記者２３日從中科院光電技術研究所獲悉，該所微電子專用設備研發團隊自主研制成功紫外納米壓印光刻機。
2016-03-24 08:28:51
14774 壓印光刻是許多新興應用的關鍵技術，例如微光學、增強現實、MEMS和光電傳感器;但它是什么以及它是如何工作的?
2022-07-25 16:15:072070 
2013年韓國首爾納米技術展NANO KOREA2013年韓國納米展 韓國納米展 首爾納米展新材料展 微電子技術展 精密陶瓷展展會時間:2013年7月 10-12日主辦單位：韓國納米組織委員會 韓國
2013-02-24 13:52:34
隨著半導體技術的發展，光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數量級（從毫米級到亞微米級），已從常規光學技術發展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
關于
光刻工藝的原理，大家可以想象一下膠片照片的沖洗，掩膜版就相當于膠片，而
光刻機就是沖洗臺，它把掩膜版上的芯片電路一個個的復制到
光刻膠薄膜上，然后通過刻蝕
技術把電路“畫”在晶圓上?！ ‘斎?/div>
2020-07-07 14:22:55
芯片制造流程其實是多道工序將各種特性的材料打磨成形，經循環往復百次后，在晶圓上“刻”出各種電子特性的區域，最后形成數十億個晶體管并被組合成電子元件。那光刻，整個流程中的一個重要步驟，其實并沒有
2020-09-02 17:38:07
關于納米級電接觸電阻測量的新技術看完你就懂了
2021-04-09 06:43:22
納米技術的在中國是一個新技術，中國能做的就一兩家。納米防水技術要有特殊的設備，都要自我研發，加納米材料，以及技術。應用領域可滿足手機等消費電子產品，服飾，登山鞋等紡織品以及醫療領域相關產品防水抗潮
2018-09-19 13:34:06
、東南亞產品，衣鞋等。注意：1.網上很多自己噴上去的，還很好賣，這些附著力很差的，可以說是一次性的，上面有灰塵、水分。鞋子有納米防水鍍膜始需要可靠性測試的。某國際品牌已經在做測試2.街頭的那個納米防水技術，還現場演示。實踐是檢驗真理的唯一標準。忽悠老板姓。
2018-10-09 09:54:28
隨著納米技術和生物傳感器交叉融合的發展，越來越多的新型納米生物傳感器涌現出來，如量子點、DNA、寡核苷配體等納米生物傳感器。
2020-04-21 06:27:50
提到納米技術，人們可能會覺得離自己好遠。其實納米材料在幾個世紀前，就已經在陶瓷釉和有色窗玻璃染色劑中使用。1990年代末以來，納米技術越來越多的投入到應用中?，F在，全球各地的科學家和工程師都在對這個
2021-08-31 08:13:56
納米技術是怎么回事看完你就懂了
2021-05-13 07:26:16
`納米防水技術還在推廣當中。很多人沒接觸過。納米技術的防水、防潮，耐腐蝕。技術的應用的比較廣，比如音響喇叭網，容易吸潮，納米鍍膜后完全不會吸潮。對音質測試完全無影響。藍牙耳機耐汗耐腐蝕。鞋子防水抗濺，莫高檔品牌已經在做了。LED防水防潮等等。`
2018-09-21 15:26:09
詳細介紹ATECLOUD智能云測試平臺。產品特點：零代碼編程；快速搭建測試方案；多臺設備多線程測試；遠程監
2022-01-03 07:34:15
;互聯網的出現讓我們與世界的聯系更加緊密?？萍几淖冎?，也改變著世界。 在去年，有一個新的科學技術逐漸被我們所認識和關注。它已經較為普遍的應用于我們的出行、工作中，但我們對它卻知之甚少，甚至沒有太多人知道它的名字。今天筆者就向各位介紹一下它——NFC。
2019-07-12 06:11:38
三種常見的光刻技術方法根據暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻技術。 ◆投影式暴光是利用透鏡或反射鏡將掩膜版上的圖形投影到襯底上的暴光方法.在這種暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
納米級電氣的特性是什么？
2021-05-12 06:22:56
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分別采用了什么芯片？ 3協同通信的方式有哪些？ 4大數據及認知無線電（名詞解釋） 4半導體工藝的4個主要步驟： 4簡敘半導體光刻技術基本原理 4給出4個全球著名的半導體設備制造商并指出其生產的設備核心技術： 5衛
2021-07-26 08:31:09
的韋亞一研究員及其團隊具有多年的學術界及工業界的光刻技術經驗積累，并出版有多本專著，其中《計算光刻與版圖優化》一書更是列入中國科學院大學研究生教學輔導書系列。本號獲授權將陸續介紹《集成電路先進光刻技術
2021-10-14 09:58:07
。 SuPR-NaP法是向氟類聚合物層照射紫外線，使圖案部分形成潛影，然后在上面掃過銀納米墨，以化學方式使銀納米墨僅吸附在圖案部分，形成布線。產綜研等單位在介紹該技術的發布會上，向新聞媒體公開了實驗室水平
2016-04-26 18:30:37
求介紹納米定位臺是怎么運行的？、
2013-06-21 15:21:53
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統）等微細結構。光刻機是一種光學投影技術，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
據Pixelligent Technologies LLC表示，該公司開發出一種據稱可提高現有光刻設備分辨率的納米晶（nanocrystalline）材料，使光學光刻（Optical lithography）可擴展至32納米以下。
2009-06-07 18:31:181781 英特爾認為浸入式光刻能延伸到11納米
英特爾的先進光刻和制造部的Yan Borodovsky表明,英特爾希望EUV或者無掩模電子束光刻能作為193納米浸入式光刻在11納米的后補者
2010-02-25 10:17:551136 
隨著 納米加工 技術的發展,納米結構器件必將成為將來的集成電路的基礎. 本文介紹了幾種用電子束光刻、反應離子刻蝕方法制備硅量子線、量子點和用電子束光刻、電子束蒸發以及剝
2011-06-20 16:16:09
36 本文主要介紹集成電路加工-光刻技術與光刻膠。集成電路加工主要設備和材料：光刻設備，半導體材料：單晶硅等，掩膜，化學品：光刻膠（光致抗蝕劑），超高純試劑，封裝材料及光刻機的介紹
2017-09-29 16:59:0218 對于邏輯器件、存儲器件等主流IC行業，可以利用不同技術實現10nm以下工藝的光刻設備商只有三家：荷蘭ASML–EUV（極紫外光）光刻、日本尼康–浸沒式DUV（深紫外光）光刻、日本佳能–納米壓印光刻（NIL）
2018-03-24 10:10:001838 
從2009年開始算起，中國研究團隊一路攻堅克難，國產首套90納米高端光刻機已于近期第一次成功曝光。2022年左右有望完成驗收。這意味著，中國半導體材料和設備（工藝技術）產業又向前跨出了關鍵一大步
2018-04-10 10:57:41248746 穩定的微納集成結構不僅能為研究納米材料的光、電等方面的性能提供方便，還可能為功能微/納米電子器件的研制打下基礎。
2018-06-12 19:16:1514361 ”的同時，NGL正在研究，包括極紫外線光刻技術，電子束光刻技術，X射線光刻技術，納米壓印技術等。
光學光刻技術
光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件
2018-06-27 15:43:5013171 西村涼博士表示，液晶聚合物相位差膜的價格原來比較高，10年以來一直在降低成本，JXTG也通過很多其他材料特性來做驗證，而最終成功研發出納米壓印技術來實現更簡單的工藝和制造成本。JXTG的納米壓印技術，可通過周期性的納米尺寸凹凸構造從而實現相位延遲。
2018-07-13 10:51:346641 通過驗收，這是我國成功研制出的世界首臺分辨力最高紫外超分辨光刻裝備。該***由中國科學院光電技術研究所研制，光刻分辨力達到22納米，結合多重曝光技術后，可用于制造10納米級別的芯片。
中科院
2018-12-01 09:29:4515360 的技術水平上獲得更高分辨率的光刻圖形。如1999年初Canon公司推出的FPA-1000ASI掃描步進機，該機的光源為193納米，通過采用波前技術，可在300毫米硅片上實現0.13微米光刻線寬。
光刻
2019-01-02 16:32:2329609 近日，據外媒報道，一個國際研究團隊報告說，在制造納米芯片方面取得了突破性進展。這一突破可能對納米芯片的生產和全球各地的納米技術實驗室產生深遠的影響。
2019-02-11 09:28:392875 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-02-25 10:07:536886 隨著半導體行業持續突破設計尺寸不斷縮小的極限，極紫外 （EUV） 光刻技術的運用逐漸擴展到大規模生產環境中。對于 7 納米及更小的高級節點，EUV 光刻技術是一種能夠簡化圖案形成工藝的支持技術。要在如此精細的尺寸下進行可靠制模，超凈的掩模必不可少。
2019-07-03 15:32:372675 
德克薩斯州奧斯汀 - 國際Sematech公司的研究經理表示，他們對將光刻技術擴展到生產的可能性更加樂觀一組專家回顧了下一代157納米曝光工具關鍵材料的最新發展后，低于0.10微米技術節點的集成電路。
2019-08-13 10:53:594676 聯合工作將在EVG的NILPhotonics能力中心開展，這是一個開放式的光刻/納米壓印（NIL）技術創新孵化器，同時也是全球唯一可及的300-mm光刻/納米壓印技術線 2019年8月28日，奧地利
2019-08-29 22:48:032854 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-12-21 09:58:4023318 本文首先介紹了納米技術的定義，其次闡述了生活中中納米技術的應用，最后介紹了納米技術給人類帶來好處。
2020-04-09 15:07:1825442 近日，埃眸科技與常熟高新區正式簽署項目協議，打造納米壓印光刻機生產線。
2020-04-13 16:18:059002 臺，完成圖像的納米定位加工。納米光刻技術是制作納米結構的關鍵，具有廣闊的應用前景。 利用芯明天P12系列XY二維掃描臺，可帶動鍍膜鏡片對讀取的圖像信息進行優化，同時控制激光器及掃描臺，二者配合完成圖像的納米精度加工。
2020-04-21 15:30:311459 納米壓印光刻技術及其應用的需求正在不斷變化。因此，此次合作的基本目標是了解市場最新需求，進而通過雙方在工藝和材料方面的優勢，合力開發出相應的解決方案，從而應對該行業不斷出現的嚴峻挑戰。
2020-06-17 14:27:425742 EVG技術開發和知識產權總監Markus Wimplinger表示：“為推動納米壓印技術的發展，我們成立了NILPhotonics Competence Center。EVG與納米壓印產業鏈的企業合作，如Inkron等
2020-10-13 14:43:543237 最近光刻機十分火，我們經常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機，但其實嚴格意義上來說并不存在7納米光刻機，5納米光刻機，我為什么會這樣說呢？
2020-10-19 11:42:5123695 產業的基礎技術。目前，納米壓印技術在國際半導體藍圖（ITRS）中被列為下一代32nm、22nm和16nm節點光刻技術的代表之一。國內外半導體設備制造商、材料商以及工藝商紛紛開始涉足這一領域，短短25年，已經取得很大進展。 ? 納米壓印技術首先通過接觸式壓印
2021-01-03 09:36:0028855 
經常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機，但其實嚴格意義上來說并不存在7納米光刻機，5納米光刻機，我為什么會這樣說呢？
2021-03-30 09:19:413514 
在今年慕尼黑光博會舉辦的3D人臉識別大會上，3D光學器件廠商均拿出了自己的光學解決方案，無論是采用散斑結構光方案，還是i-TOF、d-TOF方案，其核心光學器件DOE和Diffuser的制造都是采用納米壓印技術量產的。
2021-05-06 15:41:186272 
在過去幾十年的發展中，納米加工技術促進了集成電路的迅速發展，實現了器件的高集成度，納米加工技術是人類認識學習微觀世界的工具，通過理解這一技術可以幫助我們更好認識納米技術以及納米技術支撐的現代高科技產業。
2021-07-16 15:54:122605 壓印技術是指將“模具”壓在柔軟的樹脂等，將形狀轉印的技術。如下示意圖，可將樹脂壓在模具（mold）上轉印形狀，同理也可將形狀從金屬或玻璃制圓筒形模具上將形狀轉印到薄膜等。
2022-06-30 10:48:174547 大家都知道，芯片制造的核心設備之一就是光刻機了?，F在，全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機，那么euv光刻機目前幾納米呢？ 到現在，世界上最先進的光刻機能夠實現5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4253097 MicroFAB-3D雙光子聚合3D納米光刻機是一款超緊湊、超高分辨率交鑰匙型3D打印機。雙光子聚合3D納米光刻機基于雙光子聚合(TPP)激光直寫技術，兼容多種高分子材料，包括生物材料。MicroFAB-3D 3D納米光刻機幫助您以百納米級的分辨率生產出前所未有的復雜的微部件.
2022-08-08 13:54:188185 
過去二十年見證了193 nm以下波長光刻技術的發展。在使用 F2 準分子激光器開發基于 157 納米的光刻技術方面付出了一些努力，但主要關注點是使用 13.5 納米軟 X 射線作為光源的極紫外 (EUV) 光刻技術。
2023-02-02 11:49:593901 ROG幻16 經典版2023吸納宇宙炫彩射線靈感，新創時尚星際黑配色。A面除了更加精密的CNC開孔打造幻彩棱鏡光效，還搭配納米壓印光刻炫彩銘牌，輕薄且高顏值。
2023-02-19 10:02:435887 .什么是納米壓印**
納米壓印技術，從字面的意思剖析。納米代表了這個技術加工的尺度是（納米：Nanometer，符號:nm，即為毫微米，是長度的度量單位。1納米=10的負9次方米。）。壓印則是代表
2023-02-20 15:20:1222982 
日本最寄望于納米壓印光刻技術，并試圖靠它再次逆襲，日經新聞網也稱，對比EUV光刻工藝，使用納米壓印光刻工藝制造芯片，能夠降低將近四成制造成本和九成電量，鎧俠 (KIOXIA）、佳能和大日本印刷等公司則規劃在2025年將該技術實用化。
2023-03-22 10:20:393968 中國在芯片制造領域一直在追趕先進的技術，雖然在一些關鍵技術方面還存在一定差距，但近年來中國在光刻機領域取得了一些進展，下面將詳細介紹中國目前最先進的光刻機是多少納米。
2023-04-24 15:10:0163440 壓電納米定位臺在精密定位領域中發揮著至關重要的作用，可集成于各類高精密裝備，為其提供納米級運動控制，且應用非常廣泛，例如顯微掃描、光路調整、納米操控技術、激光干涉、納米光刻、生物科技、光通信、納米
2023-05-11 08:56:021562 
納米壓印技術，即Nanoimprint Lithography（NIL），是一種新型的微納加工技術。該技術將設計并制作在模板上的微小圖形，通過壓印等技術轉移到涂有高分子材料的硅基板上。
2023-05-19 09:37:472515 
非光刻圖案化方法可以從圖案設計的自由度上分為三大類，第一類能夠自由形成任意圖案，主要包括掃描探針刻?。⊿PL）和噴墨打??；第二類需要在模板或預圖案化基材的輔助下形成復雜的圖案，包括區域選擇性沉積（ASD）、納米壓印（NIL）、微接觸印刷（mCP）
2023-06-21 15:49:503416 
據新維度公司總經理羅鋼博士介紹，新維度公司繼承了劉忠范教授和瑞典lars montelius教授的納米壓印技術系統，是世界主要納米壓印技術路線之一。
2023-07-20 10:58:363042 2000年代初，芯片行業一直致力于從193納米氟化氬（ArF）光源光刻技術過渡到157納米氟（F 2 ）光源光刻技術。
2023-08-23 10:33:462377 
歐洲極紫外光刻（EUVL）技術利用波長為13.5納米的光子來制造集成電路。產生這種光的主要來源是使用強大激光器產生的熱錫等離子體。激光參數被調整以產生大多數在13.5納米附近發射的錫離子（例如Sn10+-Sn15+）。
2023-09-25 11:10:502593 
璞璘科技成立于2017年，致力于納米壓印設備及材料的生產和開發。據璞璘科技官方消息，公司是目前國內市場上唯一一家集納米壓印設備、材料、技術于一體的納米壓印尖端微納米制造企業。
2023-10-13 10:03:234245 為了制備蜂窩狀紋理的絨面結構，研究人員利用了熱輔助紫外輥納米壓印光刻技術（TUV-Roller-NIL），基于TUV-Roller-NIL制造蜂窩紋理的工藝鏈可以分為以下四步。
2023-10-25 09:31:361758 
納米壓印是微納工藝中最具發展潛力的第三代光刻工藝，是最有希望取代極紫外光的新一代工藝。最近，海力士公司從佳能購買了一套奈米壓印機，進行了大規模生產，并取得了不錯的效果。
2023-11-08 14:34:022455 據DIGITIMES此前消息，SK海力士2023年引進佳能納米壓印設備，正在進行測試與研發，目標在2025年左右將該設備用于3D NAND量產。有業內人士表示：“與EUV相比，納米壓印技術形成圖案
2023-11-10 16:25:062346 
“半導體研發機構 imec 的項目經理塞德里克-羅林（Cedric Rolin）說：”納米壓印技術很難在質量上與 EUV 相媲美。” 他說，納米壓印的缺陷率“相當高”。
2023-12-06 15:54:421272 對于納米壓印技術，佳能半導體設備業務部巖本和德介紹道，它是通過將刻有半導體電路圖的掩膜壓制于晶圓之上完成二維或三維電路成型的過程。巖本進一步補充道，若對掩膜進行改良，將有可能實現2nm級別的電路線條寬度。
2023-12-25 14:51:511653 佳能近日表示，計劃年內或明年上市使用納米壓印技術的光刻設備FPA-1200NZ2C。對比已商業化的EUV光刻技術，雖然納米壓印的制造速度較傳統方式緩慢，但由于制程簡化，耗電僅為EUV的十分之一，且投資額也僅為EUV設備的四成。
2024-01-31 16:51:182044 Takeishi向英國《金融時報》表示，公司計劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機FPA-1200NZ2C，并補充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月，該公司表示該設備的價格將比ASML的EUV機器便宜一位數。 佳能表示，與利用光曝光電路圖案的傳統光刻技術不同，納米壓印光刻不需要光源，利用
2024-02-01 15:42:051616 
納米壓印光刻（NIL）技術已被用于解決光學超構表面（metasurfaces）的高成本和低產量的制造挑戰。為了克服以低折射率（n）為特征的傳統壓印樹脂的固有局限性，引入了高折射率納米復合材料直接用作超構原子（meta-atoms）。然而，對這些納米復合材料的全面研究明顯缺乏。
2024-05-09 09:09:511790 
研究人員基于超薄納米壓印超構透鏡陣列開發出一種透視增強現實（AR）原型，開創了一種全彩、視頻速率和低成本的3D近眼顯示方案。
2024-05-15 09:09:092530 
在探索微觀世界的奧秘中，納米技術以其獨特的尺度和潛力，開啟了一扇通往未知領域的大門。納米壓印技術（Nanoimprint Lithography, NIL），作為納米制造領域的一項高精度的微納加工技術
2024-08-26 10:05:034643 
在慶祝成立十周年的重要時刻，荷蘭納米壓印技術領域的佼佼者Morphotonics宣布成功完成了1000萬美元的B1輪融資，這一里程碑式的成就不僅彰顯了公司在全球顯示技術領域的深厚積累與廣闊前景，也為其持續推動技術創新注入了強勁動力。
2024-09-19 17:29:231110 其中。 ? 報道援引知情人士的消息稱，蘋果退出了最近一輪的談判，該輪融資預計將于下周結束。另外兩家科技巨頭公司微軟和英偉達也參與了這一輪談判。有消息稱微軟預計將在此前已向該公司投資130億美元的基礎上再投資約10億美元。 ? 2. 佳能首次出貨納米壓印光刻機
2024-09-29 11:24:291303 電子束光刻技術使得對構成多種納米技術基礎的納米結構特征實現精細控制成為可能。納米結構制造與測量的研究人員致力于提升納米尺度下的光刻精度，并開發了涵蓋從光學到流體等多個物理領域、用以制造創新器件和標準的工藝流程。
2024-10-18 15:23:261801 
光刻技術是現代微電子和納米技術的研發中的關鍵一環，而光刻膠，又是光刻技術中的關鍵組成部分。隨著技術的發展，對微小、精密的結構的需求日益增強，光刻膠的需求也水漲船高，在微電子制造和納米技術等高精尖領域占據著至關重要的位置。
2024-11-11 10:08:214402 
? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術。 芯片制造：光刻技術的演進 過去半個多世紀，摩爾定律一直推動著半導體技術的發展，但當光刻機的光源波長卡在193nm，芯片制程縮小至65nm
2024-11-24 11:04:144451 
?? 光刻掩膜簡介 ?? ? 光刻掩膜（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，通常簡稱“mask”，是半導體制造過程中用于圖案轉移的關鍵工具，對于光刻工藝的重要性不弱于光刻機、光刻
2025-01-02 13:46:225047 
納米級別的分辨率。本文將詳細介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統 ? 光源系統是光刻機的心臟，負責提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源，但隨著技術的進步，目前多采用深紫外（DUV）或極紫外（EUV）光源，
2025-01-07 10:02:304530 
來源：John Boyd IEEE電氣電子工程師學會 9月，佳能交付了一種技術的首個商業版本，該技術有朝一日可能顛覆最先進硅芯片的制造方式。這種技術被稱為納米壓印光刻技術（NIL
2025-01-09 11:31:181280 本文旨在介紹人類祖先曾經使用過納米晶體的應用領域。 ? 納米技術/材料在現代社會中的應用與日俱增。納米晶體，這一類獨特的納米材料，預計將在液晶顯示器、發光二極管、激光器等新一代設備中發揮關鍵作用
2025-01-13 09:10:191505 
光刻機用納米位移系統設計
2025-02-06 09:38:031028 
光刻技術對芯片制造至關重要，但傳統紫外光刻受衍射限制，摩爾定律面臨挑戰。為突破瓶頸，下一代光刻（NGL）技術應運而生。本文將介紹納米壓印技術（NIL）的原理、發展、應用及設備，并探討其在半導體制造中
2025-02-13 10:03:503709 
的問題，還存在工藝復雜度大幅增加的瓶頸。而納米壓印技術憑借其在高分辨率加工、低成本生產以及高量產效率等方面的顯著優勢，正逐步成為下一代微納制造領域的核心技術之一。 （注：圖片來源于網絡） 一、納米壓印：芯片制造領域的
2025-06-19 10:05:36767 
與成熟制程市場提供更多設備產能支持。 據介紹，這座新工廠是佳能在 2023 年開始動工建設的，并可能使用自家開發的 Nanoimprint (納米壓印) 技術，總投資額超過 500 億日元，涵蓋廠房與先進制造設備。新廠面積達 6.75 萬平方公尺，投產后將使光刻設備總產能提
2025-08-04 17:39:28712 電子束光刻（EBL）是一種無需掩模的直接寫入式光刻技術，其工作原理是通過聚焦電子束在電子敏感光刻膠表面進行納米級圖案直寫。
2025-08-14 10:07:212553 
電子發燒友網報道（文/李寧遠）提及芯片制造技術，首先想到的自然是光刻機和光刻技術。眾所周知在芯片行業，光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰也最昂貴的一項工藝步驟。在光刻機的支持下，摩爾定律
2023-07-16 01:50:154710 
壓印光刻技術NIL在這條賽道上備受關注，是最有機會率先應用落地的技術路線。 ? 今年早些時候，根據英國金融時報的報道，負責監督新型光刻機開發的佳能高管武石洋明在接受采訪時稱，采用納米壓印技術的佳能光刻設備FPA-1200NZ2C目標最快在
2024-03-09 00:15:005545 
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