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電子發(fā)燒友網(wǎng)>今日頭條>中芯國(guó)際12億美元訂購(gòu)ASML光刻機(jī)

中芯國(guó)際12億美元訂購(gòu)ASML光刻機(jī)

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2025-10-04 03:18:009690

AI需求飆升!ASML光刻機(jī)直擊2nm芯片制造,尼康新品獲重大突破

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2025-07-24 09:29:397824

上海微電子中標(biāo) 1.1 光刻機(jī)項(xiàng)目

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2025-11-27 13:47:45256

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2025-11-19 18:15:282497

全年?duì)I收劍指90美元國(guó)際Q3滿產(chǎn)沖刺,凈利潤(rùn)大漲43.1%

11月13日,國(guó)內(nèi)最大的晶圓代工企業(yè)國(guó)際發(fā)布Q3業(yè)績(jī)報(bào),三季度,國(guó)際公司整體實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入人民幣 171.62 元(23.81美元),同比增長(zhǎng)9.9%;Q3歸屬上市公司凈利潤(rùn)達(dá)到15.17
2025-11-14 10:00:2012607

AI驅(qū)動(dòng)半導(dǎo)體行業(yè)變革:ASML解決方案應(yīng)對(duì)算力與能耗挑戰(zhàn)

電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 在第八屆中國(guó)國(guó)際進(jìn)口博覽會(huì)(以下簡(jiǎn)稱“進(jìn)博會(huì)”)上,全球光刻機(jī)巨頭ASML以“積納米之微,成大千世界”為主題亮相,向全球展示其面向主流芯片市場(chǎng)的全景光刻解決方案。這是ASML
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意法半導(dǎo)體2025年第三季度營(yíng)收31.9美元

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2025-10-29 10:54:20429

“汽車智能化” 和 “家電高端化”

一、先搞懂:7nm 良率提升到底意味著什么?? 很多人覺得 “7nm 芯片” 是手機(jī)、電腦的專屬,其實(shí)不然!良率簡(jiǎn)單說(shuō)就是 “合格芯片的產(chǎn)出比例”,國(guó)際 7nm 良率提高,核心意義是:高端芯片能
2025-10-28 20:46:33

恩智浦三季度營(yíng)收31.7美元

根據(jù)恩智浦發(fā)布的三季度運(yùn)營(yíng)業(yè)績(jī)報(bào)告數(shù)據(jù)顯示,?恩智浦三季度營(yíng)收31.7美元, 略高于分析師預(yù)期的31.6美元;恩智浦三季度調(diào)整后自由現(xiàn)金流(FCF)為5.09美元,低于分析師預(yù)期的7.62
2025-10-28 14:40:13393

德州儀器 DLP? 技術(shù)為高級(jí)封裝帶來(lái)高精度數(shù)字光刻解決方案

能力及每秒 110 千兆像素的數(shù)據(jù)傳輸速率 ,在滿足日益復(fù)雜的封裝工藝對(duì)可擴(kuò)展性、成本效益和精度要求的同時(shí),消除對(duì)昂貴掩模技術(shù)的依賴。 ? TI DLP 技術(shù)造就高級(jí)封裝領(lǐng)域的無(wú)掩模數(shù)字光刻系統(tǒng) 關(guān)鍵所在 無(wú)掩模數(shù)字光刻機(jī)正廣泛應(yīng)用于高級(jí)封裝制造領(lǐng)域,這類光刻機(jī)無(wú)需光
2025-10-20 09:55:15887

國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠

近日,深圳穩(wěn)頂聚技術(shù)有限公司(簡(jiǎn)稱“穩(wěn)頂聚”)宣布,其自主研發(fā)的首臺(tái)國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠,標(biāo)志著我國(guó)在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚出廠的步進(jìn)式光刻機(jī)屬于WS180i
2025-10-10 17:36:33929

滾珠導(dǎo)軌在半導(dǎo)體制造如何實(shí)現(xiàn)高精度效率

滾珠導(dǎo)軌憑借其低摩擦、高剛性、納米級(jí)定位精度等特性,成為光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、貼片機(jī)等核心設(shè)備的關(guān)鍵傳動(dòng)元件,直接決定著芯片良率與生產(chǎn)效率。
2025-09-22 18:02:20602

網(wǎng)傳中國(guó)際正在測(cè)試“國(guó)產(chǎn)ASML

行業(yè)行業(yè)資訊
電子發(fā)燒友網(wǎng)官方發(fā)布于 2025-09-19 11:33:02

如何確定12英寸集成電路新建項(xiàng)目中光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等不同設(shè)備所需的防震基座類型和數(shù)量?-江蘇泊蘇系統(tǒng)集

確定 12 英寸集成電路新建項(xiàng)目中光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等核心設(shè)備的防震基座類型與數(shù)量,需遵循 “設(shè)備需求為核心、環(huán)境評(píng)估為基礎(chǔ)、合規(guī)性為前提” 的原則,分步驟結(jié)合設(shè)備特性、廠房條件、工藝要求綜合判斷,具體流程與關(guān)鍵考量如下:
2025-09-18 11:24:23915

【「AI芯片:科技探索與AGI愿景」閱讀體驗(yàn)】+半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的前沿技術(shù)

%。至少將GAA納米片提升幾個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)。 2、晶背供電技術(shù) 3、EUV光刻機(jī)與其他競(jìng)爭(zhēng)技術(shù) 光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點(diǎn)的高端半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵技術(shù)。是將設(shè)計(jì)好的芯片版圖圖形轉(zhuǎn)移到硅晶圓上的一種精細(xì)
2025-09-15 14:50:58

原亮相2025深圳國(guó)際半導(dǎo)體展

9月10日至12日,由中國(guó)國(guó)際光電博覽會(huì) (簡(jiǎn)稱“CIOE中國(guó)光博會(huì)”) 與集成電路創(chuàng)新聯(lián)盟主辦的SEMI-e深圳國(guó)際半導(dǎo)體展暨2025集成電路產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新展在深圳國(guó)際會(huì)展中心 (寶安新館) 舉辦。原出席了此次展會(huì),展示了公司面向AI輕量化可穿戴設(shè)備的創(chuàng)新IP及技術(shù)方案。
2025-09-15 10:07:11697

國(guó)科技亮相2025深圳國(guó)際半導(dǎo)體展

2025年9月10日 - 12日,國(guó)科技攜車載 RISC-V 芯片核心成果在SEMI-e 深圳國(guó)際半導(dǎo)體展暨 2025 集成電路產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新展亮相。
2025-09-15 10:05:091386

”耀鵬城 | 度亙核第26屆中國(guó)國(guó)際光電博覽會(huì)完美收官!

2025年9月12日,第26屆中國(guó)國(guó)際光電博覽會(huì)(CIOE)在深圳國(guó)際會(huì)展中心圓滿收官。度亙核以創(chuàng)新“”動(dòng)力、硬核“”產(chǎn)品和前沿“”視野,吸引了眾多行業(yè)專家、客戶伙伴前來(lái)深入交流。展臺(tái)現(xiàn)場(chǎng)
2025-09-12 22:16:161279

今日看點(diǎn)丨碁微裝直寫光刻設(shè)備批量導(dǎo)入國(guó)內(nèi)多家封測(cè)龍頭;英特爾首個(gè)機(jī)架級(jí) AI 芯片樣品曝光

碁微裝直寫光刻設(shè)備批量導(dǎo)入國(guó)內(nèi)多家封測(cè)龍頭 ? 8月19日,碁微裝宣布,其面向中道領(lǐng)域的晶圓級(jí)及板級(jí)直寫光刻設(shè)備系列已獲得重大市場(chǎng)突破。公司已與多家國(guó)內(nèi)頭部封測(cè)企業(yè)簽訂采購(gòu)訂單,產(chǎn)品主要應(yīng)用于
2025-08-21 10:33:001560

全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問(wèn)世,精度比肩國(guó)際主流

行業(yè)資訊
電子發(fā)燒友網(wǎng)官方發(fā)布于 2025-08-18 09:37:12

電子束光刻機(jī)

澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)(EBL)是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備,專為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)采用先進(jìn)的場(chǎng)發(fā)射電子槍,結(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng),確保光刻質(zhì)量?jī)?yōu)異且
2025-08-15 15:14:01

DMD無(wú)掩膜光刻機(jī)

澤攸科技ZML10A是一款創(chuàng)新的桌面級(jí)無(wú)掩膜光刻設(shè)備,專為高效、精準(zhǔn)的微納加工需求設(shè)計(jì)。該設(shè)備采用高功率、高均勻度的LED光源,并結(jié)合先進(jìn)的DLP技術(shù),實(shí)現(xiàn)了黃光或綠光引導(dǎo)曝光功能,真正做到
2025-08-15 15:11:55

今日看點(diǎn)丨全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問(wèn)世;智元機(jī)器人發(fā)布行業(yè)首個(gè)機(jī)器人世界模型開源平臺(tái)

全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問(wèn)世,精度比肩國(guó)際主流 ? 近日,全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發(fā)并進(jìn)入應(yīng)用測(cè)試階段。該設(shè)備精度達(dá)到0.6nm,線寬
2025-08-15 10:15:172937

全球市占率35%,國(guó)內(nèi)90%!上微裝第500臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)交付

? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,近日,上海上微裝科技股份有限公司(簡(jiǎn)稱:上微裝,英文簡(jiǎn)稱:AMIES)第500臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)成功交付,并舉辦了第500臺(tái) 步進(jìn)光刻機(jī) 交付儀式。 ? ? 光刻是半導(dǎo)體器件
2025-08-13 09:41:341988

國(guó)際Q2營(yíng)收超22美元,渠道加緊備貨持續(xù)到第三季度

8月7日晚,中國(guó)芯片代工大廠國(guó)際披露未經(jīng)審計(jì)的第二季度財(cái)報(bào),8月8日國(guó)際召開2025年第二季度業(yè)績(jī)說(shuō)明會(huì),國(guó)際聯(lián)席CEO趙海軍表示,二季度收入增長(zhǎng)主要是因?yàn)樵趪?guó)內(nèi)外政策變化的影響下,渠道加緊備貨、補(bǔ)庫(kù)存,公司也積極配合客戶保證出貨,這種情況一直持續(xù)到了三季度。
2025-08-12 08:54:067043

河南企業(yè)重大突破,自研光刻機(jī)核心零件通過(guò)、長(zhǎng)鑫認(rèn)證

行業(yè)行業(yè)資訊
電子發(fā)燒友網(wǎng)官方發(fā)布于 2025-08-07 14:08:01

時(shí)隔21年,佳能再開新光刻機(jī)工廠#光刻機(jī)

行業(yè)行業(yè)資訊
電子發(fā)燒友網(wǎng)官方發(fā)布于 2025-08-05 13:51:56

今日看點(diǎn)丨佳能再開新光刻機(jī)工廠;中國(guó)移動(dòng)首款全自研光源芯片研發(fā)成功

? ? 時(shí)隔21年,佳能再開新光刻機(jī)工廠 ? 日前,據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》報(bào)道,佳能在當(dāng)?shù)匾患椅挥跂心究h宇都宮市的半導(dǎo)體光刻設(shè)備工廠舉行開業(yè)儀式,這也是佳能時(shí)隔21年開設(shè)的首家新光刻機(jī)廠。佳能宇都宮工廠
2025-08-05 10:23:382173

UVlaser 266nm OLED修復(fù)#DUV光刻 #精密儀器 #光刻技術(shù)

光刻機(jī)
jf_90915507發(fā)布于 2025-08-05 09:44:55

佳能9月啟用新光刻機(jī)工廠,主要面向成熟制程及封裝應(yīng)用

7 月 31 日消息,據(jù)《日經(jīng)新聞》報(bào)道,日本相機(jī)、打印機(jī)、光刻機(jī)大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機(jī)制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn),主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備,為全球芯片封裝
2025-08-04 17:39:28712

國(guó)際 7 納米工藝突破:代工龍頭的技術(shù)躍遷與拓能半導(dǎo)體的封裝革命

? 一、國(guó)際:從工藝追趕者到生態(tài)構(gòu)建者 2025 年 8 月 2 日,國(guó)際 A 股以 88.29 元 / 股收于歷史中樞,7050 元市值背后,是上海臨港 12 英寸工廠里晝夜不停的硅片
2025-08-04 15:22:2110988

SoC芯片市場(chǎng)將超3200美元!燦IP發(fā)力多端客戶,加速智能終端產(chǎn)品落地

在近期舉辦的AIOT大會(huì)上,燦半導(dǎo)體(上海)股份有限公司市場(chǎng)總監(jiān)楊凱分享智能終端市場(chǎng)的最新數(shù)據(jù),2024年全球智能終端市場(chǎng)規(guī)模突破950美元,到2030年將達(dá)到42000美元,呈現(xiàn)爆發(fā)式增長(zhǎng)。增長(zhǎng)來(lái)自三大驅(qū)動(dòng)力:一是AI技術(shù)普及;二是新興產(chǎn)品擴(kuò)張,三是新興市場(chǎng)換代需求。
2025-08-04 08:36:178184

蘋果第三財(cái)季營(yíng)收大漲 總營(yíng)收達(dá)940.36美元 較上年同期增長(zhǎng)10%

同期的214.48美元增長(zhǎng)9%。本季度稀釋后每股收益為 1.57 美元,同比增長(zhǎng) 12%。 940.36美元的營(yíng)收是蘋果公司自2021年12月以來(lái)的最大漲幅。 在2025財(cái)年第三季度蘋果中國(guó)區(qū)收入
2025-08-01 15:24:111010

中科院微電子所突破 EUV 光刻技術(shù)瓶頸

極紫外光刻(EUVL)技術(shù)作為實(shí)現(xiàn)先進(jìn)工藝制程的關(guān)鍵路徑,在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域占據(jù)著舉足輕重的地位。當(dāng)前,LPP-EUV 光源是極紫外光刻機(jī)所采用的主流光源,其工作原理是利用波長(zhǎng)為 10.6um 的紅外
2025-07-22 17:20:36956

奧松半導(dǎo)體8英寸MEMS項(xiàng)目迎重大進(jìn)展 首臺(tái)光刻機(jī)入駐

光刻機(jī)的成功搬入,意味著產(chǎn)線正式進(jìn)入設(shè)備安裝調(diào)試階段,距離8月底通線試產(chǎn)、第四季度產(chǎn)能爬坡并交付客戶的既定目標(biāo)指日可待。這一目標(biāo)的實(shí)現(xiàn),將實(shí)現(xiàn)各類MEMS半導(dǎo)體傳感器產(chǎn)品從研發(fā)到量產(chǎn)的無(wú)縫銜接,對(duì)重慶乃至整個(gè)集成電路行業(yè)都具
2025-07-17 16:33:121559

ASML Q2新增訂單額55!客戶對(duì)貿(mào)易戰(zhàn)前景不明,CEO看淡2026年增長(zhǎng)

ASML第二季度實(shí)現(xiàn)銷售額77歐元,毛利率為53.7%,凈利潤(rùn)達(dá)23歐元。第二季度的新增訂單金額為55歐元,其中23歐元為EUV光刻機(jī)訂單。第二季度營(yíng)收與第一季度的營(yíng)收持平,凈利潤(rùn)略微下降1歐元。
2025-07-17 12:06:395648

ASML發(fā)布2025年第二季度財(cái)報(bào) | 凈銷售額77歐元,凈利潤(rùn)23歐元;預(yù)計(jì)2025年全年凈銷售額將增長(zhǎng)約15%,毛利率

訂單金額為55歐元2,其中23歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計(jì)2025年第三季度凈銷售額在74至79歐元之間,毛利率介于50%至52%;預(yù)計(jì)2025年全年凈銷售額將同比增長(zhǎng)約15%,毛利率約為
2025-07-17 10:49:351516

國(guó)產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動(dòng)

厚膠量產(chǎn)到ArF浸沒(méi)式膠驗(yàn)證,從樹脂國(guó)產(chǎn)化到EUV原料突破,一場(chǎng)靜默卻浩蕩的技術(shù)突圍戰(zhàn)已進(jìn)入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長(zhǎng)的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A膠以120nm分辨率和93.7%的良率通過(guò)國(guó)際28nm產(chǎn)線驗(yàn)證,開創(chuàng)了國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造的新
2025-07-13 07:22:006083

辟謠!國(guó)際收購(gòu)英國(guó)IP公司

有關(guān)部門投訴”。 ? ? 國(guó)際是世界領(lǐng)先的集成電路晶圓代工企業(yè)之一,也是中國(guó)大陸集成電路制造業(yè)的領(lǐng)導(dǎo)者,擁有領(lǐng)先的工藝制造能力和產(chǎn)能優(yōu)勢(shì),向全球客戶提供8英寸和12英寸晶圓代工與技術(shù)服務(wù),總部位于上海,并在多地建有多座晶圓廠。 ? Imagin
2025-07-08 10:04:281432

電源磁研磨機(jī), 磁氣隙研磨機(jī)

電源磁研磨機(jī), 磁氣隙研磨機(jī); 在目前通訊,汽車電子等需要高功率的PCBA, 磁組裝后需要研磨,以讓磁點(diǎn)膠均勻,去除氣隙,提升磁通量,達(dá)到磁通量的控制要求. 上下磁在受控的壓力
2025-07-07 08:23:29

改善光刻圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

的應(yīng)用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量,可避免因曝光過(guò)度導(dǎo)致光刻膠過(guò)度反應(yīng),使線寬變寬;或曝光不足造成線寬變窄。采用先進(jìn)的曝光設(shè)備,如極紫外(EUV)光刻機(jī)
2025-06-30 15:24:55739

改善光刻圖形垂直度的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

深入探討白光干涉儀在光刻圖形測(cè)量的應(yīng)用。 改善光刻圖形垂直度的方法 優(yōu)化光刻膠性能 光刻膠的特性直接影響圖形垂直度。選用高對(duì)比度、低膨脹系數(shù)的光刻膠,可減少曝光和顯影過(guò)程的圖形變形。例如,化學(xué)增幅型光刻膠具有良
2025-06-30 09:59:13489

ASML官宣:更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動(dòng)

電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,日前,ASML 技術(shù)高級(jí)副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司,啟動(dòng)了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
2025-06-29 06:39:001916

ASML光刻 」勢(shì)力知識(shí)挑戰(zhàn)賽正式啟動(dòng)

ASML光刻」勢(shì)力知識(shí)挑戰(zhàn)賽由全球半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)先供應(yīng)商ASML發(fā)起,是一項(xiàng)面向中國(guó)半導(dǎo)體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML光刻領(lǐng)域的技術(shù)積累與行業(yè)洞察,賽事致力于為參賽者打造一個(gè)深度探索光刻技術(shù)的知識(shí)競(jìng)技窗口,同時(shí)培養(yǎng)優(yōu)秀科技「」勢(shì)力,共同推動(dòng)摩爾定律演進(jìn)。
2025-06-23 17:04:561158

600美元重大投資!模擬芯片巨頭德州儀器突傳重磅

。 2024年 12 月,在德州儀器宣布計(jì)劃根據(jù) 527 美元的《芯片和科學(xué)法案》投資至少 180 美元后,拜登政府最終批準(zhǔn)向該公司提供 16.1 美元的政府補(bǔ)貼,以支持其建設(shè)三處新設(shè)施。 據(jù)悉,德州儀器宣布其600美元資金用于在德州和猶他州興建或
2025-06-20 01:03:006096

MEMS制造領(lǐng)域中光刻Overlay的概念

在 MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))制造領(lǐng)域,光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環(huán)節(jié)。光刻 Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機(jī)將不同層設(shè)計(jì)圖案對(duì)準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。光刻 Overlay 指的是芯片制造過(guò)程,前后兩次光刻工藝形成的電路圖案之間的對(duì)準(zhǔn)精度。
2025-06-18 11:30:491557

以光為矛,第六屆世界光子大會(huì)構(gòu)筑國(guó)產(chǎn)集成電路新生態(tài)

受限,使我國(guó)高端芯片自給率不足5%。然而壓力催生變革:2024年國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模達(dá)6280美元,占全球25%以上,在AI、5G與智能汽車的內(nèi)需驅(qū)動(dòng)下,本土企業(yè)正以成熟工藝+封裝創(chuàng)新開辟新賽道。國(guó)際憑借DUV多重曝光實(shí)現(xiàn)7nm量產(chǎn),長(zhǎng)江存儲(chǔ)
2025-06-17 13:41:38400

為什么光刻要用黃光?

進(jìn)入過(guò)無(wú)塵間光刻區(qū)的朋友,應(yīng)該都知道光刻區(qū)里用的都是黃燈,這個(gè)看似很簡(jiǎn)單的問(wèn)題的背后卻蘊(yùn)含了很多鮮為人知的道理,那為什么實(shí)驗(yàn)室光刻要用黃光呢? 光刻是微流控芯片制造的重要工藝之一。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),它是
2025-06-16 14:36:251070

光刻工藝的顯影技術(shù)

的基礎(chǔ),直接決定了這些技術(shù)的發(fā)展水平。 二、顯影在光刻工藝的位置與作用 位置:顯影是光刻工藝的一個(gè)重要步驟,在曝光之后進(jìn)行。 作用:其作用是將曝光產(chǎn)生的潛在圖形,通過(guò)顯影液作用顯現(xiàn)出來(lái)。具體而言,是洗去光刻
2025-06-09 15:51:162127

蘇州矽科技:半導(dǎo)體清洗機(jī)的堅(jiān)實(shí)力量

。在全球半導(dǎo)體競(jìng)爭(zhēng)加劇的浪潮矽科技使命在肩。一方面持續(xù)加大研發(fā)投入,探索新技術(shù)、新工藝,提升設(shè)備性能,向國(guó)際先進(jìn)水平看齊;另一方面,積極攜手上下游企業(yè),構(gòu)建產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新生態(tài),共破技術(shù)瓶頸,推動(dòng)
2025-06-05 15:31:42

芯片制造自對(duì)準(zhǔn)接觸技術(shù)介紹

但當(dāng)芯片做到22納米時(shí),工程師遇到了大麻煩——用光刻機(jī)畫接觸孔時(shí),稍有一點(diǎn)偏差就會(huì)導(dǎo)致芯片報(bào)廢。 自對(duì)準(zhǔn)接觸技術(shù)(SAC) ,完美解決了這個(gè)難題。
2025-05-19 11:11:301316

Q1凈利潤(rùn)大漲166.5%!國(guó)際營(yíng)收創(chuàng)新高,Q2展望謹(jǐn)慎

制程營(yíng)收占比達(dá)到73%。臺(tái)積電總裁魏家哲表示,盡管美國(guó)關(guān)稅政策變化,客戶需求仍然強(qiáng)勁,特別是AI及機(jī)器人需求持續(xù)增長(zhǎng),預(yù)期今年?duì)I收將增長(zhǎng)中位數(shù),其中AI營(yíng)收將會(huì)倍增。 5月8日,國(guó)際發(fā)布2025年第一季度財(cái)報(bào),第一季度公司實(shí)現(xiàn)銷售收入22.47美元(163元人
2025-05-13 00:58:005959

電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來(lái)越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長(zhǎng)和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān),電子波長(zhǎng)可通過(guò)增加加速電極電壓來(lái)減小波長(zhǎng),而電子束聚焦后
2025-05-07 06:03:45

光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件免費(fèi)試用

光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進(jìn)行掩模版加工制造,在掩膜加工領(lǐng)域或者無(wú)掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺,在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10

光刻膠的類型及特性

光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:337824

Alphabet第一季度營(yíng)收902.3美元

根據(jù)谷歌母公司Alphabet發(fā)布的財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)顯示,在2025年第一季度Alphabet營(yíng)收達(dá)到902.3美元,同比增長(zhǎng)12%,高于此前市場(chǎng)普遍預(yù)估的891美元。經(jīng)營(yíng)利潤(rùn)達(dá)到306.1美元,同比
2025-04-25 14:01:26572

馬斯克旗下的腦機(jī)接口公司Neuralink計(jì)劃融資5美元

據(jù)外媒報(bào)道,馬斯克旗下的腦機(jī)接口公司Neuralink正計(jì)劃融資約5美元,目前來(lái)看Neuralink得投前估值為85美元(換算下來(lái)約合 620.13 元人民幣)。Neuralink的估值在過(guò)去幾年中顯著增長(zhǎng);在2023 年,基于公開報(bào)道的信息來(lái)看,Neuralink得估值只有 50 美元
2025-04-24 11:34:35630

關(guān)稅的影響:蘋果成特朗普關(guān)稅最大受害者之一 阿斯麥:對(duì)美出口光刻機(jī)或面臨關(guān)稅

2025年美國(guó)特朗普政府的“對(duì)等關(guān)稅”影響究竟有多大?未來(lái)還不確定,只有等待時(shí)間的檢驗(yàn)。這里我們看到已經(jīng)有很多的科技巨頭受損嚴(yán)重,比如蘋果公司、光刻機(jī)巨頭阿斯麥ASML、英偉達(dá)等。但是業(yè)界多認(rèn)為目前
2025-04-17 10:31:121073

阿斯麥(ASML)第一季度凈銷售額77.4歐元 毛利率54.0%

,其中有12歐元為EUV光刻機(jī)的訂單。 對(duì)于2025年第二季度的業(yè)績(jī)展望,阿斯麥CEO表示,人工智能仍是主要的增長(zhǎng)動(dòng)力;但是關(guān)稅新政增加了很大的不確定性。ASML公司預(yù)計(jì)在2025年第二季度總凈銷售額介于72至77歐元之間,毛利率預(yù)計(jì)介于50%至53%。 阿斯麥總裁兼首席執(zhí)行官傅恪
2025-04-16 16:15:431572

成都匯陽(yáng)投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲,后市迎來(lái)機(jī)會(huì)

【2025年光刻機(jī)市場(chǎng)的規(guī)模預(yù)計(jì)為252美元光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過(guò)程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一,其在半導(dǎo)體制造的重要性不言而喻。 目前,全球市場(chǎng)對(duì)光刻機(jī)的需求持續(xù)增長(zhǎng),尤其是在先
2025-04-07 09:24:271236

國(guó)際2024年?duì)I收突破80美元

國(guó)際集成電路制造有限公司宣布本公司及其子公司截至二零二四年十二月三十一日止年度經(jīng)審核業(yè)績(jī)。
2025-03-28 11:34:15923

【「芯片通識(shí)課:一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗(yàn)】了解芯片怎樣制造

TSMC,國(guó)際SMIC 組成:核心:生產(chǎn)線,服務(wù):技術(shù)部門,生產(chǎn)管理部門,動(dòng)力站(雙路保障),廢水處理站(環(huán)保,循環(huán)利用)等。生產(chǎn)線主要設(shè)備: 外延爐,薄膜設(shè)備,光刻機(jī),蝕刻機(jī),離子注入機(jī),擴(kuò)散爐
2025-03-27 16:38:20

不只依賴光刻機(jī)!芯片制造的五大工藝大起底!

在科技日新月異的今天,芯片作為數(shù)字時(shí)代的“心臟”,其制造過(guò)程復(fù)雜而精密,涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備,但實(shí)際上,芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝,揭示這些工藝如何協(xié)同工作,共同鑄就了現(xiàn)代芯片的輝煌。
2025-03-24 11:27:423167

科科技無(wú)線模塊業(yè)務(wù)營(yíng)收突破10美元

SiliconLabs(科科技)家庭與生活業(yè)務(wù)部門高級(jí)市場(chǎng)總監(jiān)Tom Nordman先生通過(guò)本篇博文分享公司近期達(dá)成的重要里程碑-10年來(lái)無(wú)線模塊業(yè)務(wù)的營(yíng)收突破10美元
2025-02-25 14:12:141103

國(guó)際擴(kuò)產(chǎn)迎新進(jìn)展:京城二期工業(yè)用地成交

總投資不低于500元,項(xiàng)目固定資產(chǎn)投資也不低于400元,預(yù)計(jì)達(dá)產(chǎn)年產(chǎn)值將不低于60元。這一巨額投資不僅體現(xiàn)了國(guó)際對(duì)擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃的堅(jiān)定決心,也預(yù)示著該項(xiàng)目將對(duì)未來(lái)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響。 京城二期項(xiàng)目是
2025-02-19 11:32:531997

國(guó)際宣布500擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃

【DT半導(dǎo)體】獲悉,根據(jù)《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》消息,2月18日,國(guó)際位于北京的晶圓廠項(xiàng)目——京城二期,建設(shè)進(jìn)展迎來(lái)重要節(jié)點(diǎn)。亦莊新城YZ00-0606街區(qū)0001-2地塊工業(yè)用地項(xiàng)目今日(2月18日
2025-02-19 11:18:331688

EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

? EUV光刻有多強(qiáng)?目前來(lái)看,沒(méi)有EUV光刻,業(yè)界就無(wú)法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)也是歷史上最復(fù)雜、最昂貴的機(jī)器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸? EUV光刻技術(shù),存在很多難點(diǎn)。 1.1
2025-02-18 09:31:242257

什么是光刻機(jī)的套刻精度

在芯片制造的復(fù)雜流程光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對(duì)準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),它就像建造摩天大樓
2025-02-17 14:09:254467

國(guó)際2024年財(cái)報(bào)亮點(diǎn):營(yíng)收首破80美元,穩(wěn)居全球第二

2025年2月11日晚,中國(guó)大陸晶圓代工領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)國(guó)際發(fā)布了其2024年第四季度及全年財(cái)報(bào),數(shù)據(jù)亮眼,彰顯出公司在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的強(qiáng)勁競(jìng)爭(zhēng)力。
2025-02-13 16:44:531665

泛林集團(tuán)擬向印度投資12美元

美國(guó)芯片設(shè)備制造商Lam Research(泛林集團(tuán))近日宣布,計(jì)劃在未來(lái)幾年內(nèi)向印度南部卡納塔克邦投資超過(guò)1000盧比(約12美元)。此舉標(biāo)志著印度加強(qiáng)半導(dǎo)體生態(tài)系統(tǒng)計(jì)劃的又一重要進(jìn)展。
2025-02-13 15:57:07737

Lam Research擬在印度投資12美元

近日,美國(guó)芯片工具制造商Lam Research宣布了一項(xiàng)重大投資決策,計(jì)劃在未來(lái)幾年內(nèi)向印度南部卡納塔克邦投資超過(guò)1000盧比(折合美元約為12)。這一舉措標(biāo)志著Lam Research在印度
2025-02-13 09:57:15666

超80美元國(guó)際2024年?duì)I收創(chuàng)歷史新高,凈利潤(rùn)減兩成

電子發(fā)燒友原創(chuàng) 章鷹 2月12日,國(guó)際發(fā)布2024年第四季度。第四季度,國(guó)際營(yíng)收達(dá)到 22.07美 元(159.16人民幣),同比增加31%,歸屬上市公司凈利潤(rùn)9.92元,同比
2025-02-13 01:15:003385

今日看點(diǎn)丨穩(wěn)居全球第二,國(guó)際營(yíng)收首破80美元!;傳華為與上汽確定智選車合作模式

1. 歐盟制定2000 歐元人工智能發(fā)展計(jì)劃,將建設(shè)AI 超級(jí)工廠 ? 歐盟委員會(huì)主席烏爾蘇拉·馮德萊恩在巴黎人工智能行動(dòng)峰會(huì)上表示,歐盟計(jì)劃調(diào)動(dòng)2000歐元(合2061.5美元)用于人工智能
2025-02-12 10:37:41864

國(guó)際2024年業(yè)績(jī)亮眼,全年收入破80美元

的是,國(guó)際在2024年的全年收入首次突破了80美元大關(guān),這一里程碑式的成就標(biāo)志著公司在過(guò)去一年的持續(xù)努力和卓越表現(xiàn)。盡管凈利潤(rùn)同比有所下降,但公司解釋這主要是由于資金收益下滑所致,而非主營(yíng)業(yè)務(wù)出現(xiàn)問(wèn)題。 展望未來(lái),
2025-02-12 09:49:091037

ASML發(fā)布2024年財(cái)報(bào),業(yè)績(jī)強(qiáng)勁增長(zhǎng)

歐元。這一季度的新增訂單金額為71歐元,其中EUV光刻機(jī)訂單占據(jù)了30歐元,顯示出市場(chǎng)對(duì)ASML高端光刻技術(shù)的強(qiáng)烈需求。 回顧全年,ASML在2024年實(shí)現(xiàn)了283歐元的凈銷售額,毛利率為51.3%,凈利潤(rùn)更是高達(dá)76歐元。這些數(shù)字不僅彰顯了ASML在半導(dǎo)體制造設(shè)備領(lǐng)域的領(lǐng)先
2025-02-10 11:14:531118

KLA公司2024年第四季度營(yíng)收30.8美元

2024年第四季度[1] (截至2024年12月31日),KLA實(shí)現(xiàn)了30.8美元的總收入,位于其指導(dǎo)范圍的上限。歸屬于KLA的GAAP(美國(guó)通用會(huì)計(jì)法則)攤薄每股收益為6.16美元。非GAAP攤
2025-02-07 11:14:171411

ASML:中國(guó)芯片落后西方15年!

光刻機(jī)制造巨頭阿斯麥(ASML)的首席執(zhí)行官克里斯托夫·富凱表示,盡管近年來(lái)中國(guó)在半導(dǎo)體領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)步,但與英特爾、臺(tái)積電和三星等行業(yè)巨頭相比, 中國(guó)的一些公司仍落后10到15年 。眾所周知
2025-02-06 17:39:05935

光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
2025-02-06 09:38:031028

半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座如何安裝?

半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座的安裝涉及多個(gè)關(guān)鍵步驟和考慮因素,以確保光刻機(jī)的穩(wěn)定運(yùn)行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先,選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運(yùn)行,因此選擇的搬運(yùn)工具如
2025-02-05 16:48:451240

半導(dǎo)體設(shè)備防震基座為什么要定制?

一、定制化的必要性1,適應(yīng)不同設(shè)備需求(1)半導(dǎo)體設(shè)備的種類繁多,包括光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜沉積設(shè)備等,每種設(shè)備的尺寸、重量、重心位置以及振動(dòng)敏感程度都有所不同。例如,光刻機(jī)通常對(duì)精度要求極高,其工作
2025-02-05 16:48:20786

芯片制造:光刻工藝原理與流程

光刻是芯片制造過(guò)程至關(guān)重要的一步,它定義了芯片上的各種微細(xì)圖案,并且要求極高的精度。以下是光刻過(guò)程的詳細(xì)介紹,包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻機(jī)
2025-01-28 16:36:003591

AWS印度投資83美元擴(kuò)建云基礎(chǔ)設(shè)施

近日,亞馬遜云科技宣布了一項(xiàng)重大投資決策。作為到2030年在印度投資127美元計(jì)劃的關(guān)鍵一環(huán),該公司將向印度馬哈拉施特拉邦的云基礎(chǔ)設(shè)施項(xiàng)目投入83美元,旨在進(jìn)一步擴(kuò)大印度的云計(jì)算能力。
2025-01-24 13:56:11890

快訊:字節(jié)跳動(dòng)否認(rèn)120美元投資AI

對(duì)于傳聞的字節(jié)跳動(dòng)計(jì)劃2025年在人工智能基礎(chǔ)設(shè)施上投入超120美元的消息,字節(jié)跳動(dòng)回應(yīng)稱消息并不準(zhǔn)確。 ? ?
2025-01-23 15:45:54834

斥資5.75美元建先進(jìn)封裝和光子學(xué)中心!

”的全流程制造能力。 ? ? 格馬耳他先進(jìn)封測(cè)中心的初期投資規(guī)模為 5.75?美元(IT之家備注:當(dāng)前約 41.98?元人民幣),未來(lái) 10?年還將為該中心的研發(fā)工作追加投資 1.86?美元(當(dāng)前約 13.58?元人民幣)。 ? 美國(guó)聯(lián)邦政府將為此對(duì)格追加提供 7500?萬(wàn)美元(當(dāng)
2025-01-22 14:54:55560

如何提高光刻機(jī)的NA值

本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號(hào)的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA,又名
2025-01-20 09:44:182475

不同類型的集成電路設(shè)備對(duì)防震基座的要求有何差異?

防震基座的要求也最為嚴(yán)格。例如,在工作過(guò)程光刻機(jī)的投影物鏡系統(tǒng)需要極高的穩(wěn)定性。因此,防震基座必須能夠有效隔離微小振動(dòng),要求隔振效率在高頻振動(dòng)(如頻率大于100
2025-01-17 15:16:541221

飛利浦將旗下MEMS代工廠Xiver出售,該廠為ASML光刻機(jī)提供組件

近日,飛利浦已將其位于荷蘭埃因霍溫的 MEMS 晶圓廠和代工廠出售給一個(gè)荷蘭投資者財(cái)團(tuán),交易金額不詳。該代工廠為 ASML 光刻機(jī)等公司提供產(chǎn)品,并已更名為 Xiver。 該 MEMS 代工廠已被
2025-01-16 18:29:172615

光刻機(jī)的分類與原理

本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片光刻機(jī)和面板光刻機(jī)。面板光刻機(jī)的工作原理和芯片光刻機(jī)相似
2025-01-16 09:29:456357

納米壓印光刻技術(shù)旨在與極紫外光刻(EUV)競(jìng)爭(zhēng)

芯片制造、價(jià)值1.5美元的極紫外(EUV,https://spectrum.ieee.org/tag/euv)光刻掃描
2025-01-09 11:31:181280

募資12!國(guó)內(nèi)光刻膠“銷冠王”沖刺IPO!

用先進(jìn)材料項(xiàng)目等。 恒坤新材成立于2004年12月,是中國(guó)境內(nèi)少數(shù)具備12英寸集成電路晶圓制造關(guān)鍵材料研發(fā)和量產(chǎn)能力的創(chuàng)新企業(yè)之一。據(jù)其股東廈門市產(chǎn)業(yè)投資基金披露,恒坤新材是國(guó)內(nèi)12英寸晶圓制造先進(jìn)制程上出貨量最大的光刻膠企業(yè)。 根據(jù)弗若斯特沙利文市
2025-01-07 17:38:55843

組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影的曝光過(guò)程,但精度要求極高,能夠達(dá)到
2025-01-07 10:02:304530

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