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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>今日看點(diǎn)丨英特爾提供高達(dá)50萬(wàn)歐元的自愿離職補(bǔ)償金;武漢光谷實(shí)驗(yàn)室研發(fā)量子點(diǎn)光刻膠

今日看點(diǎn)丨英特爾提供高達(dá)50萬(wàn)歐元的自愿離職補(bǔ)償金;武漢光谷實(shí)驗(yàn)室研發(fā)量子點(diǎn)光刻膠

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2013-09-09 09:36:091340

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關(guān)鍵詞:超臨界清洗,離子注入光刻膠光刻膠剝離 摘要 本文提出了一種有效的、環(huán)保的干剝離方法,使用超臨界二氧化碳(SCCO2)系統(tǒng),在40℃到100℃和壓力從90巴到340巴時(shí)去除離子植入的光刻
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近日,上海新陽(yáng)發(fā)布公告稱,公司自主研發(fā)的KrF(248nm)厚膜光刻膠產(chǎn)品已經(jīng)通過(guò)客戶認(rèn)證,并成功取得第一筆訂單,取得不錯(cuò)進(jìn)展。 ? 光刻膠用于半導(dǎo)體光刻工藝環(huán)節(jié),是決定制造質(zhì)量的重要因素,根據(jù)曝光
2021-07-03 07:47:0026808

華為投資光刻膠企業(yè) 光刻膠單體材料全部自供

元,增幅11.11%。 ? 截圖自企查查 ? 光刻膠是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的重要材料,目前主要被日美把控,國(guó)內(nèi)在光刻膠方面投入研制的廠商主要晶瑞股份、南大光電、上海新陽(yáng)、徐州博康、北京科華等,那么華為投資的徐州博康在光刻膠方面有何優(yōu)勢(shì),國(guó)內(nèi)廠商在光
2021-08-12 07:49:006896

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2025-08-10 03:26:009092

比肩進(jìn)口!我國(guó)突破光刻膠“卡脖子”技術(shù)

元收購(gòu)湖北三峽實(shí)驗(yàn)室重大科技成果“光刻膠用光引發(fā)劑制備專有技術(shù)及實(shí)驗(yàn)設(shè)備所有權(quán)”,標(biāo)志著我國(guó)在這一關(guān)鍵材料領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破性進(jìn)展。 ? “這不僅是一項(xiàng)技術(shù)成果的市場(chǎng)轉(zhuǎn)化,更是我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主可控進(jìn)程中的重要突破。”業(yè)內(nèi)專家
2025-12-17 09:16:275953

光刻膠

303532-80μm100ml;250ml;500ml;1L[/tr][tr=transparent]MicroChem SU-8 負(fù)SU-8 305044-100μm100ml;250ml;500ml;1L[/tr]正負(fù)顯影液SU 8 顯影液汶顥微流控技術(shù)股份有限公司提供微流控芯片實(shí)驗(yàn)室耗材和配件。
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光刻膠有什么分類?生產(chǎn)流程是什么?

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2019-11-07 09:00:18

光刻膠殘留要怎么解決?

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2016-11-29 14:59:18

英特爾將在2014年推出14納米處理器芯片

地區(qū)總經(jīng)理Pat Bliemer在接受北歐硬件網(wǎng)站獨(dú)家采訪時(shí)披露了這個(gè)信息。他說(shuō),這個(gè)技術(shù)已經(jīng)能夠在實(shí)驗(yàn)室條件下制造14納米芯片。這意味著英特爾在生產(chǎn)技術(shù)方面與競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手相比擁有巨大的優(yōu)勢(shì)。英特爾
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英特爾公司今日宣布,英特爾將面向嵌入式市場(chǎng)為全新2010英特爾? 酷睿? 處理器系列中的十款處理器和三款芯片組提供7年以上生命周期支持。全新2010英特爾酷睿處理器系列能夠提供智能性能和高能效表現(xiàn)
2019-07-29 06:13:57

Futurrex高端光刻膠

Futurrex,成立于1985年,位總部設(shè)在美國(guó)新澤西州,富蘭克林市。 公司業(yè)務(wù)范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開(kāi)發(fā)最高端產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長(zhǎng)的歷史,尤其是其光刻膠
2010-04-21 10:57:46

Microchem SU-8光刻膠 2000系列

SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡(jiǎn)介:新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU- 8 是一種負(fù)性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠,克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問(wèn)題,十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。SU- 8
2018-07-04 14:42:34

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2019-07-25 07:31:03

負(fù)光刻膠顯影殘留原因

151n光刻膠曝光顯影后開(kāi)口底部都會(huì)有一撮殘留,找不到原因。各位幫分析下
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、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片、等產(chǎn)品進(jìn)行在線顆粒監(jiān)測(cè)和分析。產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):離線優(yōu)勢(shì):PMT-2離線光刻膠微粒子計(jì)數(shù)器外接離線取樣裝置,可實(shí)現(xiàn)實(shí)驗(yàn)室、工廠
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INTEL英特爾原廠代理分銷經(jīng)銷一級(jí)代理分銷經(jīng)銷供應(yīng)鏈服務(wù)

Intel[英特爾] 廠商介紹:英特爾是世界上第二大的半導(dǎo)體公司,也是首家推出x86架構(gòu)中央處理器的公司,總部位于美國(guó)加利福尼亞州圣克拉拉。由羅伯特·諾伊斯、高登·摩爾、安迪·葛洛夫,以
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英特爾測(cè)試新型自旋量子

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近日,英特爾公司聯(lián)合今日頭條在北京召開(kāi)了以“數(shù)據(jù)賦能AI正當(dāng)時(shí)”為主題聯(lián)合發(fā)布會(huì),雙方宣布成立技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室
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今天,以“數(shù)據(jù)賦能 AI正當(dāng)時(shí)”為主題的英特爾今日頭條戰(zhàn)略合作聯(lián)合發(fā)布會(huì)暨技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室發(fā)布會(huì)在北京舉辦。
2018-08-30 15:06:514294

英特爾推出了技術(shù)學(xué)習(xí)實(shí)驗(yàn)室來(lái)開(kāi)展VR教育

許多學(xué)校和教育機(jī)構(gòu)已經(jīng)在嘗試使用虛擬現(xiàn)實(shí)(VR)作為增強(qiáng)和改善學(xué)生教育體驗(yàn)的手段。英特爾也沒(méi)有忽略這一趨勢(shì),推出了技術(shù)學(xué)習(xí)實(shí)驗(yàn)室(Tech Learning Lab)開(kāi)展VR教育。
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英特爾推出一款技術(shù)學(xué)習(xí)實(shí)驗(yàn)室,利用VR進(jìn)行學(xué)員技術(shù)培訓(xùn)

英特爾宣布推出一款技術(shù)學(xué)習(xí)實(shí)驗(yàn)室,這款實(shí)驗(yàn)室被裝載在一個(gè)定制的移動(dòng)集裝箱卡車上,配備VR演示站、強(qiáng)大的電腦和物聯(lián)網(wǎng)智能白板。
2018-10-22 15:29:411629

浪潮與英特爾合作助力全球AI產(chǎn)業(yè)發(fā)展

隨著本次聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室擴(kuò)展將人工智能納入工作范疇,雙方將匯集浪潮與英特爾的優(yōu)秀工程與研發(fā)團(tuán)隊(duì),專注于AI計(jì)算、算法和應(yīng)用的聯(lián)合創(chuàng)新,包括英特爾下一代至強(qiáng)可擴(kuò)展處理器(代號(hào)為“”Cascade Lake”)的AI軟件優(yōu)化。
2018-11-18 10:26:501018

高通財(cái)務(wù)長(zhǎng)戴維斯宣布離職 將轉(zhuǎn)任英特爾財(cái)務(wù)長(zhǎng)

芯片大廠高通和英特爾周二表示,高通財(cái)務(wù)長(zhǎng)戴維斯(George Davis)已離職,將轉(zhuǎn)任英特爾財(cái)務(wù)長(zhǎng)。
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上海新陽(yáng)再次轉(zhuǎn)換戰(zhàn)場(chǎng) 選擇研發(fā)3D NAND用的KrF 光刻膠

2018年,南大光電和上海新陽(yáng)先后宣布,投入ArF光刻膠產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)與產(chǎn)業(yè)化,立志打破集成電路制造最為關(guān)鍵的基礎(chǔ)材料之一——高檔光刻膠材料幾乎完全依賴于進(jìn)口的局面,填補(bǔ)國(guó)內(nèi)高端光刻膠材料產(chǎn)品的空白。
2019-05-21 09:24:247863

關(guān)于英特爾神秘實(shí)驗(yàn)室的分析和介紹

事實(shí)上,英特爾無(wú)人駕駛事業(yè)部成立之前,英特爾的物聯(lián)網(wǎng)事業(yè)部就已經(jīng)在智能交通和智能汽車領(lǐng)域深耕多年,建樹頗多。早期,英特爾車載創(chuàng)新和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)中心以及英特爾實(shí)驗(yàn)室在人車互動(dòng)、提升駕駛體驗(yàn),如何利用先進(jìn)的傳感、計(jì)算和互連數(shù)據(jù)革命性地改變出行方式等領(lǐng)域進(jìn)行探索。
2019-09-11 11:20:422459

南大光電將建成光刻膠生產(chǎn)線,明年或光刻機(jī)進(jìn)場(chǎng)

今年7月17日,南大光電在互動(dòng)平臺(tái)透露,公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部,并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”,全力推進(jìn)“ArF光刻膠開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”落地實(shí)施。目前該項(xiàng)目完成的研發(fā)技術(shù)正在等待驗(yàn)收中,預(yù)計(jì)2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線,項(xiàng)目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
2019-12-16 13:58:528273

英特爾公司著名高管吉姆 凱勒離職,曾參與蘋果和特斯拉芯片研發(fā)

英特爾著名高管吉姆·凱勒(JimKeller)已于6月11日離職。他于兩年前加入英特爾,主要領(lǐng)導(dǎo)和負(fù)責(zé)英特爾的系統(tǒng)芯片的研發(fā)集成。
2020-06-12 11:09:514034

LCD光刻膠需求快速增長(zhǎng),政策及國(guó)產(chǎn)化風(fēng)向帶動(dòng)國(guó)產(chǎn)廠商發(fā)展

光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類,大致分為L(zhǎng)CD光刻膠、PCB光刻膠(感光油墨)與半導(dǎo)體光刻膠等。按照下游應(yīng)用來(lái)看,目前LCD光刻膠占比26.6%,刻占比24.5%,半導(dǎo)體光刻膠占比24.1%,PCB光其他類光刻膠占比24.8%。
2020-06-12 17:13:396218

一文帶你看懂光刻膠

來(lái)源:浙商證券研究院 光刻膠又稱光致抗蝕劑,是一種對(duì)光敏感的混合液體。其組成部分包括:光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過(guò)光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等
2020-09-15 14:00:1420205

雅克科技投入12億到光刻膠研發(fā)當(dāng)中

開(kāi)發(fā)行股票計(jì)劃募集資金總額不超過(guò)人民幣 120,000.00萬(wàn)元,扣除發(fā)行費(fèi)用后的募集資金凈額擬投入以下項(xiàng)目。其中,有8.5億元將會(huì)投入到新一代電子信息材料國(guó)產(chǎn)化項(xiàng)目-光刻膠光刻膠配套試劑研發(fā)當(dāng)中。 雅克科技于2010年在深交所中小企業(yè)板上市,主
2020-09-24 10:32:016129

集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目存6大難點(diǎn)

對(duì)公司光刻膠業(yè)務(wù)的具體影響等問(wèn)題。 10月12日,晶瑞股份發(fā)布關(guān)于深圳證券交易所關(guān)注函的回復(fù)公告稱,本次擬購(gòu)買的光刻機(jī)設(shè)備將用于公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目,將有助于公司將光刻膠產(chǎn)品序列實(shí)現(xiàn)到ArF光刻膠的跨越,并最終實(shí)
2020-10-21 10:32:105003

南大光電自主研發(fā)的 ArF(193nm)光刻膠成功通過(guò)認(rèn)證

今日南大光電發(fā)布公告稱,其控股子公司 “寧波南大光電”自主研發(fā)的 ArF(193nm)光刻膠產(chǎn)品近日成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。報(bào)告顯示,“本次認(rèn)證選擇客戶 50nm 閃存產(chǎn)品中的控制柵進(jìn)行驗(yàn)證,寧波南
2020-12-18 09:29:427279

中國(guó)終于打破日本在光刻膠的壟斷地位

昨夜晚間,寧波南大光電發(fā)表公告稱,公司自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品 近日成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。
2020-12-18 09:52:103957

晶瑞順利購(gòu)得 ASML XT 1900 Gi 型光刻機(jī)一臺(tái),可研發(fā)最高分辨率達(dá) 28nm 的高端光刻膠

晶瑞股份發(fā)布公告:經(jīng)多方協(xié)商、積極運(yùn)作,該公司順利購(gòu)得 ASML XT 1900 Gi 型光刻機(jī)一臺(tái)。 該光刻機(jī)于 2021 年 1 月 19 日運(yùn)抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實(shí)驗(yàn)室,即將組織
2021-01-20 16:34:007356

晶瑞股份成功打造高端光刻膠研發(fā)實(shí)驗(yàn)室

1月19日晚,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體材料公司晶瑞股份發(fā)表公告,宣稱購(gòu)得ASML公司光刻機(jī)一臺(tái),將用于高端光刻膠項(xiàng)目。
2021-01-21 09:35:513579

光刻膠板塊的大漲吸引了產(chǎn)業(yè)注意 ,國(guó)產(chǎn)光刻膠再遇發(fā)展良機(jī)?

5月27日,半導(dǎo)體光刻膠概念股開(kāi)盤即走強(qiáng),截至收盤,A股光刻膠板塊漲幅達(dá)6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停,容大感光大漲13.28%,揚(yáng)帆新材大漲11.37%,南大光電
2021-05-28 10:34:154020

光刻膠光刻機(jī)的關(guān)系

光刻膠光刻機(jī)研發(fā)的重要材料,換句話說(shuō)光刻機(jī)就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠
2022-02-05 16:11:0015756

改善去除負(fù)光刻膠效果的方法報(bào)告

摘要 我們?nèi)A林科納提出了一種新型的雙層光阻劑方法來(lái)減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對(duì)浮渣平均數(shù)量的影響。實(shí)驗(yàn)表明,低粘度正光刻膠
2022-01-26 11:43:221169

晶片光刻膠處理系統(tǒng)的詳細(xì)介紹

摘要 在這項(xiàng)工作中,研究了新一代相流體剝離溶液在各種半導(dǎo)體光刻膠中的應(yīng)用。這些實(shí)驗(yàn)中使用的獨(dú)特的水基智能流體配方均為超大規(guī)模集成電路級(jí),與銅兼容且無(wú)毒。實(shí)驗(yàn)的第一階段是確定是否在合理的時(shí)間內(nèi)與光刻膠
2022-03-03 14:20:05888

采用雙層抗蝕劑法去除負(fù)光刻膠

本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來(lái)減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對(duì)浮渣平均數(shù)量的影響。實(shí)驗(yàn)表明,低粘度正光刻膠AZ703
2022-03-24 16:04:231451

干法刻蝕去除光刻膠的技術(shù)

灰化,簡(jiǎn)單的理解就是用氧氣把光刻膠燃燒掉,光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物,在射頻或微波作用下,氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通過(guò)泵被真空抽走,完成光刻膠的去除。
2022-07-21 11:20:178339

光刻膠az1500產(chǎn)品說(shuō)明

光刻膠產(chǎn)品說(shuō)明英文版資料分享。
2022-08-12 16:17:2511

光刻膠為何要謀求國(guó)產(chǎn)替代

南大光電最新消息顯示,國(guó)產(chǎn)193nm(ArF)光刻膠研發(fā)成功,這家公司成為通過(guò)國(guó)家“02專項(xiàng)”驗(yàn)收的ArF光刻膠項(xiàng)目實(shí)施主體;徐州博康宣布,該公司已開(kāi)發(fā)出數(shù)十種高端光刻膠產(chǎn)品系列,包括
2022-08-31 09:47:142371

光刻膠的原理和正負(fù)光刻膠的主要組分是什么

光刻膠的組成:樹脂(resin/polymer),光刻膠中不同材料的粘合劑,給與光刻膠的機(jī)械與化學(xué)性質(zhì)(如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等);感光劑,感光劑對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng);溶劑(Solvent
2022-10-21 16:40:0423795

國(guó)產(chǎn)光刻膠市場(chǎng)前景 國(guó)內(nèi)廠商迎來(lái)發(fā)展良機(jī)

10%-15%,對(duì)應(yīng)的 PAG 用量為一般按樹脂重量的 6%-8%添加,最 終 PAG 的成本占光刻膠總成本的 10%-20%。從單價(jià)看,KrF 光刻膠用 PAG 的價(jià)格在 0.5-1.5萬(wàn)元/kg
2022-11-18 10:07:434882

「前沿技術(shù)」英特爾以硅基技術(shù)成功制造量子芯片

在2022年硅量子電子研討會(huì)上,英特爾實(shí)驗(yàn)室宣布以現(xiàn)有硅基半導(dǎo)體技術(shù)成功生產(chǎn)自旋量子計(jì)算芯片,這為未來(lái)量產(chǎn)量子計(jì)算機(jī)打下基礎(chǔ)。英特爾表示,最新研究結(jié)果是目前業(yè)界最大的硅基自旋量子運(yùn)算芯片,量產(chǎn)芯片
2022-11-25 17:03:372405

「前沿技術(shù)」英特爾以硅基技術(shù)成功制造量子芯片

來(lái)源:《半導(dǎo)體芯科技》雜志10/11期 在2022年硅量子電子研討會(huì)上,英特爾實(shí)驗(yàn)室宣布以現(xiàn)有硅基半導(dǎo)體技術(shù)成功生產(chǎn)自旋量子計(jì)算芯片,這為未來(lái)量產(chǎn)量子計(jì)算機(jī)打下基礎(chǔ)。英特爾表示,最新研究結(jié)果是目前
2022-11-28 17:22:331642

高端光刻膠通過(guò)認(rèn)證 已經(jīng)用于50nm工藝

此前該公司指出,公司已建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠生產(chǎn)線、年產(chǎn)20噸ArF浸沒(méi)式光刻膠生產(chǎn)線及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純?cè)噭┥a(chǎn)線,具備ArF光刻膠及配套關(guān)鍵組分材料的生產(chǎn)能力,目前公司送樣驗(yàn)證的產(chǎn)品均由該自建產(chǎn)線產(chǎn)出。
2023-04-11 09:25:321910

英特爾量子芯片,重磅公布

目前,學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)沒(méi)有像英特爾這樣的大批量制造制造設(shè)備。有了 Tunnel Falls,研究人員可以立即開(kāi)始進(jìn)行實(shí)驗(yàn)和研究,而不是嘗試制造自己的設(shè)備。因此,更廣泛的實(shí)驗(yàn)成為可能,包括更多地了解量子位和量子點(diǎn)的基礎(chǔ)知識(shí),以及開(kāi)發(fā)用于使用具有多個(gè)量子位的設(shè)備的新技術(shù)。
2023-06-20 15:38:561255

光刻膠黏度如何測(cè)量?光刻膠需要稀釋嗎?

光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項(xiàng)重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:112940

不僅需要***,更需要光刻膠

為了生產(chǎn)高純度、高質(zhì)量的光刻膠,需要高純度的配方原料,例如光刻樹脂,溶劑PGMEA…此外,生產(chǎn)過(guò)程中的反應(yīng)釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測(cè)也是至關(guān)重要的控制環(huán)節(jié)。例如,2019年,某家半導(dǎo)體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染,導(dǎo)致上萬(wàn)片12吋晶圓報(bào)廢
2023-11-27 17:15:481717

萬(wàn)潤(rùn)股份在半導(dǎo)體制造材料領(lǐng)域穩(wěn)步推進(jìn),涉足光刻膠單體、PI等業(yè)務(wù)

近期,萬(wàn)潤(rùn)股份在接受機(jī)構(gòu)調(diào)研時(shí)透露,其“年產(chǎn)65噸半導(dǎo)體用光刻膠樹脂系列”項(xiàng)目已經(jīng)順利投入運(yùn)營(yíng)。該項(xiàng)目旨在為客戶提供專業(yè)的半導(dǎo)體用光刻膠樹脂類材料。
2023-12-12 14:02:582311

速度影響光刻膠的哪些性質(zhì)?

光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻中至關(guān)重要的參數(shù),那么我們?cè)趧?b class="flag-6" style="color: red">膠時(shí),是如何確定勻速度呢?它影響光刻膠的哪些性質(zhì)?
2023-12-15 09:35:563928

光刻膠分類與市場(chǎng)結(jié)構(gòu)

光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三達(dá)應(yīng)用場(chǎng)景。
2024-01-03 18:12:212813

瑞紅集成電路高端光刻膠總部落戶吳中

據(jù)吳中發(fā)布的最新消息,簽約項(xiàng)目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項(xiàng)目,該項(xiàng)投資高達(dá)15億元,旨在新建半導(dǎo)體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。
2024-01-26 09:18:431197

如何在芯片中減少光刻膠的使用量

光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來(lái)定。比如對(duì)于需要長(zhǎng)時(shí)間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場(chǎng)景,較厚的光刻膠層能提供更長(zhǎng)的耐蝕刻時(shí)間。
2024-03-04 10:49:162061

光刻膠光刻機(jī)的區(qū)別

光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:189618

光谷實(shí)驗(yàn)室研發(fā)短波紅外成像膠體量子點(diǎn)芯片

近日,首個(gè)膠體量子點(diǎn)成像芯片在光谷實(shí)驗(yàn)室研發(fā)成功,其具備優(yōu)異性能。該芯片已能實(shí)現(xiàn)短波紅外成像,面陣規(guī)模達(dá)到30萬(wàn),盲元率低于每十萬(wàn)個(gè)像素中只有6個(gè)因素導(dǎo)致信號(hào)丟失,圖像波長(zhǎng)范圍為0.4至1.7微米
2024-03-07 15:22:432267

要讓量子計(jì)算走出實(shí)驗(yàn)室

轉(zhuǎn)自環(huán)球時(shí)報(bào)環(huán)球時(shí)報(bào)記者張蔚藍(lán)陳子帥原稿標(biāo)題:中國(guó)科學(xué)院量子信息重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室副主任郭國(guó)平:要讓量子計(jì)算走出實(shí)驗(yàn)室原文鏈接:https://m.huanqiu.com/article
2024-03-06 08:21:05769

武漢光谷實(shí)驗(yàn)室短波紅外芯片完成中試,年內(nèi)預(yù)計(jì)銷售千萬(wàn)元

一顆黃豆大小的芯片,利用新技術(shù)膠體量子點(diǎn)紅外探測(cè)成像做成“視覺(jué)芯片”,裝到手機(jī)、檢測(cè)器上,可以“穿透”介質(zhì),看到肉眼看不到的“真相”。 光谷實(shí)驗(yàn)室近日宣布,其聯(lián)合科研團(tuán)隊(duì)(華中科技大學(xué)實(shí)驗(yàn)室、溫州
2024-03-12 08:43:40974

光谷實(shí)驗(yàn)室研發(fā)膠體量子點(diǎn)成像芯片,有望顛覆短波紅外市場(chǎng)

湖北光谷實(shí)驗(yàn)室近日宣布,其科研團(tuán)隊(duì)研發(fā)的膠體量子點(diǎn)成像芯片已實(shí)現(xiàn)短波紅外成像,面陣規(guī)模30萬(wàn)、盲元率低于6‰、波長(zhǎng)范圍0.4-1.7微米、暗電流密度小于50 nA/cm2、外量子效率高于60%,號(hào)稱“性能優(yōu)越”。
2024-03-12 14:46:591826

關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹

與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會(huì)形成相反的圖案。基于聚合物的負(fù)型光刻膠會(huì)在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過(guò)程中溶解,而曝光的光刻膠則保留下來(lái),從而形成負(fù)像。
2024-03-20 11:36:505058

英特爾推出Hala Point全球最大仿神經(jīng)形態(tài)系統(tǒng),解決AI效率問(wèn)題

英特爾實(shí)驗(yàn)室神經(jīng)形態(tài)運(yùn)算總監(jiān)Mike Davies指出,“當(dāng)前AI模型訓(xùn)練及部署成本增長(zhǎng)迅速,行業(yè)亟需創(chuàng)新方法。因此,英特爾實(shí)驗(yàn)室研發(fā)了Hala Point,融合深度學(xué)習(xí)效率、類人腦持續(xù)學(xué)習(xí)和優(yōu)化功能。
2024-04-23 10:00:551168

一份PPT帶你看懂光刻膠分類、工藝、成分以及光刻膠市場(chǎng)和痛點(diǎn)

共讀好書 前烘對(duì)正顯影的影響 前烘對(duì)負(fù)顯影的影響 需要這個(gè)原報(bào)告的朋友可轉(zhuǎn)發(fā)這篇文章獲取百份資料,內(nèi)含光刻膠多份精品報(bào)告【贈(zèng)2024電子資料百份】6 月 28-30 日北京“電子化學(xué)品行業(yè)分析檢測(cè)與安全管理培訓(xùn)班”。 審核編輯 黃宇
2024-06-23 08:38:021725

光刻膠的保存和老化失效

我們?cè)谑褂?b class="flag-6" style="color: red">光刻膠的時(shí)候往往關(guān)注的重點(diǎn)是光刻膠的性能,但是有時(shí)候我們會(huì)忽略光刻膠的保存和壽命問(wèn)題,其實(shí)這個(gè)問(wèn)題應(yīng)該在我們購(gòu)買光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且,在光刻過(guò)程中如果發(fā)現(xiàn)有異常情況發(fā)生,我們
2024-07-08 14:57:083146

光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝

圖形反轉(zhuǎn)是比較常見(jiàn)的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正使用又可以作為負(fù)使用。相比而言,負(fù)工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)工藝。 應(yīng)用領(lǐng)域 在反轉(zhuǎn)工藝下,通過(guò)適當(dāng)?shù)墓に噮?shù),可以獲得底切的側(cè)壁
2024-07-09 16:06:001988

光刻膠后烘技術(shù)

后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過(guò)程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說(shuō)還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進(jìn)行。前面的文章中我們?cè)?/div>
2024-07-09 16:08:433446

光刻膠的一般特性介紹

評(píng)價(jià)一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高,所需的曝光劑量
2024-07-10 13:43:492388

光刻膠的硬烘烤技術(shù)

根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽?duì)已顯影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來(lái)實(shí)現(xiàn)整個(gè)光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅(jiān)膜。或通過(guò)低劑量紫外線輻照
2024-07-10 13:46:592702

光刻膠涂覆工藝—旋涂

為了確保光刻工藝的可重復(fù)性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求,有許多工藝可用于涂覆光刻膠。 旋涂是用光刻膠涂覆基材
2024-07-11 15:46:362757

導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些?

存儲(chǔ)時(shí)間 正和圖形反轉(zhuǎn)在存儲(chǔ)數(shù)月后會(huì)變暗,而且隨著儲(chǔ)存溫度升高而加速。因?yàn)樵擃愋?b class="flag-6" style="color: red">光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見(jiàn)光譜的部分具有很強(qiáng)的吸收能力,對(duì)紫外靈敏度沒(méi)有任何影響。這種變色過(guò)程
2024-07-11 16:07:491791

破紀(jì)錄!芯片巨頭裁員,遣散費(fèi)400萬(wàn)元/人!

萊克斯利普(Leixlip)的員工提供自愿離職方案, 補(bǔ)償金額可能高達(dá)50萬(wàn)歐元(約393萬(wàn)元人民幣,接近400萬(wàn)元人民幣)。 該提案規(guī)定,員工需在8月23日前申請(qǐng)自愿離職。根據(jù)提出的條件,服務(wù)超過(guò)兩年的員工每年可額外獲得五周工資的補(bǔ)償。這還不包
2024-08-14 09:17:14976

如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠

在微流控PDMS芯片加工的過(guò)程中,需要使用烘臺(tái)或者烤設(shè)備對(duì)SU-8光刻膠或PDMS聚合物進(jìn)行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進(jìn)行2-3次。本文簡(jiǎn)要介紹SU-8光刻膠烘烤的注意事項(xiàng)。 微流
2024-08-27 15:54:011241

一文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見(jiàn)光刻膠

共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號(hào)也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號(hào)資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識(shí)星球,領(lǐng)取公眾號(hào)資料
2024-11-01 11:08:073091

國(guó)產(chǎn)光刻膠通過(guò)半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證

來(lái)源:太紫微公司 近日,光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破:武漢太紫微光電科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱“太紫微公司”)推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品,已通過(guò)半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證,實(shí)現(xiàn)配方全自主
2024-10-17 13:22:441105

光刻膠的使用過(guò)程與原理

本文介紹了光刻膠的使用過(guò)程與原理。
2024-10-31 15:59:452789

一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng),光刻膠的需求也水漲船高,在微電子制造和納米技術(shù)等高精尖領(lǐng)域占據(jù)著至關(guān)重要的位置。
2024-11-11 10:08:214404

光刻膠清洗去除方法

光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時(shí)的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會(huì)導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
2024-11-11 17:06:222391

英特爾前CEO基辛格獲1200萬(wàn)美元離職補(bǔ)償

近日,英特爾向美國(guó)證券交易委員會(huì)(SEC)提交的文件揭示了其前CEO帕特·基辛格(Pat Gelsinger)離職后的經(jīng)濟(jì)待遇。據(jù)悉,基辛格在離職后將獲得一筆高達(dá)約1200萬(wàn)美元的離職補(bǔ)償金。 具體
2024-12-04 13:52:53743

光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能,增感劑有助于提高
2024-12-19 13:57:362091

光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí),精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了有力的技術(shù)保障
2025-05-29 09:38:531108

減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對(duì)器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
2025-06-14 09:42:56736

光刻膠旋涂的重要性及厚度監(jiān)測(cè)方法

在芯片制造領(lǐng)域的光刻工藝中,光刻膠旋涂是不可或缺的基石環(huán)節(jié),而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優(yōu)可測(cè)薄膜厚度測(cè)量?jī)xAF系列憑借高精度、高速度的特點(diǎn),為光刻膠厚度監(jiān)測(cè)提供了可靠解決方案。
2025-08-22 17:52:461542

光刻膠剝離工藝

光刻膠剝離工藝是半導(dǎo)體制造和微納加工中的關(guān)鍵步驟,其核心目標(biāo)是高效、精準(zhǔn)地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結(jié)構(gòu)。以下是該工藝的主要類型及實(shí)施要點(diǎn):濕法剝離技術(shù)有機(jī)溶劑溶解法原理:使用丙酮、NMP
2025-09-17 11:01:271282

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