目前的7nm已經廣泛應用在各大半導體企業的芯片當中，如麒麟980、蘋果A12等。臺積電方面也表示，7nm是其產能提升最快的一代工藝。 目前公開的信息顯示，臺積電7nm工藝共有兩代，第一代在2018年4月份大規模投產，第二代，將EUV（極紫外光）技術引入進7nm的商業生產當
2020-08-23 08:23:00
6178 推動科技進步的半導體技術真的會停滯不前嗎？這也不太可能，7nm工藝節點將開始應用EUV光刻工藝，研發EUV光刻機的ASML表示EUV工藝將會支持未來15年，部分客戶已經在討論2030年的1.5nm工藝路線圖了。
2017-01-22 11:45:423754 傳統的光刻工藝是相對目前已經或尚未應用于集成電路產業的先進光刻工藝而言的，普遍認為 193nm 波長的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺（見下表）。這是因為 193nm 的光刻依靠浸沒式和多重曝光技術的支撐，可以滿足從 0.13um至7nm 共9個技術節點的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2917459 10月10日晚間消息，著名半導體制造公司臺積電宣布了有關極紫外光刻(EUV)技術的兩項重磅突破，一是首次使用7nm EUV工藝完成了客戶芯片的流片工作，二是5nm工藝將在六個月后開始試產！
2018-10-11 11:45:234222 三星官方宣布，已經開始進行7nm LPP(Low Power Plus)工藝芯片的量產工作。據悉，三星的7nm LPP采用EUV光刻，機器采購自荷蘭ASML(阿斯麥)，型號為雙工件臺NXE:3400B(光源功率280W)，日產能1500片。
2018-10-18 09:48:281528 中芯國際的7nm工藝發展跟臺積電的路線差不多，7nm節點一共發展了三種工藝，分別是低功耗的N7、高性能的N7P、使用EUV工藝的N7＋，前兩代工藝也沒用EUV光刻機，只有N7＋工藝上才開始用EUV工藝，不過光罩層數也比較少，5nm節點寸是充分利用EUV光刻工藝的，達到了14層EUV光罩。
2020-02-28 09:49:166208 剛宣布完7nm延期，英特爾首席執行官Bob Swan又宣布對公司的技術組織和執行團隊進行調整。英特爾首席工程官Murthy Renduchintala將離職，原因是7nm制程將延后至少6個月，研發技術的進度落后于同業。
2020-07-29 07:10:033802 翁壽松(無錫市羅特電子有限公司，江蘇無錫214001)1 32 nm/22 nm工藝進展2006年1月英特爾推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特爾將投資90億美元在以下4座
2019-07-01 07:22:23
Tock步伐，工藝進步至7nm，首款產品為面向數據中心的GPU。在7nm工藝方面，英特爾提出，光刻技術將成為7nm乃至更新工藝制程的挑戰。英特爾計劃在進入7nm后才使用EUV光刻（意味著目前的10nm產品
2020-07-07 11:38:14
7nm新工藝的加持：RX 5500 XT可輕輕松松突破2GHz
2021-06-26 07:05:34
，購買或者開發EUV光刻機是否必要？中國應如何切實推進半導體設備產業的發展？EUV面向7nm和5nm節點所謂極紫外光刻，是一種應用于現代集成電路制造的光刻技術，它采用波長為10～14納米的極紫外光作為
2017-11-14 16:24:44
，光源是ArF（氟化氬）準分子激光器，從45nm到10/7nm工藝都可以使用這種光刻機，但是到了7nm這個節點已經的DUV光刻的極限，所以Intel、三星和臺積電都會在7nm這個節點引入極紫外光（EUV
2020-07-07 14:22:55
。但從技術層面來看，開始領先于AMD的英特爾慢慢被后來者居上，AMD也使勁全力向頂層技術發起總攻，如10nm、7nm工藝。在AMD漫長的奮斗下，英特爾稍顯疲態。有分析師預測，隨著英特爾緩慢的研發步伐
2018-09-29 17:42:03
設計差異性并更快地推出他們的最終產品。”Fusion Design Platform提供基于7nm極紫外單次曝光的優化，支持過孔支柱和連排打孔，以實現最大的設計可布線性和利用率，以及最少的電壓降和電遷移
2020-10-22 09:40:08
XX nm制造工藝是什么概念？為什么說7nm是物理極限？
2021-10-20 07:15:43
Smith表示，“很高興首次在中國與大家分享英特爾制程工藝路線圖中的多項重要進展，展現了我們持續推動摩爾定律向前發展所獲得的豐碩成果。”英特爾公司全球副總裁兼中國區總裁楊旭英特爾公司全球副總裁兼中國區總裁楊
2017-09-22 11:08:53
們的投入中，80%的開支會用于先進產能擴增，包括7nm、5nm及3nm，另外20%主要用于先進封裝及特殊制程。而先進工藝中所用到的EUV極紫外光刻機，一臺設備的單價就可以達到1.2億美元，可見半導體
2020-02-27 10:42:16
快照】：極紫外(EUV)光刻技術一直被認為是光學光刻技術之后最有前途的光刻技術之一,國際上對EUV光刻技術已開展了廣泛的研究[1-4]。在EUV光刻技術中,EUV光源是其面臨的首要技術難題。實現EUV
2010-04-22 11:41:29
10nm、7nm等到底是指什么？芯片工藝從目前的7nm升級到3nm后，到底有多大提升呢？
2021-06-18 06:43:04
Intel 22nm光刻工藝背后的故事
去年九月底的舊金山秋季IDF 2009論壇上，Intel第一次向世人展示了22nm工藝晶圓，并宣布將在2011年下半年發布相關產品。
2010-03-24 08:52:581395 新式半導體光刻技術中，極紫外光刻(EUV)被認為是最有前途的方法之一，不過其實現難度也相當高，從上世紀八十年代開始探尋至今已經將近三十年， 仍然未能投入實用。極紫外光
2010-06-17 17:27:381823 光刻膠與光刻工藝技術 微電路的制造需要把在數量上精確控制的雜質引入到硅襯底上的微小 區域內,然后把這些區域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區域圖形 的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 的34%，而且良率很好，而三星展示的7nm SRAM芯片只有8Mb，更多的是研究性質，他們要等EUV光刻工藝成熟。 在ISSCC國際固態電路會議上，各
2017-02-11 02:21:11563 
英特爾采用7nm FinFET工藝制成的EyeQ4無人駕駛芯片將會在明年上市，EyeQx芯片來自Mobileye，單顆芯片的TDP是5W。NVIDIA Xaiver會是她最強勁的對手。
2017-12-15 12:43:213344 本周在火奴魯魯舉行的VLSI（超大規模集成電路）研討會上，三星首次分享了基于EUV技術的7nm工藝細節。
2018-06-22 15:16:001626 ? 前些天，新聞曝光的中芯國際花了1．2億美元從荷蘭ASML買來一臺EUV極紫外光刻機，未來可用于生產7nm工藝芯片，而根據最新消息稱，長江存儲也迎來了自己的第一臺光刻機，國產SSD固態硬盤將迎來重大突破。
2018-06-29 11:24:0010090 納米電子與數字技術研發創新中心 IMEC 與美國楷登電子( Cadence) 公司聯合宣布，得益于雙方的長期深入合作，業界首款 3nm 測試芯片成功流片。該項目采用極紫外光刻(EUV)技術。
2018-03-19 15:08:308957 EUV光刻工藝加成，但是7nm EUV工藝在性能上不會有多大的提升，AMD CTO Mark Pappermaster也在采訪中證實7nm EUV工藝主要是改善能效，性能提升只是適度的。
2018-11-27 16:35:244132 。 GlobalFoundries、英特爾、三星和臺積電希望將EUV光刻技術加入到7nm和5nm生產中。但就像以前一樣，EUV由幾部分組件組成，在芯片制造商能夠引入之前，它們必須整合在一起。
2018-03-31 11:52:006365 率先引入EUV極紫外光刻設備，去年向光刻巨頭ASML一口氣買了10臺EUV設備，要知道ASML去年一年的產能不過才12臺而已，其他廠商買不到設備，必然會影響產能。
2018-04-07 00:30:009372 積電近年來在新工藝方面競爭激烈，為搶奪訂單打得火熱。7nm工藝上，三星計劃全球第一家導入EUV極紫外光刻，原本被寄予厚望，但是新技術在研發、調校和設備上都需要花費更長時間，進展不順。
2018-06-08 13:35:004947 關鍵層面上首次嘗試使用EVU極紫外光刻系統，工藝節點從CLN7FF升級為CLN7FF+，號稱晶體管密度可因此增加20%，而在同樣密度和頻率下功耗可降低10%。 臺積電5nm(CLN5)將繼續使用荷蘭
2018-05-15 14:35:134690 
問題，工藝延期、產品路線圖不給力等等，不過AMD的追趕也是個重要因素。在半導體芯片市場上，英特爾以往最大的籌碼就是制程工藝領先對手兩三年，但是今年一切變了，英特爾10nm難產，還在使用14nm工藝，AMD的7nm芯片今年就會出貨，制程工藝趕超英特爾不是夢。
2018-06-27 16:29:00820
今年臺積電、三星及Globalfoundries等公司都會量產7nm工藝，第一代7nm工藝將使用傳統的DUV光刻工藝，二代7nm才會上EUV光刻工藝，預計明年量產。那么存儲芯片行業何時
2018-06-07 14:49:006864
今年臺積電、三星及Globalfoundries等公司都會量產7nm工藝，第一代7nm工藝將使用傳統的DUV光刻工藝，二代7nm才會上EUV光刻工藝，預計明年量產。那么存儲芯片行業何時
2018-06-08 14:29:076259 
Cannonlake架構的Core i3-8121處理器，通過分析英特爾的10nm工藝晶體管密度達到了100MTr/mm2，是14nm節點的2.7倍，而且英特爾首次使用了貴金屬釕。
2018-06-14 11:08:006886 Arm 與三星代工廠宣布雙方合作之旅的新里程碑：為期待已久的極紫外 (EUV) 光刻技術，提供首款 7LPP (7nm Low Power Plus) 和 5LPE (5nm Low Power Early) 庫面市。
2018-06-21 14:55:504500 
另外，7nm EUV的好處還在于，比多重曝光的步驟要少，也就是相同時間內的產量將提升。當然，這里說的是最理想的情況， 比如更好的EUV薄膜以減少光罩的污染、自修正機制過關堪用等。三星稱，7nm EUV若最終成行，將被證明是成本更優的方案。
2018-06-22 15:53:454004 光刻工藝，預計到5nm工藝將會上EUV光刻工藝。
NAND Flash發展到1znm（10nm級）便無法向下發展，或者即使向下走也不能帶來更好的成本效益，所以Flash原廠紛紛向3D NAND
2018-08-20 17:41:491480 10月10日晚間消息，著名半導體制造公司臺積電宣布了有關極紫外光刻(EUV)技術的兩項重磅突破，一是首次使用7nm EUV工藝完成了客戶芯片的流片工作，二是5nm工藝將在六個月后開始試產！
2018-10-11 08:44:335539 今年4月開始，臺積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產，蘋果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或將會使用它制造，但仍在使用傳統的深紫外光刻(DUV)技術。
2018-10-17 15:44:565426 臺積電前不久試產了7nm EUV工藝，預計明年大規模量產，三星今天宣布量產7nm EUV工藝，這意味著EUV工藝就要正式商業化了，而全球最大的光刻機公司荷蘭ASML為這一天可是拼了20多年。
2018-10-19 10:49:293872 隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產，2018年EUV光刻工藝終于商業化了，這是EUV工藝研發三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規模量產還有很多技術挑戰，目前的光源功率以及晶圓產能輸出還沒有
2018-10-30 16:28:404245 下一代7nm工藝的處理器上，英特爾明年推10nm工藝的處理器，AMD的7nm處理器與之相比如何？對于分析師這個提問，AMD CEO蘇姿豐表示他們的新一代芯片不僅僅是7nm工藝，處理器架構及系統也有了改變，AMD對此很滿意。
2018-10-30 15:33:0213864
隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產，2018年EUV光刻工藝終于商業化了，這是EUV工藝研發三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規模量產還有很多技術挑戰，目前的光源功率以及晶圓產能輸出
2018-11-01 09:44:264914 ，明年將在處理器制程工藝上領先對手。反觀英特爾這邊，由于10nm工藝不斷延期，PC及服務器處理器路線圖備受質疑，英特爾今年股價承壓就源于10nm工藝遲遲不能上市。
2018-11-28 15:41:211179 作為全球頭號代工廠，臺積電的新工藝正在一路狂奔，7nm EUV極紫外光刻工藝已經完成首次流片，5nm工藝也將在2019年4月開始試產。
2018-12-19 15:01:021916 隨著晶圓代工廠臺積電及記憶體廠三星電子的7納米邏輯制程均支援極紫外光（EUV）微影技術，并會在2019年進入量產階段，半導體龍頭英特爾也確定正在開發中的7納米制程會支援新一代EUV技術。
2019-01-03 11:31:594498 仍未量產，但是三星則是直接采用了更為先進的EUV（極紫外）工藝，有望領先臺積電的7nm EUV制程。消息稱，三星去年就小規模投產了7nm EUV。
所以，臺積電要想保持優勢，就必須要加快7nm
2019-02-14 16:04:593708 臺積電指出，5nm制程將會完全采用極紫外光(EUV)微影技術，因此可帶來EUV技術提供的制程簡化效益。5nm制程能夠提供全新等級的效能及功耗解決方案，支援下一代的高端移動及高效能運算需求的產品。目前，其他晶元廠的7nm工藝尚舉步維艱，在5nm時代臺積電再次領先。
2019-04-04 16:05:572113 臺積電官方宣布，已經開始批量生產7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業第一次量產EUV極紫外光刻技術，意義非凡，也領先Intel、三星一大步。
2019-05-28 11:20:413960 臺積電官方宣布，已經開始批量生產7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業第一次量產EUV極紫外光刻技術，意義非凡。
2019-05-28 16:18:244210 通過使用三星7nm EUV工藝代替臺積電的7nm工藝，Nvidia可能能夠獲得更多供應。
2019-06-10 09:06:127000 目前，臺積電7nm制程工藝主要被AMD第三代銳龍平臺使用，并且幫助銳龍處理器在主頻上追上了英特爾。
2019-06-26 09:39:426461 
7nm+ EUV節點之后，臺積電5nm工藝將更深入地應用EUV極紫外光刻技術，綜合表現全面提升，官方宣稱相比第一代7nm EDV工藝可以帶來最多80%的晶體管密度提升，15%左右的性能提升或者30%左右的功耗降低。
2019-09-26 14:49:115945 7nm是Intel下一代工藝的重要節點，而且是高性能工藝，其地位堪比現在的14nm工藝，而且它還是Intel首次使用EUV光刻的制程工藝，意義重大。
2019-10-12 14:44:543267 臺積電近日宣布，已經開始了7nm+ EUV工藝的大規模量產，這是該公司乃至整個半導體產業首個商用EUV極紫外光刻技術的工藝。作為EUV設備唯一提供商，市場預估荷蘭ASML公司籍此EUV設備年增長率將超過66%。這個目標是否能實現？EUV工藝在發展過程中面臨哪些挑戰？產業化進程中需要突破哪些瓶頸？
2019-10-17 15:57:302816 英特爾已經使用了 N 年的 14nm 工藝制程了，而現在這家科技巨頭似乎遇到了 10nm 的產能問題，于是 14nm++++ 成為未來兩三年內英特爾的主力制程，這也是消費者所不想要看到的。然而事實便是這樣，于是大家也就只能硬著頭皮使用英特爾的 14nm 產品了。
2019-12-02 16:31:329046 英特爾預計其制造工藝節點技術將保持2年一飛躍的節奏，從2019年的10納米工藝開始，到2021年轉向7納米EUV（極紫外光刻），然后在2023年采用5納米，2025年3納米，2027年2納米，最終到2029年的1.4納米。
2019-12-11 10:31:203933 集微網消息，據外媒wccftech報道，英特爾在最近舉行的UBS會議上對外界澄清，該公司將不會跳過10nm直接采用7nm制程。
2019-12-16 14:52:172342 截至目前，華為麒麟990 5G是唯一應用了EUV極紫外光刻的商用芯片，臺積電7nm EUV工藝制造，而高通剛發布的驍龍765/驍龍765G則使用了三星的7nm EUV工藝。
2019-12-18 09:20:0317038 三星宣布，位于韓國京畿道華城市的V1工廠已經開始量產7nm 7LPP、6nm 6LPP工藝，這也是全球第一座專門為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠。
2020-02-21 16:19:052868 近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多，三星在去年發布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473867 近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多，三星在去年發布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4531024 在工藝制程方面，臺積電的進度明顯要快于英特爾。其實在2017年的時候，英特爾就指出臺積電7nm并非真實的7nm。而且英特爾呼吁行業應該統一命名標準，防止命名混亂。英特爾更希望以晶體管密度作為衡量標準。
2020-03-01 08:13:003563 據國外媒體報道，在芯片的制造過程中，光刻機是必不可少的設備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機也就至關重要。
2020-03-07 10:50:592349 據國外媒體報道，在芯片的制造過程中，光刻機是必不可少的設備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機也就至關重要。
2020-03-07 14:39:545816 今日，英特爾宣布，英特爾的創新回歸兩年周期。英特爾稱，10nm良品率大幅提升，2020年將推出一系列新品。7nm將在2021實現產品首發，2022年提供完整的產品組合。
2020-04-10 16:32:122231 CFan曾在《芯希望來自新工藝！EUV和GAAFET技術是個什么鬼？》一文中解讀過EUV（極紫外光刻），它原本是用于生產7nm或更先進制程工藝的技術，特別是在5nm3nm這個關鍵制程節點上，沒有
2020-09-01 14:00:293544 工藝制程走入10nm以下后，臺積電的優勢開始顯現出來。在7nm節點，臺積電優先確保產能，以DUV（深紫外光刻）打頭陣，結果進度領先三星的7nm EUV，吃掉大量訂單，奠定了巨大優勢。
2020-09-02 15:58:442471 工藝制程走入10nm以下后，臺積電的優勢開始顯現出來。在7nm節點，臺積電優先確保產能，以DUV（深紫外光刻）打頭陣，結果進度領先三星的7nm EUV，吃掉大量訂單，奠定了巨大優勢。
2020-09-02 16:00:293421 關于芯片工藝，Intel前幾天還回應稱友商的7nm工藝是數字游戲，Intel被大家誤會了。不過今年Intel推出了新一代的10nm工藝，命名為10nm SuperFin工藝，簡稱10nm SF，號稱是有史以來節點內工藝性能提升最大的一次，沒換代就提升15%性能，比其他家的7nm還要強。
2020-09-27 10:35:064358 
臺積電是第一家將EUV（極紫外）光刻工藝商用到晶圓代工的企業，目前投產的工藝包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:562085 積電的制程工藝差多少呢？ 一位加拿大博主拿來電子顯微鏡，專門對比了英特爾的14nm+++和臺積電的7nm，對應產品為i9-10900K和銳龍9 3950X。結果比較有意思，雖然兩者命名差距很大，但從電子顯微鏡中看，兩者差別很小。 英特爾14nm+
2020-10-26 14:50:226046 
10月26日消息，據國外媒體報道，在芯片制程工藝方面，英特爾在近幾年已經落后于臺積電和三星，臺積電的5nm工藝在今年一季度就已大規模投產，三季度帶來了近10億美元的營收，三星電子也已在利用5nm工藝為相關客戶代工芯片，而英特爾的7nm還尚未投產，在研發上還遇到了困難。
2020-10-26 14:56:241826 ASML公司的EUV光刻機全球獨一份，現在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上，臺積電、三星用它生產CPU、GPU等芯片。馬上內存芯片也要跟進了，SK海力士宣布明年底量產EUV工藝內存。
2020-10-30 10:54:212203 制造工藝EUV（極紫外光刻）。Exynos 1080 所采用的 5nm EUV 工藝與 8nm LPP（成熟低功耗）相比，性能提升 14%，功耗降低 30%；與 7nm DUV（深紫外光刻）相比，
2020-11-12 16:48:292309 在5nm、6nm工藝大規模投產、第二代5nm工藝即將投產的情況下，芯片代工商臺積電對極紫外光刻機的需求也明顯增加。而外媒最新援引產業鏈消息人士的透露報道稱，臺積電已向阿斯麥下達了2021的極紫外光刻
2020-11-17 17:20:142373 自從芯片工藝進入到7nm工藝時代以后，需要用到一臺頂尖的EUV光刻機設備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進制程工藝的芯片產品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機，目前全球
2020-12-03 13:46:227525 更多訣竅，領先對手1到2年。 據悉，三星的1z nm DRAM第三代內存已經用上了一層EUV，第四代1a nm將增加到4層。EUV光刻機的參與可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產時間、降低成本，并提高性能。 盡管SK海力士、美光等也在嘗試EUV，但層數過少對
2020-12-04 18:26:542674 這屆CES中英特爾的表現最為搶眼，不僅發布了多款新品，而且更是在近期接連發布重大消息。比如英特爾現任CEO司睿博將在2月份辭職，VMWare公司CEO Pat Gelsinger將回歸Intel。此外，英特爾也宣稱公司在7nm工藝上獲得重大進展，股價應聲大漲。
2021-01-14 11:17:012089 會不斷增加，而全球目前唯一能生產極紫外光刻機廠商的阿斯麥，也就大量供應極紫外光刻機。 英文媒體在最新的報道中表示，在芯片制程工藝方面走在行業前列的臺積電，在今年預計可獲得 18 臺極紫外光刻機，三星和英特爾也將繼續購買這一類
2021-01-25 17:10:181914 ，對極紫外光刻機的需求會不斷增加，而全球目前唯一能生產極紫外光刻機廠商的阿斯麥，也就大量供應極紫外光刻機。 英文媒體在最新的報道中表示，在芯片制程工藝方面走在行業前列的臺積電，在今年預計可獲得 18 臺極紫外光刻機，三星和英特爾也將
2021-01-25 17:21:544030 2600萬片晶圓采用EUV系統進行光刻。隨著半導體技術的發展，光刻的精度不斷提高，2021年先進工藝將進入5nm/3nm節點，極紫外光刻成為必修課，EUV也成為半導體龍頭廠商競相爭奪采購的焦點。未來，極紫外光刻技術將如何發展？產業格局如何演變？我國發展半導體產業應如何解決光刻技術的難題？
2021-02-01 09:30:233646 2月25日消息，據國外媒體報道，芯片制程工藝提升至5nm的臺積電和三星，已從阿斯麥購買了大量的極紫外光刻機，并且還在大量購買。
2021-02-26 09:22:012149 近日，有外媒稱英特爾最新Meteor Lake的GPU核心可能會交由臺積電公司代工，并且用上臺積電的3nm工藝，加入了EUV光刻技術。英特爾Meteor Lake處理器預計將于明年正式亮相。
2021-11-24 16:07:162425 臺積電和三星從7nm工藝節點就開始應用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導體制造過程中的EUV光刻層數。
2022-05-13 14:43:203215 
1、IBM的2nm芯片，所有關鍵功能都是使用EUV光刻機進行刻蝕。而7nm芯片只有在芯片生產的中間和后端環節使用EUV光刻機，意味著2nm工藝對EUV光刻機擁有更高的依賴性。
2022-07-05 17:26:4910336 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術，EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1087068 光刻是半導體工藝中最關鍵的步驟之一。EUV是當今半導體行業最熱門的關鍵詞，也是光刻技術。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細看看光刻技術。
2022-10-18 12:54:056458 光刻機譽為“現代半導體行業皇冠上的明珠”，是一種高度復雜的設備。光刻機是通過紫外光作為“畫筆”，把預先設計好的芯片電路路線書寫在硅晶圓旋涂的光刻膠上，光刻工藝直接決定了芯片中晶體管的尺寸和性能，是芯片生產中最為關鍵的過程。
2022-10-27 09:39:024800 半導體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:543038 
據英特爾中國透露，極紫外光刻技術正在驅動著算力主導著ai、先進移動網絡、自動駕駛及新數據中心和云應用軟件等計算需求最高的應用軟件。另外，該技術將對英特爾到2025年為止的4年時間里完成5個工程節點，重新找回公正領導能力起到重要作用。
2023-10-16 10:08:321442 三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:022010 
來源：Yole Group 英特爾代工已接收并組裝了業界首個高數值孔徑（高NA）極紫外（EUV）光刻系統。 新設備能夠大大提高下一代處理器的分辨率和功能擴展，使英特爾代工廠能夠繼續超越英特爾 18A
2024-04-26 11:25:56956 英特爾正在按計劃實現其“四年五個制程節點”的目標，目前，Intel 7，采用EUV（極紫外光刻）技術的Intel 4和Intel 3均已實現大規模量產。
2024-05-11 09:25:401825 
在萬物互聯，AI革命興起的今天，半導體芯片已成為推動現代社會進步的心臟。而光刻(Lithography)技術，作為先進制造中最為精細和關鍵的工藝，不管是半導體芯片、MEMS器件，還是微納光學元件都離不開光刻工藝的參與，其重要性不言而喻。本文將帶您一起認識光刻工藝的基本知識。
2024-08-26 10:10:073248 
，nanoimprint lithography），它能夠繪制出小至14納米的電路特征——使邏輯芯片達到與英特爾、超微半導體（AMD）和英偉達現正大量生產的處理器相當的水平。 納米壓印光刻系統具有的優勢可能對當今主導先進
2025-01-09 11:31:181280 EUV（極紫外）光刻技術憑借 13.5nm 的短波長，成為 7nm 及以下節點集成電路制造的核心工藝，其光刻后形成的三維圖形（如鰭片、柵極、接觸孔等）尺寸通常在 5-50nm 范圍，高度 50-500nm。
2025-09-20 09:16:09592
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