據麥姆斯咨詢報道，近日，SUSS MicroTec和micro resist technology GmbH（以下簡稱為MRT）宣布成立合資公司，進一步推動未來新興應用中的納米壓印光刻技術（Nanoimprint Lithography，NIL）發展。此項合作將依托SUSS Imprint Excellence Center中心逐步開展起來。

半導體領域設備和工藝解決方案供應商SUSS MicroTec，以及開發和生產創新型光刻膠和先進納米壓印材料公司MRT，近日宣布了兩方在納米壓印光刻技術（NIL）方面的合作。納米壓印光刻技術是通過高保真圖案轉移，實現增材制造革命的關鍵推動力。越來越多的光子學新興應用都在開始采用紫外納米壓印技術（UV-NIL），例如3D人臉識別和增強現實（AR）眼鏡中的衍射光學元件（DOE）和其它微納米結構，以及光學傳感器、激光納米PSS（Patterned Sapphire Substrate，圖形化藍寶石襯底）結構等。

采用紫外納米壓印技術的光學3D圖案化

納米壓印光刻技術及其應用的需求正在不斷變化。因此，此次合作的基本目標是了解市場最新需求，進而通過雙方在工藝和材料方面的優勢，合力開發出相應的解決方案，從而應對該行業不斷出現的嚴峻挑戰。

高質量壓印技術基于三大核心：設備、工藝和材料。前兩大核心（設備和制造工藝專業知識）目前可通過SUSS Imprint Excellence Center中心（SUSS MicroTec Lithography GmbH和SUSS MicroOptics SA聯合成立）得到解決。第三大核心的加入，即納米壓印材料供應商MRT的專業化學知識，可謂是強強聯合。這三大核心的結合，更好地滿足了行業的高要求，同時滿足了其對納米結構復制提出的更具挑戰性的需求。

“SUSS Imprint Excellence Center中心在壓印設備領域以及在大規模生產環境中進行工業級工藝開發具備數十年的經驗。”SUSS MicroTec首席執行官Franz Richter說道，“必須通過與光刻膠供應商和經驗豐富的材料供應商建立強有力的合作關系，進一步鞏固這一組合，以實現完美的納米壓印解決方案。”

參與此次合作的公司致力于以共同的目標深化合作，推動現有應用和新興應用朝著高性能、大規模生產的方向發展。

“二十多年來，微光刻膠技術在全球范圍內為納米壓印光刻量身定制了光刻膠配方。”MRT首席執行官兼創始人Gabi Grützner女士說道，“我們在聚合物化學和納米復制工藝方面的專業知識使我們能夠提供最先進的材料解決方案，解決日益增長的工業用例，其中納米復制技術現已用于制造消費類產品。我們很高興與聯盟內的合作伙伴進行合作，因為當材料和設備完美匹配時，可以大大提高客戶在工業化應用中納米壓印工藝的良率。SUSS Imprint Excellence Center中心為該技術的推廣提供了絕佳機會，目前此技術組合已交付給SUSS Imprint Excellence Center中心，納米壓印光刻技術將普及給更多的工業用戶使用。”
責任編輯:pj