05-23 01:04:008530 近日，SK海力士宣布，在首爾江南區韓國科學技術會館舉行的“2025年科學?信息通訊日紀念儀式”上，公司數字化轉型組織的都承勇副社長榮獲了科學技術信息通信部頒發的銅塔產業勛章。
2025-05-09 10:29:10969 隨著極紫外光刻（EUV）技術面臨光源功率和掩模缺陷挑戰，X射線光刻技術憑借其固有優勢，在特定領域正形成差異化競爭格局。
2025-05-09 10:08:491370 
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
2025-05-07 06:03:45
增長42.5%至267.29億美元，環比減少8.5%。 ? 然而不可忽視的是，在2025年一季度，SK海力士憑借在HBM領域的絕對優勢，終結三星長達四十多年的市場統治地位，以36.7%的市場份額首度登頂全球DRAM市場第一。 ? ? 其實從2024年SK海力士與三星在DRAM上的差距就已經開始
2025-05-06 15:50:231210 
光刻圖形轉化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導體通用格式的圖紙轉換成如bmp或者tiff格式進行掩模版加工制造，在掩膜加工領域或者無掩膜光刻領域不可或缺，在業內也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10
光刻膠類型及特性光刻膠（Photoresist），又稱光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:337824 
得益于AI需求的有力推動；高帶寬內存(HBM)需求持續暴漲，這帶動了英偉達供應商SK海力士盈利大增158%。 據SK海力士公布的財務業績數據顯示，在2025年第一季度SK海力士的營收增長42%；達到
2025-04-24 10:44:261231
三星電子在 HBM3 時期遭遇了重大挫折，將 70% 的 HBM 內存市場份額拱手送給主要競爭對手 SK 海力士，更是近年來首度讓出了第一大 DRAM 原廠的寶座。這迫使三星在 HBM4 上采用
2025-04-18 10:52:53
隨著人工智能技術的迅猛發展，作為其核心支撐技術的高帶寬存儲器（以下簡稱HBM）實現了顯著的增長，為SK海力士在去年實創下歷史最佳業績做出了不可或缺的重要貢獻。業內普遍認為，SK海力士的成長不僅體現在銷售額的大幅提升上，更彰顯了其在引領AI時代技術變革方面所發揮的重要作用。
2025-04-18 09:25:59992 電子發燒友網綜合報道，據韓媒報道，SK海力士副總裁李圭（音譯）近日在學術會議上表示，SK海力士正在推行混合鍵合在 HBM 上的應用。目前正處于研發階段，預計最早將應用于HBM4E。 ? 據介紹，目前
2025-04-17 00:05:001060 人工智能與高性能計算（HPC）正以空前的速度發展，將動態隨機存取存儲器（DRAM）和NAND閃存等傳統存儲技術發揮到極致。為了滿足人工智能時代日益增長的需求，業界正在探索超越傳統存儲技術的新興存儲技術。
2025-04-03 09:40:411709 3 月 28 日消息，根據 SK 海力士向韓國金融監管機構 FSS 披露的文件，該企業已在當地時間今日完成了收購英特爾 NAND 閃存及 SSD 業務案的第二階段，交易正式完成。 這筆交易
2025-03-28 19:27:581228 
劑量的需求也加劇，從而造成了生產力的瓶頸。DSA技術：一種革命性的方法DSA技術通過利用嵌段共聚物的分子行為來解決EUV光刻面臨的挑戰。嵌段共聚物由兩個或多個化學性
2025-03-19 11:10:061259 
在現代電子設備的廣泛應用中，對于能夠實現多種功能集成的微控制器（MCU）的需求日益增長。愛普生S1C17M00/M10系列正是為滿足這一需求而設計的高性能、低功耗的16位單片機。它們廣泛應用于需要
2025-03-14 13:54:30915 
東芝電子元件及存儲裝置株式會社(東芝)近日在其位于日本西部兵庫縣姬路半導體工廠的車載功率半導體后道生產新廠房舉辦了竣工慶祝儀式。新廠房的產能將比2022財年的水平增加一倍以上，并將于2025財年上半年開始全面生產。
2025-03-13 18:08:161279 晶圓代工廠，于2020年9月從Magnachip Semiconductor分拆出來，并于2022年8月成為SK海力士的子公司。SK Powertech前身為Yes Power Technics，于2022年被SK Inc.收購，以其在設計和制造碳化
2025-03-10 11:15:49749 3 月 6 日消息，綜合韓聯社、ZDNet Korea、MK 等多家韓媒報道，SK 海力士今日在內部宣布將關閉其 CIS（CMOS 圖像傳感器）部門， 該團隊的員工將轉崗至 AI 存儲器領域 。SK
2025-03-06 18:26:161078 據韓媒報道，SK海力士計劃于今年3月向其位于韓國的M15X晶圓廠派遣大量工程師，為該廠投產高頻寬內存（HBM）做最后準備。這一舉措標志著M15X晶圓廠投產的準備工作已進入沖刺階段，預計將于2025年第四季度正式投產。
2025-02-18 14:46:031276 據最新報道，SK 海力士為滿足市場對高帶寬存儲器(HBM)的旺盛需求，正緊鑼密鼓地為M15X晶圓廠的投產做全面準備。公司計劃于今年3月向M15X工廠派遣工程師團隊，以確保工廠能夠順利啟動并投入生產
2025-02-18 11:16:58884 列入貿易限制名單，也對SK海力士的決策產生了影響。業內普遍預測，SK海力士將全面停止使用中國的EDA軟件，而三星電子也可能緊隨其后，做出類似決定。 若SK海力士與三星電子真的停用中國EDA軟件，它們對美國EDA軟件的依賴程度將顯著增強，這將
2025-02-18 10:51:541080 據韓國媒體報道，韓國半導體行業的巨頭SK海力士，為應對美國可能出臺的新政策，已開始對其所使用的中國半導體電子設計自動化(EDA)軟件進行緊急審查。這一舉措反映了全球半導體產業在地緣政治緊張局勢下
2025-02-18 09:47:04831 ? EUV光刻有多強？目前來看，沒有EUV光刻，業界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機也是歷史上最復雜、最昂貴的機器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸？ EUV光刻技術，存在很多難點。 1.1
2025-02-18 09:31:242257 
光刻技術對芯片制造至關重要，但傳統紫外光刻受衍射限制，摩爾定律面臨挑戰。為突破瓶頸，下一代光刻（NGL）技術應運而生。本文將介紹納米壓印技術（NIL）的原理、發展、應用及設備，并探討其在半導體制造中
2025-02-13 10:03:503709 
據外媒最新報道，為了應對NAND閃存市場的供應過剩問題，三星電子與SK海力士兩大半導體巨頭已悄然采取措施，通過工藝轉換實現“自然減產”。 據業內消息透露，自去年年底以來，三星電子和SK海力士正積極
2025-02-12 10:38:13857 SK 海力士近日正式公布了截至2024年12月31日的2024財年及第四季度財務報告，數據顯示，該公司在過去一年中取得了令人矚目的業績。 2024年全年，SK 海力士營收達到了661929億韓元(約
2025-02-08 16:22:381660 半導體設備光刻機防震基座的安裝涉及多個關鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機的穩定運行和產品質量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應工作環境。由于半導體設備通常在潔凈的環境下運行，因此選擇的搬運工具如
2025-02-05 16:48:451240 
光刻是芯片制造過程中至關重要的一步，它定義了芯片上的各種微細圖案，并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細介紹，包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻
2025-01-28 16:36:003591 
近日，SK海力士發布了其截至2024年12月31日的2024財年及第四季度財務報告，業績表現出色。 數據顯示，SK海力士在2024年全年營收達到了661929億韓元(當前約合3346.71億元
2025-01-24 14:00:261054 挑戰傳統，打破限制，勇攀高峰，打破常規者們在尋求開創性解決方案的過程中重塑規則。繼SK海力士品牌短片《誰是打破常規者》播出后，將推出一系列文章，展示公司在重塑技術、重新定義行業標準方面采取的各種“打破常規”的創新舉措。本系列第七篇文章將深入探討SK海力士在CXL技術領域的研發進展。
2025-01-24 10:25:271219 
SK海力士近日發布了截至2024年12月31日的2024財年及第四季度財務報告，數據顯示公司再創佳績。2024財年，SK海力士的營業收入高達66.1930萬億韓元，營業利潤達到23.4673萬億韓元，凈利潤更是攀升至19.7969萬億韓元，這一成績刷新了公司歷史上的最佳年度業績記錄。
2025-01-23 15:49:102056 數值孔徑 EUV 光刻中的微型化挑戰 晶體管不斷小型化，縮小至 3 納米及以下，這需要完美的執行和制造。在整個 21 世紀，這種令人難以置信的縮小趨勢（從 90 納米到 7 納米及更小）開創了技術進步的新時代。 在過去十年中，我們見證了將50
2025-01-22 14:06:531153 
近日，據最新業界消息，臺積電計劃在南科三期再建兩座CoWoS新廠，預計投資金額將超過2000億元新臺幣。這一舉措不僅彰顯了臺積電在先進封裝技術領域的持續投入，也對其近期CoWoS砍單傳聞做出了實際擴
2025-01-21 13:43:39875 產品價格。 繼美光和三星宣布減產計劃后，全球第二大NAND Flash廠商SK海力士也宣布了減產決定。據悉，SK海力士計劃將上半年NAND Flash存儲器的產量削減10%。這一決定無疑將對市場產生深遠影響。 根據機構先前發布的報告，SK海力士在NAND Flash存儲器領
2025-01-20 14:43:551095 本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類，光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片光刻機和面板光刻機。面板光刻機的工作原理和芯片光刻機相似
2025-01-16 09:29:456357 
在Hot Chips 2024上，海力士專注于AI加速器的標準DRAM之外的產品。該公司展示了其在內存計算方面的最新進展，這次是用其AiMX-xPU和LPDDR-AiM進行LLM推理。其理念是，無需
2025-01-09 16:08:041322 
芯片制造、價值1.5億美元的極紫外（EUV，https://spectrum.ieee.org/tag/euv）光刻掃描
2025-01-09 11:31:181280 SK海力士今年計劃大幅提升其高帶寬內存（HBM）的DRAM產能，目標是將每月產能從去年的10萬片增加至17萬片，這一增幅達到了70%。此舉被視為該公司對除最大客戶英偉達外，其他領先人工智能（AI）芯片公司需求激增的積極回應。
2025-01-07 16:39:091306 SK海力士重返拉斯維加斯，參加2025年國際消費類電子產品展覽會（Consumer Electronics Show，以下簡稱“CES”），并展示其顛覆行業的面向人工智能的存儲創新技術。CES 2025于1月7日至10日舉行，匯聚了全球領先科技公司的頂尖人才與突破性技術，共同引領未來科技的發展潮流。
2025-01-07 16:20:461440 泊蘇 Type C 系列防震基座在半導體光刻加工電子束光刻設備的應用案例-江蘇泊蘇系統集成有限公司一、企業背景與光刻加工電子束光刻設備挑戰某大型半導體制造企業專注于高端芯片的研發與生產
2025-01-07 15:13:21
納米級別的分辨率。本文將詳細介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統 ? 光源系統是光刻機的心臟，負責提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源，但隨著技術的進步，目前多采用深紫外（DUV）或極紫外（EUV）光源，
2025-01-07 10:02:304530 
的專題演講外，有傳聞稱黃仁勛還將與SK集團的會長崔泰源進行一場視頻對談。這場對談預計將聚焦于高頻寬記憶體(HBM)的最新發展，特別是英偉達與SK海力士在新一代HBM4方面的合作。據媒體報道，去年11月崔泰源曾透露，英偉達已要求SK海力士提前半年出貨新一代
2025-01-06 13:54:105989
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