【2025年光刻機市場的規模預計為252億美元】

光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一，其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對光刻機的需求持續增長，尤其是在先進制程領域，曝光波長逐漸縮短至13.5nm，光刻技術逐步完善成熟。2024年光刻機市場的規模為230億美元。2025年光刻機市場的規模預計為252億美元。

【光刻機的發展機會主要體現在以下四方面】

一、技術突破與市場競爭

中科院成功研發了突破性的固態深紫外激光技術，能夠發射出193nm的光， 一波長被普遍應用于DUV光刻機，標志著我國在DUV光刻機領域取得了重大突破。此外，國內企業在光源系統、照明系統和投影物鏡等環節也取得了進展，進一步推動了國產光刻機的發展。這些技術突破為國內光刻機企業提供了更多的市場機會和競爭優勢。

二、市場需求增長

隨著全球半導體產業的快速發展，光刻機的需求也在不斷增加。特別是在電動汽車、人工智能等領域的需求增長，為光刻機市場帶來了新的機遇。中國作為全球最大的半導體市場之一，對光刻機的需求尤為顯著。盡管ASML等國際巨頭在中國市場的收入可能會減少，但這為中國本土光刻機企業提供了更多的市場空間和發展機會。

三、政策支持與投資增加

國家對半導體產業的重視和投入加大，為光刻機的發展提供了有力的政策支持和資金保障。國內企業如上海微電子已經實現了90nm光刻機的量產，并在不斷努力突破先進制程，加速國產化進程。這些政策支持和投資增加為光刻機的發展創造了良好的環境。

四、國際競爭與合作

雖然歐美企業在光刻機領域占據主導地位，但中國在光刻機領域的自主研發和創新也在不斷推進。通過與國際企業的競爭與合作，中國光刻機企業可以不斷提升技術水平，拓展國際市場，進一步推動光刻機產業的發展。

我們篩選出以下潛力標的

飛凱材料(300398)：主營業務包括光刻膠產品的研發、生產和銷售。其產品廣泛應用于LED、TFT-LCD、PCB制造以及屏幕顯示制造等領域，并已逐步拓展至半導體制造和OLED材料領域。其核心優勢在于豐富的產品線和廣泛的應用領域 , 以及持續的技術創新和市場拓展能力。

新萊應材(300260)：光刻機的制造工藝對超高真空和特殊氣體條件有著嚴格的要求。新萊應材的AdvanTorr真空產品系列以及NanoPure氣體產品系列，均能滿足這一需求，并廣泛應用于光刻機設備中。公司已成功與多家光刻機制造商建立了合作關系。

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審核編輯 黃宇