經過20多年發展，納米壓印技術、工藝逐漸成熟，越來越多終端市場產品開始搭載采用納米壓印技術生產的器件。該技術避免了極為復雜的光學器件制造工藝，在保持高精度的同時，也不會隨產品結構的復雜程度增加而額外增加制造成本。在集成電路、生物傳感器、微納光學器件等應用領域的大批量生產方面，具有無可比擬的優勢。

在今年慕尼黑光博會舉辦的3D人臉識別大會上，3D光學器件廠商均拿出了自己的光學解決方案，無論是采用散斑結構光方案，還是i-TOF、d-TOF方案，其核心光學器件DOE和Diffuser的制造都是采用納米壓印技術量產的。

納米壓印是通過壓印使高分子材料產生物理變形以實現光刻膠的圖形化，其分辨率不受光的衍射和散射等因素的限制，可突破傳統光刻工藝的分辨率極限。

埃眸科技壓印175 nm寬度光柵

其次，壓印光刻不需要復雜的透鏡、曝光光源，并且可以大批量重復的在大面積上制備納米圖形結構，所制作的圖案具有很好的均勻性和重復性，是一種能夠以低制作成本和高生產效率獲得高精度圖案的極佳生產方法。

此外，可以將三維結構事先雕刻在模板表面，從而實現高深寬比復雜形狀的三維結構圖形的直接復制。由于壓印光刻具有其他光刻技術不可比擬的眾多優點，是量產微納器件的最佳技術之一。

基于以上優勢，納米壓印技術正逐步成為一種高精度、低成本、高效的微納加工解決方案，例如在半導體芯片（CMOS芯片）、生物傳感器（例如基因測序、單分子檢測）、光學器件（DOE、Diffuser、MLA、AR衍射波導）、光通信（例如DFB激光器）等方面應用具有無可比擬的優勢，給消費、生物、汽車等領域帶來極大的發展空間，產業化應用爆發在即。

盡管納米壓印技術原理簡單、具有極強的技術優勢，但由于其工藝加工對象是納米級圖形結構，操作對象極其精密，所以工藝過程的每一步都對設備和操作有近似苛刻的要求，技術含量很高。尤其是調平和對準系統精度、模板加工精度，材料適配選擇、壓印工藝細節等更成為納米壓印技術的核心難點，直接影響納米壓印復制精度及大批量生產的關鍵點。

埃眸科技是一家專業從事納米壓印光刻技術解決方案的公司，核心業務是提供納米壓印設備、制版、工藝、材料系統解決方案。埃眸科技的研發團隊來自半導體頭部企業，擁有豐富高精密設備開發經驗，同時還有一支專業的工藝團隊，在輸出設備的同時提供工藝配套服務。

目前，埃眸科技已經實現多款量產型納米壓印設備的自主研發，從研發型到量產型，從輥壓到硬板壓，再到氣動壓印，根據不同客戶不同產品需求，輸出不同的針對性設備。公司深耕納米壓印領域，并且已經持續出貨交付客戶。

物質在納米尺度下表現出的奇異現象和規律將改變相關理論的現有框架，使人們對物質世界的認識進入到嶄新的階段，孕育著新的技術革命，給材料、信息、制造、生物和醫學等領域帶來極大的發展空間。納米科技已成為許多國家提升核心競爭力的產略選擇，也是我國有望實現跨越式發展的領域之一，埃眸科技致力于提供納米壓印一站式解決方案，和合作伙伴一起積極探索新的應用場景。

責任編輯：lq