光刻機是當今世界上最精密的儀器，我們使用的電子產品的芯片都是用光刻機刻出來的，怎樣讓光刻機在納米精度內作長距離移動，一直是困擾科學家的難題，今天我把我設計的光刻機用納米位移系統分享給大家，希望能給需要的朋友一些幫助。納米位移系統如下面介紹：納米位移系統由壓電晶體Y、電磁鐵H1、軟磁吸盤H2、絲桿S、螺母SM組成如圖所示：

光刻機用納米位移系統設計

下面介紹一下工作原理：電磁鐵H1與軟磁吸盤H2隔空排列，先給電磁鐵H1通電，這樣電磁鐵H1就會吸引軟磁吸盤，當給壓電晶體Y施加電壓后，壓電晶體Y會產生微小形變，形變尺寸在納米范圍內，壓電晶體Y的形變由連桿傳到電磁鐵H1上，電磁鐵H1會繞軸作納米長度的旋轉，由于電磁鐵H1通電后與軟磁吸盤H2是吸引的，電磁鐵H1的轉動會帶動軟磁吸盤H2旋轉，吸盤H2又與絲桿相連，這樣絲桿也進行旋轉，由于螺母是固定的，不能旋轉，絲桿的旋轉會讓螺母產生位移。然后給電磁鐵H1斷電，壓電晶體Y也斷電，電磁鐵H1與壓電晶體Y就會恢復原位，軟磁吸盤H2與電磁鐵H1是隔空的，給電磁鐵H1斷電后，電磁鐵H1對軟磁吸盤H2失去吸引力，軟磁吸盤H2就會保持旋轉后的狀態。就這樣反復給電磁鐵H1與壓電晶體Y通電、斷電，螺母就會持續在納米長度內位移，多次位移就能讓螺母在較長的絲桿上作長距離運動。 好了，就介紹到這里吧！

審核編輯 黃宇