電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/莫婷婷)2025年12月,中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)迎來(lái)重大戰(zhàn)略調(diào)整。中芯國(guó)際宣布兩大重磅資本動(dòng)作:一是以約406億元人民幣完成對(duì)控股子公司中芯北方剩余49%股權(quán)的收購(gòu),實(shí)現(xiàn)全資控股;二是
2025-12-31 08:01:00
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電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/李彎彎)2025年11月14日,中芯國(guó)際正式發(fā)布了其2025年第三季度財(cái)務(wù)報(bào)告。報(bào)告顯示,中芯國(guó)際第三季度實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入171.62億元人民幣,同比增長(zhǎng)9.9%,環(huán)比增長(zhǎng)6.9
2025-11-15 08:27:00
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電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)芯片,一直被譽(yù)為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設(shè)備光刻機(jī)就是 雕刻這個(gè)結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機(jī)還不夠,還需要光刻膠、掩膜版以及
2025-10-28 08:53:35
6234 ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/吳子鵬)?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中,光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”,而極紫外(EUV)光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長(zhǎng)期以來(lái),荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
2025-10-04 03:18:00
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*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級(jí)封裝(FOPLP)技術(shù)為何會(huì)獲得臺(tái)積電、三星等代工大廠的青睞?比較傳統(tǒng)的光刻機(jī)設(shè)備,尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同?能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點(diǎn)問(wèn)題? 針對(duì)2nm、3nm芯片制造難題,光刻機(jī)龍頭企業(yè)ASML新款光刻機(jī)又能帶來(lái)哪些優(yōu)勢(shì)?本文進(jìn)行詳細(xì)分析。
2025-07-24 09:29:39
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根據(jù)中國(guó)政府采購(gòu)網(wǎng)公示,上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司中標(biāo) zycgr22011903 采購(gòu)步進(jìn)掃描式光刻機(jī)項(xiàng)目,設(shè)備數(shù)量為一臺(tái),貨物型號(hào)為 SSC800/10,成交金額 1.1 億
2025-12-26 08:35:00
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電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 12月19日,銀河通用機(jī)器人宣布已于近期完成新一輪超 3 億美元融資,再次刷新具身智能單輪融資紀(jì)錄。本輪融資由中國(guó)移動(dòng)鏈長(zhǎng)基金領(lǐng)投,中金資本、中科院基金、蘇創(chuàng)投、央視融媒體基金
2025-12-23 09:11:20
5709 在7納米、3納米等先進(jìn)芯片制造中,光刻機(jī)0.1納米級(jí)的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐,其作為“隱形功臣”,是保障工藝穩(wěn)定、設(shè)備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機(jī)中
2025-12-12 13:02:26
424 產(chǎn)業(yè)鏈頂尖廠商參展。作為中國(guó)大陸集成電路制造業(yè)的領(lǐng)軍者,中芯國(guó)際深度參與了此次盛會(huì),攜手產(chǎn)業(yè)鏈伙伴共同推動(dòng)“開放創(chuàng)芯,成就未來(lái)”產(chǎn)業(yè)發(fā)展新圖景。
2025-11-28 16:55:48
742 安森美(onsemi,美國(guó)納斯達(dá)克股票代號(hào):ON)宣布其董事會(huì)已授權(quán)在未來(lái)三年內(nèi)實(shí)施達(dá)60億美元的新股票回購(gòu)計(jì)劃,自2026年1月1日起生效,原30億美元的授權(quán)將于2025年12月31日到期。根據(jù)
2025-11-27 13:47:45
256 子公司。 ? 受該消息刺激,19日,賽微電子股價(jià)爆炸10.16%,結(jié)束多日的低迷,總市值達(dá)215.86億元。 根據(jù)公告,交易初步方案為公司擬購(gòu)買芯東來(lái)原股東海南依邁、智能傳感產(chǎn)業(yè)基金、潯元投資、海創(chuàng)智能裝備分別持有的芯東來(lái)4.11%、3.00%、2.80%、1.09%股權(quán)。其中,海南依
2025-11-19 18:15:28
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11月13日,國(guó)內(nèi)最大的晶圓代工企業(yè)中芯國(guó)際發(fā)布Q3業(yè)績(jī)報(bào),三季度,中芯國(guó)際公司整體實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入人民幣 171.62 億元(23.81億美元),同比增長(zhǎng)9.9%;Q3歸屬上市公司凈利潤(rùn)達(dá)到15.17
2025-11-14 10:00:20
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電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 在第八屆中國(guó)國(guó)際進(jìn)口博覽會(huì)(以下簡(jiǎn)稱“進(jìn)博會(huì)”)上,全球光刻機(jī)巨頭ASML以“積納米之微,成大千世界”為主題亮相,向全球展示其面向主流芯片市場(chǎng)的全景光刻解決方案。這是ASML
2025-11-13 09:12:55
1922 意法半導(dǎo)體第三季度實(shí)現(xiàn)凈營(yíng)收31.9億美元,毛利率33.2%,營(yíng)業(yè)利潤(rùn)1.80億美元,凈利潤(rùn)2.37億美元,每股攤薄收益-0.26美元(非美國(guó)通用會(huì)計(jì)準(zhǔn)則營(yíng)業(yè)利潤(rùn)為2.17億美元,非美國(guó)通用會(huì)計(jì)準(zhǔn)則凈利潤(rùn)為2.67億美元,每股攤薄收益0.29美元)。
2025-10-29 10:54:20
429 一、先搞懂:7nm 良率提升到底意味著什么??
很多人覺得 “7nm 芯片” 是手機(jī)、電腦的專屬,其實(shí)不然!良率簡(jiǎn)單說(shuō)就是 “合格芯片的產(chǎn)出比例”,中芯國(guó)際 7nm 良率提高,核心意義是:高端芯片能
2025-10-28 20:46:33
根據(jù)恩智浦發(fā)布的三季度運(yùn)營(yíng)業(yè)績(jī)報(bào)告數(shù)據(jù)顯示,?恩智浦三季度營(yíng)收31.7億美元, 略高于分析師預(yù)期的31.6億美元;恩智浦三季度調(diào)整后自由現(xiàn)金流(FCF)為5.09億美元,低于分析師預(yù)期的7.62億
2025-10-28 14:40:13
393 能力及每秒 110 千兆像素的數(shù)據(jù)傳輸速率 ,在滿足日益復(fù)雜的封裝工藝對(duì)可擴(kuò)展性、成本效益和精度要求的同時(shí),消除對(duì)昂貴掩模技術(shù)的依賴。 ? TI DLP 技術(shù)造就高級(jí)封裝領(lǐng)域的無(wú)掩模數(shù)字光刻系統(tǒng) 關(guān)鍵所在 無(wú)掩模數(shù)字光刻機(jī)正廣泛應(yīng)用于高級(jí)封裝制造領(lǐng)域,這類光刻機(jī)無(wú)需光
2025-10-20 09:55:15
887 近日,深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司(簡(jiǎn)稱“穩(wěn)頂聚芯”)宣布,其自主研發(fā)的首臺(tái)國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠,標(biāo)志著我國(guó)在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進(jìn)式光刻機(jī)屬于WS180i
2025-10-10 17:36:33
929 滾珠導(dǎo)軌憑借其低摩擦、高剛性、納米級(jí)定位精度等特性,成為光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、貼片機(jī)等核心設(shè)備的關(guān)鍵傳動(dòng)元件,直接決定著芯片良率與生產(chǎn)效率。
2025-09-22 18:02:20
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確定 12 英寸集成電路新建項(xiàng)目中光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等核心設(shè)備的防震基座類型與數(shù)量,需遵循 “設(shè)備需求為核心、環(huán)境評(píng)估為基礎(chǔ)、合規(guī)性為前提” 的原則,分步驟結(jié)合設(shè)備特性、廠房條件、工藝要求綜合判斷,具體流程與關(guān)鍵考量如下:
2025-09-18 11:24:23
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%。至少將GAA納米片提升幾個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)。
2、晶背供電技術(shù)
3、EUV光刻機(jī)與其他競(jìng)爭(zhēng)技術(shù)
光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點(diǎn)的高端半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵技術(shù)。是將設(shè)計(jì)好的芯片版圖圖形轉(zhuǎn)移到硅晶圓上的一種精細(xì)
2025-09-15 14:50:58
9月10日至12日,由中國(guó)國(guó)際光電博覽會(huì) (簡(jiǎn)稱“CIOE中國(guó)光博會(huì)”) 與集成電路創(chuàng)新聯(lián)盟主辦的SEMI-e深圳國(guó)際半導(dǎo)體展暨2025集成電路產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新展在深圳國(guó)際會(huì)展中心 (寶安新館) 舉辦。芯原出席了此次展會(huì),展示了公司面向AI輕量化可穿戴設(shè)備的創(chuàng)新IP及技術(shù)方案。
2025-09-15 10:07:11
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2025年9月10日 - 12日,國(guó)芯科技攜車載 RISC-V 芯片核心成果在SEMI-e 深圳國(guó)際半導(dǎo)體展暨 2025 集成電路產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新展亮相。
2025-09-15 10:05:09
1386 2025年9月12日,第26屆中國(guó)國(guó)際光電博覽會(huì)(CIOE)在深圳國(guó)際會(huì)展中心圓滿收官。度亙核芯以創(chuàng)新“芯”動(dòng)力、硬核“芯”產(chǎn)品和前沿“芯”視野,吸引了眾多行業(yè)專家、客戶伙伴前來(lái)深入交流。展臺(tái)現(xiàn)場(chǎng)
2025-09-12 22:16:16
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芯碁微裝直寫光刻設(shè)備批量導(dǎo)入國(guó)內(nèi)多家封測(cè)龍頭 ? 8月19日,芯碁微裝宣布,其面向中道領(lǐng)域的晶圓級(jí)及板級(jí)直寫光刻設(shè)備系列已獲得重大市場(chǎng)突破。公司已與多家國(guó)內(nèi)頭部封測(cè)企業(yè)簽訂采購(gòu)訂單,產(chǎn)品主要應(yīng)用于
2025-08-21 10:33:00
1560 澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)(EBL)是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備,專為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)采用先進(jìn)的場(chǎng)發(fā)射電子槍,結(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng),確保光刻質(zhì)量?jī)?yōu)異且
2025-08-15 15:14:01
澤攸科技ZML10A是一款創(chuàng)新的桌面級(jí)無(wú)掩膜光刻設(shè)備,專為高效、精準(zhǔn)的微納加工需求設(shè)計(jì)。該設(shè)備采用高功率、高均勻度的LED光源,并結(jié)合先進(jìn)的DLP技術(shù),實(shí)現(xiàn)了黃光或綠光引導(dǎo)曝光功能,真正做到
2025-08-15 15:11:55
全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問(wèn)世,精度比肩國(guó)際主流 ? 近日,全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發(fā)并進(jìn)入應(yīng)用測(cè)試階段。該設(shè)備精度達(dá)到0.6nm,線寬
2025-08-15 10:15:17
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? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,近日,上海芯上微裝科技股份有限公司(簡(jiǎn)稱:芯上微裝,英文簡(jiǎn)稱:AMIES)第500臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)成功交付,并舉辦了第500臺(tái) 步進(jìn)光刻機(jī) 交付儀式。 ? ? 光刻是半導(dǎo)體器件
2025-08-13 09:41:34
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8月7日晚,中國(guó)芯片代工大廠中芯國(guó)際披露未經(jīng)審計(jì)的第二季度財(cái)報(bào),8月8日中芯國(guó)際召開2025年第二季度業(yè)績(jī)說(shuō)明會(huì),中芯國(guó)際聯(lián)席CEO趙海軍表示,二季度收入增長(zhǎng)主要是因?yàn)樵趪?guó)內(nèi)外政策變化的影響下,渠道加緊備貨、補(bǔ)庫(kù)存,公司也積極配合客戶保證出貨,這種情況一直持續(xù)到了三季度。
2025-08-12 08:54:06
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? ? 時(shí)隔21年,佳能再開新光刻機(jī)工廠 ? 日前,據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》報(bào)道,佳能在當(dāng)?shù)匾患椅挥跂心究h宇都宮市的半導(dǎo)體光刻設(shè)備工廠舉行開業(yè)儀式,這也是佳能時(shí)隔21年開設(shè)的首家新光刻機(jī)廠。佳能宇都宮工廠
2025-08-05 10:23:38
2173 7 月 31 日消息,據(jù)《日經(jīng)新聞》報(bào)道,日本相機(jī)、打印機(jī)、光刻機(jī)大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機(jī)制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn),主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備,為全球芯片封裝
2025-08-04 17:39:28
712 ? 一、中芯國(guó)際:從工藝追趕者到生態(tài)構(gòu)建者 2025 年 8 月 2 日,中芯國(guó)際 A 股以 88.29 元 / 股收于歷史中樞,7050 億元市值背后,是上海臨港 12 英寸工廠里晝夜不停的硅片
2025-08-04 15:22:21
10988 在近期舉辦的AIOT大會(huì)上,燦芯半導(dǎo)體(上海)股份有限公司市場(chǎng)總監(jiān)楊凱分享智能終端市場(chǎng)的最新數(shù)據(jù),2024年全球智能終端市場(chǎng)規(guī)模突破950億美元,到2030年將達(dá)到42000億美元,呈現(xiàn)爆發(fā)式增長(zhǎng)。增長(zhǎng)來(lái)自三大驅(qū)動(dòng)力:一是AI技術(shù)普及;二是新興產(chǎn)品擴(kuò)張,三是新興市場(chǎng)換代需求。
2025-08-04 08:36:17
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同期的214.48億美元增長(zhǎng)9%。本季度稀釋后每股收益為 1.57 美元,同比增長(zhǎng) 12%。 940.36億美元的營(yíng)收是蘋果公司自2021年12月以來(lái)的最大漲幅。 在2025財(cái)年第三季度蘋果中國(guó)區(qū)收入
2025-08-01 15:24:11
1010 極紫外光刻(EUVL)技術(shù)作為實(shí)現(xiàn)先進(jìn)工藝制程的關(guān)鍵路徑,在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域占據(jù)著舉足輕重的地位。當(dāng)前,LPP-EUV 光源是極紫外光刻機(jī)所采用的主流光源,其工作原理是利用波長(zhǎng)為 10.6um 的紅外
2025-07-22 17:20:36
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光刻機(jī)的成功搬入,意味著產(chǎn)線正式進(jìn)入設(shè)備安裝調(diào)試階段,距離8月底通線試產(chǎn)、第四季度產(chǎn)能爬坡并交付客戶的既定目標(biāo)指日可待。這一目標(biāo)的實(shí)現(xiàn),將實(shí)現(xiàn)各類MEMS半導(dǎo)體傳感器產(chǎn)品從研發(fā)到量產(chǎn)的無(wú)縫銜接,對(duì)重慶乃至整個(gè)集成電路行業(yè)都具
2025-07-17 16:33:12
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ASML第二季度實(shí)現(xiàn)銷售額77億歐元,毛利率為53.7%,凈利潤(rùn)達(dá)23億歐元。第二季度的新增訂單金額為55億歐元,其中23億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。第二季度營(yíng)收與第一季度的營(yíng)收持平,凈利潤(rùn)略微下降1億歐元。
2025-07-17 12:06:39
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訂單金額為55億歐元2,其中23億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計(jì)2025年第三季度凈銷售額在74億至79億歐元之間,毛利率介于50%至52%;預(yù)計(jì)2025年全年凈銷售額將同比增長(zhǎng)約15%,毛利率約為
2025-07-17 10:49:35
1516 厚膠量產(chǎn)到ArF浸沒(méi)式膠驗(yàn)證,從樹脂國(guó)產(chǎn)化到EUV原料突破,一場(chǎng)靜默卻浩蕩的技術(shù)突圍戰(zhàn)已進(jìn)入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長(zhǎng)的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A膠以120nm分辨率和93.7%的良率通過(guò)中芯國(guó)際28nm產(chǎn)線驗(yàn)證,開創(chuàng)了國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造的新
2025-07-13 07:22:00
6083 有關(guān)部門投訴”。 ? ? 中芯國(guó)際是世界領(lǐng)先的集成電路晶圓代工企業(yè)之一,也是中國(guó)大陸集成電路制造業(yè)的領(lǐng)導(dǎo)者,擁有領(lǐng)先的工藝制造能力和產(chǎn)能優(yōu)勢(shì),向全球客戶提供8英寸和12英寸晶圓代工與技術(shù)服務(wù),總部位于上海,并在多地建有多座晶圓廠。 ? Imagin
2025-07-08 10:04:28
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電源磁芯研磨機(jī), 磁芯氣隙研磨機(jī); 在目前通訊,汽車電子等需要高功率的PCBA中, 磁芯組裝后需要研磨,以讓磁芯點(diǎn)膠均勻,去除氣隙,提升磁通量,達(dá)到磁通量的控制要求. 上下磁芯在受控的壓力
2025-07-07 08:23:29
的應(yīng)用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量,可避免因曝光過(guò)度導(dǎo)致光刻膠過(guò)度反應(yīng),使線寬變寬;或曝光不足造成線寬變窄。采用先進(jìn)的曝光設(shè)備,如極紫外(EUV)光刻機(jī)
2025-06-30 15:24:55
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深入探討白光干涉儀在光刻圖形測(cè)量中的應(yīng)用。 改善光刻圖形垂直度的方法 優(yōu)化光刻膠性能 光刻膠的特性直接影響圖形垂直度。選用高對(duì)比度、低膨脹系數(shù)的光刻膠,可減少曝光和顯影過(guò)程中的圖形變形。例如,化學(xué)增幅型光刻膠具有良
2025-06-30 09:59:13
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電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,日前,ASML 技術(shù)高級(jí)副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司,啟動(dòng)了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
2025-06-29 06:39:00
1916 ASML光刻「芯」勢(shì)力知識(shí)挑戰(zhàn)賽由全球半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)先供應(yīng)商ASML發(fā)起,是一項(xiàng)面向中國(guó)半導(dǎo)體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML在光刻領(lǐng)域的技術(shù)積累與行業(yè)洞察,賽事致力于為參賽者打造一個(gè)深度探索光刻技術(shù)的知識(shí)競(jìng)技窗口,同時(shí)培養(yǎng)優(yōu)秀科技「芯」勢(shì)力,共同推動(dòng)摩爾定律演進(jìn)。
2025-06-23 17:04:56
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。 2024年 12 月,在德州儀器宣布計(jì)劃根據(jù) 527 億美元的《芯片和科學(xué)法案》投資至少 180 億美元后,拜登政府最終批準(zhǔn)向該公司提供 16.1 億美元的政府補(bǔ)貼,以支持其建設(shè)三處新設(shè)施。 據(jù)悉,德州儀器宣布其600億美元資金用于在德州和猶他州興建或
2025-06-20 01:03:00
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在 MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))制造領(lǐng)域,光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環(huán)節(jié)。光刻 Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機(jī)將不同層設(shè)計(jì)圖案對(duì)準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。光刻 Overlay 指的是芯片制造過(guò)程中,前后兩次光刻工藝形成的電路圖案之間的對(duì)準(zhǔn)精度。
2025-06-18 11:30:49
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受限,使我國(guó)高端芯片自給率不足5%。然而壓力催生變革:2024年中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模達(dá)6280億美元,占全球25%以上,在AI、5G與智能汽車的內(nèi)需驅(qū)動(dòng)下,本土企業(yè)正以成熟工藝+封裝創(chuàng)新開辟新賽道。中芯國(guó)際憑借DUV多重曝光實(shí)現(xiàn)7nm量產(chǎn),長(zhǎng)江存儲(chǔ)
2025-06-17 13:41:38
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進(jìn)入過(guò)無(wú)塵間光刻區(qū)的朋友,應(yīng)該都知道光刻區(qū)里用的都是黃燈,這個(gè)看似很簡(jiǎn)單的問(wèn)題的背后卻蘊(yùn)含了很多鮮為人知的道理,那為什么實(shí)驗(yàn)室光刻要用黃光呢? 光刻是微流控芯片制造中的重要工藝之一。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),它是
2025-06-16 14:36:25
1070 的基礎(chǔ),直接決定了這些技術(shù)的發(fā)展水平。 二、顯影在光刻工藝中的位置與作用 位置:顯影是光刻工藝中的一個(gè)重要步驟,在曝光之后進(jìn)行。 作用:其作用是將曝光產(chǎn)生的潛在圖形,通過(guò)顯影液作用顯現(xiàn)出來(lái)。具體而言,是洗去光刻
2025-06-09 15:51:16
2127 。在全球半導(dǎo)體競(jìng)爭(zhēng)加劇的浪潮中,芯矽科技使命在肩。一方面持續(xù)加大研發(fā)投入,探索新技術(shù)、新工藝,提升設(shè)備性能,向國(guó)際先進(jìn)水平看齊;另一方面,積極攜手上下游企業(yè),構(gòu)建產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新生態(tài),共破技術(shù)瓶頸,推動(dòng)
2025-06-05 15:31:42
但當(dāng)芯片做到22納米時(shí),工程師遇到了大麻煩——用光刻機(jī)畫接觸孔時(shí),稍有一點(diǎn)偏差就會(huì)導(dǎo)致芯片報(bào)廢。 自對(duì)準(zhǔn)接觸技術(shù)(SAC) ,完美解決了這個(gè)難題。
2025-05-19 11:11:30
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制程營(yíng)收占比達(dá)到73%。臺(tái)積電總裁魏家哲表示,盡管美國(guó)關(guān)稅政策變化,客戶需求仍然強(qiáng)勁,特別是AI及機(jī)器人需求持續(xù)增長(zhǎng),預(yù)期今年?duì)I收將增長(zhǎng)中位數(shù),其中AI營(yíng)收將會(huì)倍增。 5月8日,中芯國(guó)際發(fā)布2025年第一季度財(cái)報(bào),第一季度公司實(shí)現(xiàn)銷售收入22.47億美元(163億元人
2025-05-13 00:58:00
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電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進(jìn)步,對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來(lái)越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長(zhǎng)和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān),電子波長(zhǎng)可通過(guò)增加加速電極電壓來(lái)減小波長(zhǎng),而電子束聚焦后
2025-05-07 06:03:45
光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進(jìn)行掩模版加工制造,在掩膜加工領(lǐng)域或者無(wú)掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺,在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10
光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:33
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根據(jù)谷歌母公司Alphabet發(fā)布的財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)顯示,在2025年第一季度Alphabet營(yíng)收達(dá)到902.3億美元,同比增長(zhǎng)12%,高于此前市場(chǎng)普遍預(yù)估的891億美元。經(jīng)營(yíng)利潤(rùn)達(dá)到306.1億美元,同比
2025-04-25 14:01:26
572 據(jù)外媒報(bào)道,馬斯克旗下的腦機(jī)接口公司Neuralink正計(jì)劃融資約5億美元,目前來(lái)看Neuralink得投前估值為85億美元(換算下來(lái)約合 620.13 億元人民幣)。Neuralink的估值在過(guò)去幾年中顯著增長(zhǎng);在2023 年,基于公開報(bào)道的信息來(lái)看,Neuralink得估值只有 50 億美元。
2025-04-24 11:34:35
630 2025年美國(guó)特朗普政府的“對(duì)等關(guān)稅”影響究竟有多大?未來(lái)還不確定,只有等待時(shí)間的檢驗(yàn)。這里我們看到已經(jīng)有很多的科技巨頭受損嚴(yán)重,比如蘋果公司、光刻機(jī)巨頭阿斯麥ASML、英偉達(dá)等。但是業(yè)界多認(rèn)為目前
2025-04-17 10:31:12
1073 ,其中有12億歐元為EUV光刻機(jī)的訂單。 對(duì)于2025年第二季度的業(yè)績(jī)展望,阿斯麥CEO表示,人工智能仍是主要的增長(zhǎng)動(dòng)力;但是關(guān)稅新政增加了很大的不確定性。ASML公司預(yù)計(jì)在2025年第二季度總凈銷售額介于72億至77億歐元之間,毛利率預(yù)計(jì)介于50%至53%。 阿斯麥總裁兼首席執(zhí)行官傅恪
2025-04-16 16:15:43
1572 【2025年光刻機(jī)市場(chǎng)的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過(guò)程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一,其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場(chǎng)對(duì)光刻機(jī)的需求持續(xù)增長(zhǎng),尤其是在先
2025-04-07 09:24:27
1236 中芯國(guó)際集成電路制造有限公司宣布本公司及其子公司截至二零二四年十二月三十一日止年度經(jīng)審核業(yè)績(jī)。
2025-03-28 11:34:15
923 TSMC,中芯國(guó)際SMIC 組成:核心:生產(chǎn)線,服務(wù):技術(shù)部門,生產(chǎn)管理部門,動(dòng)力站(雙路保障),廢水處理站(環(huán)保,循環(huán)利用)等。生產(chǎn)線主要設(shè)備: 外延爐,薄膜設(shè)備,光刻機(jī),蝕刻機(jī),離子注入機(jī),擴(kuò)散爐
2025-03-27 16:38:20
在科技日新月異的今天,芯片作為數(shù)字時(shí)代的“心臟”,其制造過(guò)程復(fù)雜而精密,涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備,但實(shí)際上,芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝,揭示這些工藝如何協(xié)同工作,共同鑄就了現(xiàn)代芯片的輝煌。
2025-03-24 11:27:42
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SiliconLabs(芯科科技)家庭與生活業(yè)務(wù)部門高級(jí)市場(chǎng)總監(jiān)Tom Nordman先生通過(guò)本篇博文分享公司近期達(dá)成的重要里程碑-10年來(lái)無(wú)線模塊業(yè)務(wù)的營(yíng)收突破10億美元!
2025-02-25 14:12:14
1103 總投資不低于500億元,項(xiàng)目固定資產(chǎn)投資也不低于400億元,預(yù)計(jì)達(dá)產(chǎn)年產(chǎn)值將不低于60億元。這一巨額投資不僅體現(xiàn)了中芯國(guó)際對(duì)擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃的堅(jiān)定決心,也預(yù)示著該項(xiàng)目將對(duì)未來(lái)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響。 中芯京城二期項(xiàng)目是中
2025-02-19 11:32:53
1997 【DT半導(dǎo)體】獲悉,根據(jù)《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》消息,2月18日,中芯國(guó)際位于北京的晶圓廠項(xiàng)目——中芯京城二期,建設(shè)進(jìn)展迎來(lái)重要節(jié)點(diǎn)。亦莊新城YZ00-0606街區(qū)0001-2地塊工業(yè)用地項(xiàng)目今日(2月18日
2025-02-19 11:18:33
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? EUV光刻有多強(qiáng)?目前來(lái)看,沒(méi)有EUV光刻,業(yè)界就無(wú)法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)也是歷史上最復(fù)雜、最昂貴的機(jī)器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸? EUV光刻技術(shù),存在很多難點(diǎn)。 1.1
2025-02-18 09:31:24
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在芯片制造的復(fù)雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對(duì)準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),它就像建造摩天大樓
2025-02-17 14:09:25
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2025年2月11日晚,中國(guó)大陸晶圓代工領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)中芯國(guó)際發(fā)布了其2024年第四季度及全年財(cái)報(bào),數(shù)據(jù)亮眼,彰顯出公司在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)中的強(qiáng)勁競(jìng)爭(zhēng)力。
2025-02-13 16:44:53
1665 美國(guó)芯片設(shè)備制造商Lam Research(泛林集團(tuán))近日宣布,計(jì)劃在未來(lái)幾年內(nèi)向印度南部卡納塔克邦投資超過(guò)1000億盧比(約12億美元)。此舉標(biāo)志著印度加強(qiáng)半導(dǎo)體生態(tài)系統(tǒng)計(jì)劃的又一重要進(jìn)展。
2025-02-13 15:57:07
737 近日,美國(guó)芯片工具制造商Lam Research宣布了一項(xiàng)重大投資決策,計(jì)劃在未來(lái)幾年內(nèi)向印度南部卡納塔克邦投資超過(guò)1000億盧比(折合美元約為12億)。這一舉措標(biāo)志著Lam Research在印度
2025-02-13 09:57:15
666 電子發(fā)燒友原創(chuàng) 章鷹 2月12日,中芯國(guó)際發(fā)布2024年第四季度。第四季度,中芯國(guó)際營(yíng)收達(dá)到 22.07億美 元(159.16億人民幣),同比增加31%,歸屬上市公司凈利潤(rùn)9.92億元,同比
2025-02-13 01:15:00
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1. 歐盟制定2000 億歐元人工智能發(fā)展計(jì)劃,將建設(shè)AI 超級(jí)工廠 ? 歐盟委員會(huì)主席烏爾蘇拉·馮德萊恩在巴黎人工智能行動(dòng)峰會(huì)上表示,歐盟計(jì)劃調(diào)動(dòng)2000億歐元(合2061.5億美元)用于人工智能
2025-02-12 10:37:41
864 的是,中芯國(guó)際在2024年的全年收入首次突破了80億美元大關(guān),這一里程碑式的成就標(biāo)志著公司在過(guò)去一年中的持續(xù)努力和卓越表現(xiàn)。盡管凈利潤(rùn)同比有所下降,但公司解釋這主要是由于資金收益下滑所致,而非主營(yíng)業(yè)務(wù)出現(xiàn)問(wèn)題。 展望未來(lái),中芯
2025-02-12 09:49:09
1037 億歐元。這一季度的新增訂單金額為71億歐元,其中EUV光刻機(jī)訂單占據(jù)了30億歐元,顯示出市場(chǎng)對(duì)ASML高端光刻技術(shù)的強(qiáng)烈需求。 回顧全年,ASML在2024年實(shí)現(xiàn)了283億歐元的凈銷售額,毛利率為51.3%,凈利潤(rùn)更是高達(dá)76億歐元。這些數(shù)字不僅彰顯了ASML在半導(dǎo)體制造設(shè)備領(lǐng)域的領(lǐng)先
2025-02-10 11:14:53
1118 2024年第四季度[1] (截至2024年12月31日),KLA實(shí)現(xiàn)了30.8億美元的總收入,位于其指導(dǎo)范圍的上限。歸屬于KLA的GAAP(美國(guó)通用會(huì)計(jì)法則)攤薄每股收益為6.16美元。非GAAP攤
2025-02-07 11:14:17
1411 光刻機(jī)制造巨頭阿斯麥(ASML)的首席執(zhí)行官克里斯托夫·富凱表示,盡管近年來(lái)中國(guó)在半導(dǎo)體領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)步,但與英特爾、臺(tái)積電和三星等行業(yè)巨頭相比, 中國(guó)的一些公司仍落后10到15年 。眾所周知
2025-02-06 17:39:05
935 光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
2025-02-06 09:38:03
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半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座的安裝涉及多個(gè)關(guān)鍵步驟和考慮因素,以確保光刻機(jī)的穩(wěn)定運(yùn)行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先,選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運(yùn)行,因此選擇的搬運(yùn)工具如
2025-02-05 16:48:45
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一、定制化的必要性1,適應(yīng)不同設(shè)備需求(1)半導(dǎo)體設(shè)備的種類繁多,包括光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜沉積設(shè)備等,每種設(shè)備的尺寸、重量、重心位置以及振動(dòng)敏感程度都有所不同。例如,光刻機(jī)通常對(duì)精度要求極高,其工作
2025-02-05 16:48:20
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光刻是芯片制造過(guò)程中至關(guān)重要的一步,它定義了芯片上的各種微細(xì)圖案,并且要求極高的精度。以下是光刻過(guò)程的詳細(xì)介紹,包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻機(jī)
2025-01-28 16:36:00
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近日,亞馬遜云科技宣布了一項(xiàng)重大投資決策。作為到2030年在印度投資127億美元計(jì)劃的關(guān)鍵一環(huán),該公司將向印度馬哈拉施特拉邦的云基礎(chǔ)設(shè)施項(xiàng)目投入83億美元,旨在進(jìn)一步擴(kuò)大印度的云計(jì)算能力。
2025-01-24 13:56:11
890 對(duì)于傳聞中的字節(jié)跳動(dòng)計(jì)劃2025年在人工智能基礎(chǔ)設(shè)施上投入超120億美元的消息,字節(jié)跳動(dòng)回應(yīng)稱消息并不準(zhǔn)確。 ? ?
2025-01-23 15:45:54
834 ”的全流程制造能力。 ? ? 格芯馬耳他先進(jìn)封測(cè)中心的初期投資規(guī)模為 5.75?億美元(IT之家備注:當(dāng)前約 41.98?億元人民幣),未來(lái) 10?年還將為該中心的研發(fā)工作追加投資 1.86?億美元(當(dāng)前約 13.58?億元人民幣)。 ? 美國(guó)聯(lián)邦政府將為此對(duì)格芯追加提供 7500?萬(wàn)美元(當(dāng)
2025-01-22 14:54:55
560 本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號(hào)的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA,又名
2025-01-20 09:44:18
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防震基座的要求也最為嚴(yán)格。例如,在工作過(guò)程中,光刻機(jī)的投影物鏡系統(tǒng)需要極高的穩(wěn)定性。因此,防震基座必須能夠有效隔離微小振動(dòng),要求隔振效率在高頻振動(dòng)(如頻率大于100
2025-01-17 15:16:54
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近日,飛利浦已將其位于荷蘭埃因霍溫的 MEMS 晶圓廠和代工廠出售給一個(gè)荷蘭投資者財(cái)團(tuán),交易金額不詳。該代工廠為 ASML 光刻機(jī)等公司提供產(chǎn)品,并已更名為 Xiver。 該 MEMS 代工廠已被
2025-01-16 18:29:17
2615 本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片光刻機(jī)和面板光刻機(jī)。面板光刻機(jī)的工作原理和芯片光刻機(jī)相似
2025-01-16 09:29:45
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芯片制造、價(jià)值1.5億美元的極紫外(EUV,https://spectrum.ieee.org/tag/euv)光刻掃描
2025-01-09 11:31:18
1280 用先進(jìn)材料項(xiàng)目等。 恒坤新材成立于2004年12月,是中國(guó)境內(nèi)少數(shù)具備12英寸集成電路晶圓制造關(guān)鍵材料研發(fā)和量產(chǎn)能力的創(chuàng)新企業(yè)之一。據(jù)其股東廈門市產(chǎn)業(yè)投資基金披露,恒坤新材是國(guó)內(nèi)12英寸晶圓制造先進(jìn)制程上出貨量最大的光刻膠企業(yè)。 根據(jù)弗若斯特沙利文市
2025-01-07 17:38:55
843 ? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過(guò)程,但精度要求極高,能夠達(dá)到
2025-01-07 10:02:30
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評(píng)論