1. 武漢光谷實(shí)驗(yàn)室研發(fā)量子點(diǎn)光刻膠:藍(lán)光激發(fā)紅色轉(zhuǎn)換率達(dá) 45.0%,有望應(yīng)用于 micro-LED
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武漢光谷實(shí)驗(yàn)室宣布與華中科技大學(xué)等研究團(tuán)隊(duì)合作研發(fā)出高性能量子點(diǎn)光刻膠(QD-PR),其藍(lán)光轉(zhuǎn)換效率達(dá)到 44.6%(綠色)和 45.0%(紅色),光刻精度達(dá)到 1 μm,各項(xiàng)性能指標(biāo)為行業(yè)領(lǐng)先水平。
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據(jù)介紹,目前主流的 RGB 三色 micro-LED 全彩技術(shù),存在巨量轉(zhuǎn)移次數(shù)多、成本高昂、驅(qū)動(dòng)控制電路復(fù)雜、不同顏色光衰不同等問(wèn)題,并且由于 micro-LED 尺寸減小,紅色 LED 的發(fā)光效率急劇下降。而使用單色藍(lán)光 micro-LED 激發(fā)綠色和紅色熒光材料實(shí)現(xiàn)全彩化顯示可以規(guī)避上述問(wèn)題。這些量子點(diǎn)色轉(zhuǎn)換像素還表現(xiàn)出優(yōu)異的穩(wěn)定性,在空氣中 75℃加熱 120 小時(shí)后仍能保留原始發(fā)光性能的 92.5%(紅色)和 93.4%(綠色)。
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2. 夏普考慮將半導(dǎo)體、相機(jī)模組事業(yè)出售給鴻海,具體金額未透露
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夏普宣布,正在考慮在本財(cái)年內(nèi)將半導(dǎo)體業(yè)務(wù)和智能手機(jī)用相機(jī)模組業(yè)務(wù)出售給鴻海。對(duì)于出售金額,夏普社長(zhǎng)沖津雅浩稱由于談判剛剛開(kāi)始,更多細(xì)節(jié)目前不便透露。
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早在 7 月 11 日便有報(bào)道稱,富士康集團(tuán)已進(jìn)軍先進(jìn)封裝領(lǐng)域,重點(diǎn)布局時(shí)下主流的面板級(jí)扇出封裝(FOPLP)半導(dǎo)體方案。繼旗下群創(chuàng)光電(Innolux)之后,富士康集團(tuán)投資的夏普(Sharp)也宣布進(jìn)軍日本面板級(jí)扇出式封裝領(lǐng)域,預(yù)計(jì)將于 2026 年投產(chǎn)。
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3. 傳禾賽科技將被美國(guó)國(guó)防部移出黑名單
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據(jù)多位知情人士透露,美國(guó)五角大樓認(rèn)為,全球最大的電動(dòng)汽車激光傳感器制造商禾賽科技不符合列入黑名單的法律標(biāo)準(zhǔn),因此決定將其從黑名單中移除。此前美國(guó)國(guó)防部在今年1月份將禾賽科技列入“中國(guó)軍工企業(yè)”名單。
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2021年,美國(guó)國(guó)會(huì)通過(guò)立法,要求五角大樓編制這份名單。該法案旨在加強(qiáng)對(duì)在美國(guó)運(yùn)營(yíng)的中國(guó)團(tuán)體的審查。總部位于上海的禾賽科技今年5月起訴五角大樓,稱五角大樓沒(méi)有證據(jù)表明其說(shuō)法,并稱此舉“武斷且反復(fù)無(wú)常”。
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4. 英特爾向愛(ài)爾蘭員工提供高達(dá)50萬(wàn)歐元的自愿離職補(bǔ)償金
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英特爾最近宣布將全球裁員15%,涉及1.75萬(wàn)人,以削減成本并扭轉(zhuǎn)低迷的盈利局面。在愛(ài)爾蘭,這家芯片制造商最近向其位于萊克斯利普的員工提供了高達(dá)50萬(wàn)歐元(約合人民幣392.17萬(wàn)元)的自愿離職補(bǔ)償金。
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該提案于近期分發(fā)給員工,要求員工在8月23日之前申請(qǐng)自愿離職。根據(jù)提供的條款,服務(wù)超過(guò)兩年的員工每服務(wù)一年可額外獲得5周的工資。這是愛(ài)爾蘭法定的每服務(wù)一年2周工資的補(bǔ)充,上限為每周600歐元。該提案為在英特爾工作不到兩年的員工提供每服務(wù)一年5周工資。如果自愿離職獲批,員工可以獲得價(jià)值50萬(wàn)歐元的遣散費(fèi)。申請(qǐng)?jiān)撎岚傅膯T工將于9月6日獲悉離職是否獲批,獲批的員工將于9月30日離開(kāi)英特爾。
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5. 英偉達(dá)車用域控AD1在聯(lián)寶工廠成功下線,聯(lián)想晉升Thor平臺(tái)Tier 1
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近日,“合肥經(jīng)開(kāi)發(fā)布”發(fā)文稱,日前,面向L4級(jí)自動(dòng)駕駛市場(chǎng)的車規(guī)級(jí)域控制器AD1在位于合肥經(jīng)開(kāi)區(qū)的聯(lián)寶工廠首次成功下線,意味著聯(lián)寶科技成為首批實(shí)現(xiàn)NVIDIA DRIVE Thor芯片產(chǎn)品生產(chǎn)落地的工廠,聯(lián)想也憑此成為首批成功點(diǎn)亮NVIDIA DRIVE Thor平臺(tái)的汽車一級(jí)供應(yīng)商。
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據(jù)介紹,聯(lián)寶科技生產(chǎn)的AD1是針對(duì)L4級(jí)自動(dòng)駕駛商業(yè)應(yīng)用場(chǎng)景的需求而規(guī)劃、設(shè)計(jì)的車規(guī)級(jí)域控制器產(chǎn)品。根據(jù)天眼查,聯(lián)寶(合肥)電子科技有限公司成立于2011年,位于安徽省合肥市,由聯(lián)想與仁寶兩家公司合資建立,是一家以從事計(jì)算機(jī)、通信和其他電子設(shè)備制造業(yè)為主的企業(yè),注冊(cè)資本26500萬(wàn)美元。2017年,聯(lián)寶營(yíng)收突破500億元,成為了聯(lián)想最大的PC研發(fā)和制造基地。
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6. 蘋果取消推出 Micro-LED 面板 Apple Watch,消息稱 LG 公司遭“背刺”正尋求賠償
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據(jù)韓媒報(bào)道,由于蘋果公司決定放慢新型面板的應(yīng)用速度,目前該公司已取消推出搭載 Micro-LED 屏幕的 Apple Watch 手表。雖然蘋果公司并未向 LG 公司下達(dá)任何 Micro-LED 訂單,但外媒提到 LG 公司實(shí)際上已經(jīng)根據(jù)行業(yè)風(fēng)聲對(duì) Micro-LED 技術(shù)進(jìn)行了數(shù)百億韓元的投資,同時(shí)還成立了一個(gè)特別工作組為蘋果 Apple Watch 所用的 Micro-LED 面板確保工藝空間。
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雖然蘋果公司與 LG 公司之間并未就此事構(gòu)成任何嚴(yán)格意義上的法律責(zé)任,但外媒報(bào)告表明,一個(gè)可能的結(jié)果是,蘋果將提高向 LG 支付的 iPhone 和 iPad OLED 面板價(jià)格作為“LG 特意提前為蘋果 Micro-LED Apple Watch 做準(zhǔn)備”的“補(bǔ)償形式”,從而保證供應(yīng)鏈間的伙伴關(guān)系。
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今日看點(diǎn)丨英特爾提供高達(dá)50萬(wàn)歐元的自愿離職補(bǔ)償金;武漢光谷實(shí)驗(yàn)室研發(fā)量子點(diǎn)光刻膠
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Futurrex,成立于1985年,位總部設(shè)在美國(guó)新澤西州,富蘭克林市。 公司業(yè)務(wù)范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開(kāi)發(fā)最高端產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長(zhǎng)的歷史,尤其是其光刻膠
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SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡(jiǎn)介:新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU- 8 膠是一種負(fù)性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠,克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問(wèn)題,十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。SU- 8
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3580英特爾攜手今日頭條成立技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室
近日,英特爾公司聯(lián)合今日頭條在北京召開(kāi)了以“數(shù)據(jù)賦能AI正當(dāng)時(shí)”為主題聯(lián)合發(fā)布會(huì),雙方宣布成立技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室。
2018-08-24 15:50:18
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3713英特爾與今日頭條達(dá)成戰(zhàn)略合作協(xié)議
今天,以“數(shù)據(jù)賦能 AI正當(dāng)時(shí)”為主題的英特爾與今日頭條戰(zhàn)略合作聯(lián)合發(fā)布會(huì)暨技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室發(fā)布會(huì)在北京舉辦。
2018-08-30 15:06:51
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4294英特爾推出了技術(shù)學(xué)習(xí)實(shí)驗(yàn)室來(lái)開(kāi)展VR教育
許多學(xué)校和教育機(jī)構(gòu)已經(jīng)在嘗試使用虛擬現(xiàn)實(shí)(VR)作為增強(qiáng)和改善學(xué)生教育體驗(yàn)的手段。英特爾也沒(méi)有忽略這一趨勢(shì),推出了技術(shù)學(xué)習(xí)實(shí)驗(yàn)室(Tech Learning Lab)開(kāi)展VR教育。
2018-10-18 14:08:37
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1440英特爾推出一款技術(shù)學(xué)習(xí)實(shí)驗(yàn)室,利用VR進(jìn)行學(xué)員技術(shù)培訓(xùn)
英特爾宣布推出一款技術(shù)學(xué)習(xí)實(shí)驗(yàn)室,這款實(shí)驗(yàn)室被裝載在一個(gè)定制的移動(dòng)集裝箱卡車上,配備VR演示站、強(qiáng)大的電腦和物聯(lián)網(wǎng)智能白板。
2018-10-22 15:29:41
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1629浪潮與英特爾合作助力全球AI產(chǎn)業(yè)發(fā)展
隨著本次聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室擴(kuò)展將人工智能納入工作范疇,雙方將匯集浪潮與英特爾的優(yōu)秀工程與研發(fā)團(tuán)隊(duì),專注于AI計(jì)算、算法和應(yīng)用的聯(lián)合創(chuàng)新,包括英特爾下一代至強(qiáng)可擴(kuò)展處理器(代號(hào)為“”Cascade Lake”)的AI軟件優(yōu)化。
2018-11-18 10:26:50
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1018高通財(cái)務(wù)長(zhǎng)戴維斯宣布離職 將轉(zhuǎn)任英特爾財(cái)務(wù)長(zhǎng)
芯片大廠高通和英特爾周二表示,高通財(cái)務(wù)長(zhǎng)戴維斯(George Davis)已離職,將轉(zhuǎn)任英特爾財(cái)務(wù)長(zhǎng)。
2019-04-03 17:32:48
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3237上海新陽(yáng)再次轉(zhuǎn)換戰(zhàn)場(chǎng) 選擇研發(fā)3D NAND用的KrF 光刻膠
2018年,南大光電和上海新陽(yáng)先后宣布,投入ArF光刻膠產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)與產(chǎn)業(yè)化,立志打破集成電路制造最為關(guān)鍵的基礎(chǔ)材料之一——高檔光刻膠材料幾乎完全依賴于進(jìn)口的局面,填補(bǔ)國(guó)內(nèi)高端光刻膠材料產(chǎn)品的空白。
2019-05-21 09:24:24
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關(guān)于英特爾神秘實(shí)驗(yàn)室的分析和介紹
事實(shí)上,英特爾無(wú)人駕駛事業(yè)部成立之前,英特爾的物聯(lián)網(wǎng)事業(yè)部就已經(jīng)在智能交通和智能汽車領(lǐng)域深耕多年,建樹頗多。早期,英特爾車載創(chuàng)新和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)中心以及英特爾實(shí)驗(yàn)室在人車互動(dòng)、提升駕駛體驗(yàn),如何利用先進(jìn)的傳感、計(jì)算和互連數(shù)據(jù)革命性地改變出行方式等領(lǐng)域進(jìn)行探索。
2019-09-11 11:20:42
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2459南大光電將建成光刻膠生產(chǎn)線,明年或光刻機(jī)進(jìn)場(chǎng)
今年7月17日,南大光電在互動(dòng)平臺(tái)透露,公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部,并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”,全力推進(jìn)“ArF光刻膠開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”落地實(shí)施。目前該項(xiàng)目完成的研發(fā)技術(shù)正在等待驗(yàn)收中,預(yù)計(jì)2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線,項(xiàng)目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
2019-12-16 13:58:52
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8273英特爾公司著名高管吉姆 凱勒離職,曾參與蘋果和特斯拉芯片研發(fā)
英特爾著名高管吉姆·凱勒(JimKeller)已于6月11日離職。他于兩年前加入英特爾,主要領(lǐng)導(dǎo)和負(fù)責(zé)英特爾的系統(tǒng)芯片的研發(fā)集成。
2020-06-12 11:09:51
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4034LCD光刻膠需求快速增長(zhǎng),政策及國(guó)產(chǎn)化風(fēng)向帶動(dòng)國(guó)產(chǎn)廠商發(fā)展
光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類,大致分為L(zhǎng)CD光刻膠、PCB光刻膠(感光油墨)與半導(dǎo)體光刻膠等。按照下游應(yīng)用來(lái)看,目前LCD光刻膠占比26.6%,刻膠占比24.5%,半導(dǎo)體光刻膠占比24.1%,PCB光其他類光刻膠占比24.8%。
2020-06-12 17:13:39
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6218一文帶你看懂光刻膠
來(lái)源:浙商證券研究院 光刻膠又稱光致抗蝕劑,是一種對(duì)光敏感的混合液體。其組成部分包括:光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過(guò)光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等
2020-09-15 14:00:14
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20205雅克科技投入12億到光刻膠研發(fā)當(dāng)中
開(kāi)發(fā)行股票計(jì)劃募集資金總額不超過(guò)人民幣 120,000.00萬(wàn)元,扣除發(fā)行費(fèi)用后的募集資金凈額擬投入以下項(xiàng)目。其中,有8.5億元將會(huì)投入到新一代電子信息材料國(guó)產(chǎn)化項(xiàng)目-光刻膠及光刻膠配套試劑研發(fā)當(dāng)中。 雅克科技于2010年在深交所中小企業(yè)板上市,主
2020-09-24 10:32:01
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集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目存6大難點(diǎn)
對(duì)公司光刻膠業(yè)務(wù)的具體影響等問(wèn)題。 10月12日,晶瑞股份發(fā)布關(guān)于深圳證券交易所關(guān)注函的回復(fù)公告稱,本次擬購(gòu)買的光刻機(jī)設(shè)備將用于公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目,將有助于公司將光刻膠產(chǎn)品序列實(shí)現(xiàn)到ArF光刻膠的跨越,并最終實(shí)
2020-10-21 10:32:10
5003
5003南大光電自主研發(fā)的 ArF(193nm)光刻膠成功通過(guò)認(rèn)證
今日南大光電發(fā)布公告稱,其控股子公司 “寧波南大光電”自主研發(fā)的 ArF(193nm)光刻膠產(chǎn)品近日成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。報(bào)告顯示,“本次認(rèn)證選擇客戶 50nm 閃存產(chǎn)品中的控制柵進(jìn)行驗(yàn)證,寧波南
2020-12-18 09:29:42
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7279中國(guó)終于打破日本在光刻膠的壟斷地位
昨夜晚間,寧波南大光電發(fā)表公告稱,公司自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品 近日成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。
2020-12-18 09:52:10
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3957晶瑞順利購(gòu)得 ASML XT 1900 Gi 型光刻機(jī)一臺(tái),可研發(fā)最高分辨率達(dá) 28nm 的高端光刻膠
晶瑞股份發(fā)布公告:經(jīng)多方協(xié)商、積極運(yùn)作,該公司順利購(gòu)得 ASML XT 1900 Gi 型光刻機(jī)一臺(tái)。 該光刻機(jī)于 2021 年 1 月 19 日運(yùn)抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實(shí)驗(yàn)室,即將組織
2021-01-20 16:34:00
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7356晶瑞股份成功打造高端光刻膠研發(fā)實(shí)驗(yàn)室
1月19日晚,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體材料公司晶瑞股份發(fā)表公告,宣稱購(gòu)得ASML公司光刻機(jī)一臺(tái),將用于高端光刻膠項(xiàng)目。
2021-01-21 09:35:51
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3579光刻膠板塊的大漲吸引了產(chǎn)業(yè)注意 ,國(guó)產(chǎn)光刻膠再遇發(fā)展良機(jī)?
5月27日,半導(dǎo)體光刻膠概念股開(kāi)盤即走強(qiáng),截至收盤,A股光刻膠板塊漲幅達(dá)6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停,容大感光大漲13.28%,揚(yáng)帆新材大漲11.37%,南大光電
2021-05-28 10:34:15
4020
4020光刻膠和光刻機(jī)的關(guān)系
光刻膠是光刻機(jī)研發(fā)的重要材料,換句話說(shuō)光刻機(jī)就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:00
15756
15756改善去除負(fù)光刻膠效果的方法報(bào)告
摘要 我們?nèi)A林科納提出了一種新型的雙層光阻劑方法來(lái)減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對(duì)浮渣平均數(shù)量的影響。實(shí)驗(yàn)表明,低粘度正光刻膠
2022-01-26 11:43:22
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晶片光刻膠處理系統(tǒng)的詳細(xì)介紹
摘要 在這項(xiàng)工作中,研究了新一代相流體剝離溶液在各種半導(dǎo)體光刻膠中的應(yīng)用。這些實(shí)驗(yàn)中使用的獨(dú)特的水基智能流體配方均為超大規(guī)模集成電路級(jí),與銅兼容且無(wú)毒。實(shí)驗(yàn)的第一階段是確定是否在合理的時(shí)間內(nèi)與光刻膠
2022-03-03 14:20:05
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采用雙層抗蝕劑法去除負(fù)光刻膠
本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來(lái)減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對(duì)浮渣平均數(shù)量的影響。實(shí)驗(yàn)表明,低粘度正光刻膠AZ703
2022-03-24 16:04:23
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1451
干法刻蝕去除光刻膠的技術(shù)
灰化,簡(jiǎn)單的理解就是用氧氣把光刻膠燃燒掉,光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物,在射頻或微波作用下,氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通過(guò)泵被真空抽走,完成光刻膠的去除。
2022-07-21 11:20:17
8339
8339光刻膠為何要謀求國(guó)產(chǎn)替代
南大光電最新消息顯示,國(guó)產(chǎn)193nm(ArF)光刻膠研發(fā)成功,這家公司成為通過(guò)國(guó)家“02專項(xiàng)”驗(yàn)收的ArF光刻膠項(xiàng)目實(shí)施主體;徐州博康宣布,該公司已開(kāi)發(fā)出數(shù)十種高端光刻膠產(chǎn)品系列,包括
2022-08-31 09:47:14
2371
2371光刻膠的原理和正負(fù)光刻膠的主要組分是什么
光刻膠的組成:樹脂(resin/polymer),光刻膠中不同材料的粘合劑,給與光刻膠的機(jī)械與化學(xué)性質(zhì)(如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等);感光劑,感光劑對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng);溶劑(Solvent
2022-10-21 16:40:04
23795
23795國(guó)產(chǎn)光刻膠市場(chǎng)前景 國(guó)內(nèi)廠商迎來(lái)發(fā)展良機(jī)
10%-15%,對(duì)應(yīng)的 PAG 用量為一般按樹脂重量的 6%-8%添加,最 終 PAG 的成本占光刻膠總成本的 10%-20%。從單價(jià)看,KrF 光刻膠用 PAG 的價(jià)格在 0.5-1.5萬(wàn)元/kg
2022-11-18 10:07:43
4882
4882「前沿技術(shù)」英特爾以硅基技術(shù)成功制造量子芯片
在2022年硅量子電子研討會(huì)上,英特爾實(shí)驗(yàn)室宣布以現(xiàn)有硅基半導(dǎo)體技術(shù)成功生產(chǎn)自旋量子計(jì)算芯片,這為未來(lái)量產(chǎn)量子計(jì)算機(jī)打下基礎(chǔ)。英特爾表示,最新研究結(jié)果是目前業(yè)界最大的硅基自旋量子運(yùn)算芯片,量產(chǎn)芯片
2022-11-25 17:03:37
2405
2405「前沿技術(shù)」英特爾以硅基技術(shù)成功制造量子芯片
來(lái)源:《半導(dǎo)體芯科技》雜志10/11期 在2022年硅量子電子研討會(huì)上,英特爾實(shí)驗(yàn)室宣布以現(xiàn)有硅基半導(dǎo)體技術(shù)成功生產(chǎn)自旋量子計(jì)算芯片,這為未來(lái)量產(chǎn)量子計(jì)算機(jī)打下基礎(chǔ)。英特爾表示,最新研究結(jié)果是目前
2022-11-28 17:22:33
1642
1642高端光刻膠通過(guò)認(rèn)證 已經(jīng)用于50nm工藝
此前該公司指出,公司已建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠生產(chǎn)線、年產(chǎn)20噸ArF浸沒(méi)式光刻膠生產(chǎn)線及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純?cè)噭┥a(chǎn)線,具備ArF光刻膠及配套關(guān)鍵組分材料的生產(chǎn)能力,目前公司送樣驗(yàn)證的產(chǎn)品均由該自建產(chǎn)線產(chǎn)出。
2023-04-11 09:25:32
1910
1910英特爾量子芯片,重磅公布
目前,學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)沒(méi)有像英特爾這樣的大批量制造制造設(shè)備。有了 Tunnel Falls,研究人員可以立即開(kāi)始進(jìn)行實(shí)驗(yàn)和研究,而不是嘗試制造自己的設(shè)備。因此,更廣泛的實(shí)驗(yàn)成為可能,包括更多地了解量子位和量子點(diǎn)的基礎(chǔ)知識(shí),以及開(kāi)發(fā)用于使用具有多個(gè)量子位的設(shè)備的新技術(shù)。
2023-06-20 15:38:56
1255
1255光刻膠黏度如何測(cè)量?光刻膠需要稀釋嗎?
光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項(xiàng)重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:11
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2940
不僅需要***,更需要光刻膠
為了生產(chǎn)高純度、高質(zhì)量的光刻膠,需要高純度的配方原料,例如光刻樹脂,溶劑PGMEA…此外,生產(chǎn)過(guò)程中的反應(yīng)釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測(cè)也是至關(guān)重要的控制環(huán)節(jié)。例如,2019年,某家半導(dǎo)體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染,導(dǎo)致上萬(wàn)片12吋晶圓報(bào)廢
2023-11-27 17:15:48
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1717萬(wàn)潤(rùn)股份在半導(dǎo)體制造材料領(lǐng)域穩(wěn)步推進(jìn),涉足光刻膠單體、PI等業(yè)務(wù)
近期,萬(wàn)潤(rùn)股份在接受機(jī)構(gòu)調(diào)研時(shí)透露,其“年產(chǎn)65噸半導(dǎo)體用光刻膠樹脂系列”項(xiàng)目已經(jīng)順利投入運(yùn)營(yíng)。該項(xiàng)目旨在為客戶提供專業(yè)的半導(dǎo)體用光刻膠樹脂類材料。
2023-12-12 14:02:58
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2311勻膠速度影響光刻膠的哪些性質(zhì)?
勻膠是光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻膠中至關(guān)重要的參數(shù),那么我們?cè)趧?b class="flag-6" style="color: red">膠時(shí),是如何確定勻膠速度呢?它影響光刻膠的哪些性質(zhì)?
2023-12-15 09:35:56
3928
3928
光刻膠分類與市場(chǎng)結(jié)構(gòu)
光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三達(dá)應(yīng)用場(chǎng)景。
2024-01-03 18:12:21
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瑞紅集成電路高端光刻膠總部落戶吳中
據(jù)吳中發(fā)布的最新消息,簽約項(xiàng)目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項(xiàng)目,該項(xiàng)投資高達(dá)15億元,旨在新建半導(dǎo)體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。
2024-01-26 09:18:43
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1197如何在芯片中減少光刻膠的使用量
光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來(lái)定。比如對(duì)于需要長(zhǎng)時(shí)間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場(chǎng)景,較厚的光刻膠層能提供更長(zhǎng)的耐蝕刻時(shí)間。
2024-03-04 10:49:16
2061
2061
光刻膠和光刻機(jī)的區(qū)別
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:18
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9618光谷實(shí)驗(yàn)室研發(fā)短波紅外成像膠體量子點(diǎn)芯片
近日,首個(gè)膠體量子點(diǎn)成像芯片在光谷實(shí)驗(yàn)室研發(fā)成功,其具備優(yōu)異性能。該芯片已能實(shí)現(xiàn)短波紅外成像,面陣規(guī)模達(dá)到30萬(wàn),盲元率低于每十萬(wàn)個(gè)像素中只有6個(gè)因素導(dǎo)致信號(hào)丟失,圖像波長(zhǎng)范圍為0.4至1.7微米
2024-03-07 15:22:43
2267
2267要讓量子計(jì)算走出實(shí)驗(yàn)室
轉(zhuǎn)自環(huán)球時(shí)報(bào)環(huán)球時(shí)報(bào)記者張蔚藍(lán)陳子帥原稿標(biāo)題:中國(guó)科學(xué)院量子信息重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室副主任郭國(guó)平:要讓量子計(jì)算走出實(shí)驗(yàn)室原文鏈接:https://m.huanqiu.com/article
2024-03-06 08:21:05
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武漢光谷實(shí)驗(yàn)室短波紅外芯片完成中試,年內(nèi)預(yù)計(jì)銷售千萬(wàn)元
一顆黃豆大小的芯片,利用新技術(shù)膠體量子點(diǎn)紅外探測(cè)成像做成“視覺(jué)芯片”,裝到手機(jī)、檢測(cè)器上,可以“穿透”介質(zhì),看到肉眼看不到的“真相”。 光谷實(shí)驗(yàn)室近日宣布,其聯(lián)合科研團(tuán)隊(duì)(華中科技大學(xué)實(shí)驗(yàn)室、溫州
2024-03-12 08:43:40
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974光谷實(shí)驗(yàn)室研發(fā)膠體量子點(diǎn)成像芯片,有望顛覆短波紅外市場(chǎng)
湖北光谷實(shí)驗(yàn)室近日宣布,其科研團(tuán)隊(duì)研發(fā)的膠體量子點(diǎn)成像芯片已實(shí)現(xiàn)短波紅外成像,面陣規(guī)模30萬(wàn)、盲元率低于6‰、波長(zhǎng)范圍0.4-1.7微米、暗電流密度小于50 nA/cm2、外量子效率高于60%,號(hào)稱“性能優(yōu)越”。
2024-03-12 14:46:59
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1826關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹
與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會(huì)形成相反的圖案。基于聚合物的負(fù)型光刻膠會(huì)在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過(guò)程中溶解,而曝光的光刻膠則保留下來(lái),從而形成負(fù)像。
2024-03-20 11:36:50
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英特爾推出Hala Point全球最大仿神經(jīng)形態(tài)系統(tǒng),解決AI效率問(wèn)題
英特爾實(shí)驗(yàn)室神經(jīng)形態(tài)運(yùn)算總監(jiān)Mike Davies指出,“當(dāng)前AI模型訓(xùn)練及部署成本增長(zhǎng)迅速,行業(yè)亟需創(chuàng)新方法。因此,英特爾實(shí)驗(yàn)室研發(fā)了Hala Point,融合深度學(xué)習(xí)效率、類人腦持續(xù)學(xué)習(xí)和優(yōu)化功能。
2024-04-23 10:00:55
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1168一份PPT帶你看懂光刻膠分類、工藝、成分以及光刻膠市場(chǎng)和痛點(diǎn)
共讀好書 前烘對(duì)正膠顯影的影響 前烘對(duì)負(fù)膠膠顯影的影響 需要這個(gè)原報(bào)告的朋友可轉(zhuǎn)發(fā)這篇文章獲取百份資料,內(nèi)含光刻膠多份精品報(bào)告【贈(zèng)2024電子資料百份】6 月 28-30 日北京“電子化學(xué)品行業(yè)分析檢測(cè)與安全管理培訓(xùn)班”。 審核編輯 黃宇
2024-06-23 08:38:02
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光刻膠的保存和老化失效
我們?cè)谑褂?b class="flag-6" style="color: red">光刻膠的時(shí)候往往關(guān)注的重點(diǎn)是光刻膠的性能,但是有時(shí)候我們會(huì)忽略光刻膠的保存和壽命問(wèn)題,其實(shí)這個(gè)問(wèn)題應(yīng)該在我們購(gòu)買光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且,在光刻過(guò)程中如果發(fā)現(xiàn)有異常情況發(fā)生,我們
2024-07-08 14:57:08
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3146光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝
圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見(jiàn)的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正膠使用又可以作為負(fù)膠使用。相比而言,負(fù)膠工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)膠工藝。 應(yīng)用領(lǐng)域 在反轉(zhuǎn)工藝下,通過(guò)適當(dāng)?shù)墓に噮?shù),可以獲得底切的側(cè)壁
2024-07-09 16:06:00
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光刻膠后烘技術(shù)
后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過(guò)程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說(shuō)還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進(jìn)行。前面的文章中我們?cè)?/div>
2024-07-09 16:08:43
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光刻膠的一般特性介紹
評(píng)價(jià)一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高,所需的曝光劑量
2024-07-10 13:43:49
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2388光刻膠的硬烘烤技術(shù)
根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽?duì)已顯影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來(lái)實(shí)現(xiàn)整個(gè)光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅(jiān)膜。或通過(guò)低劑量紫外線輻照
2024-07-10 13:46:59
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光刻膠涂覆工藝—旋涂
為了確保光刻工藝的可重復(fù)性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求,有許多工藝可用于涂覆光刻膠。 旋涂是用光刻膠涂覆基材
2024-07-11 15:46:36
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2757導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些?
存儲(chǔ)時(shí)間 正膠和圖形反轉(zhuǎn)膠在存儲(chǔ)數(shù)月后會(huì)變暗,而且隨著儲(chǔ)存溫度升高而加速。因?yàn)樵擃愋?b class="flag-6" style="color: red">光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見(jiàn)光譜的部分具有很強(qiáng)的吸收能力,對(duì)紫外靈敏度沒(méi)有任何影響。這種變色過(guò)程
2024-07-11 16:07:49
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1791破紀(jì)錄!芯片巨頭裁員,遣散費(fèi)400萬(wàn)元/人!
萊克斯利普(Leixlip)的員工提供了自愿離職方案, 補(bǔ)償金額可能高達(dá)50萬(wàn)歐元(約393萬(wàn)元人民幣,接近400萬(wàn)元人民幣)。 該提案規(guī)定,員工需在8月23日前申請(qǐng)自愿離職。根據(jù)提出的條件,服務(wù)超過(guò)兩年的員工每年可額外獲得五周工資的補(bǔ)償。這還不包
2024-08-14 09:17:14
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976如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?
在微流控PDMS芯片加工的過(guò)程中,需要使用烘膠臺(tái)或者烤膠設(shè)備對(duì)SU-8光刻膠或PDMS聚合物進(jìn)行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進(jìn)行2-3次。本文簡(jiǎn)要介紹SU-8光刻膠烘烤的注意事項(xiàng)。 微流
2024-08-27 15:54:01
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1241一文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見(jiàn)光刻膠
共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號(hào)也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號(hào)資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識(shí)星球,領(lǐng)取公眾號(hào)資料
2024-11-01 11:08:07
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3091國(guó)產(chǎn)光刻膠通過(guò)半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證
來(lái)源:太紫微公司 近日,光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破:武漢太紫微光電科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱“太紫微公司”)推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品,已通過(guò)半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證,實(shí)現(xiàn)配方全自主
2024-10-17 13:22:44
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一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望
光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng),光刻膠的需求也水漲船高,在微電子制造和納米技術(shù)等高精尖領(lǐng)域占據(jù)著至關(guān)重要的位置。
2024-11-11 10:08:21
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光刻膠清洗去除方法
光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時(shí)的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會(huì)導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
2024-11-11 17:06:22
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英特爾前CEO基辛格獲1200萬(wàn)美元離職補(bǔ)償
近日,英特爾向美國(guó)證券交易委員會(huì)(SEC)提交的文件揭示了其前CEO帕特·基辛格(Pat Gelsinger)離職后的經(jīng)濟(jì)待遇。據(jù)悉,基辛格在離職后將獲得一筆高達(dá)約1200萬(wàn)美元的離職補(bǔ)償金。 具體
2024-12-04 13:52:53
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743光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料
光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能,增感劑有助于提高
2024-12-19 13:57:36
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2091光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí),精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了有力的技術(shù)保障
2025-05-29 09:38:53
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減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量
? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對(duì)器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
2025-06-14 09:42:56
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光刻膠旋涂的重要性及厚度監(jiān)測(cè)方法
在芯片制造領(lǐng)域的光刻工藝中,光刻膠旋涂是不可或缺的基石環(huán)節(jié),而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優(yōu)可測(cè)薄膜厚度測(cè)量?jī)xAF系列憑借高精度、高速度的特點(diǎn),為光刻膠厚度監(jiān)測(cè)提供了可靠解決方案。
2025-08-22 17:52:46
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光刻膠剝離工藝
光刻膠剝離工藝是半導(dǎo)體制造和微納加工中的關(guān)鍵步驟,其核心目標(biāo)是高效、精準(zhǔn)地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結(jié)構(gòu)。以下是該工藝的主要類型及實(shí)施要點(diǎn):濕法剝離技術(shù)有機(jī)溶劑溶解法原理:使用丙酮、NMP
2025-09-17 11:01:27
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