国产精品久久久aaaa,日日干夜夜操天天插,亚洲乱熟女香蕉一区二区三区少妇,99精品国产高清一区二区三区,国产成人精品一区二区色戒,久久久国产精品成人免费,亚洲精品毛片久久久久,99久久婷婷国产综合精品电影,国产一区二区三区任你鲁

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

三星宣布全球首座專門為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠開始量產

工程師鄧生 ? 來源:快科技 ? 作者:上方文Q ? 2020-02-21 16:19 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

三星宣布,位于韓國京畿道華城市的V1工廠已經開始量產7nm 7LPP、6nm 6LPP工藝,這也是全球第一座專門為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠。

據介紹,三星7LPP、6LPP工藝主要生產先進的移動SoC芯片,本季度內陸續出貨,具體客戶均未披露,不過看起來7LPP會是對外代工主力,6LPP則可能是三星自用,或者僅限特定客戶。

按照三星的說法,6LPP相比于7LPP可將晶體管密度增加約10%,并降低功耗,但彼此互相兼容,針對7LPP工藝設計的IP可以直接復用,從而大大降低成本。

在路線圖上,三星還規劃了5LPE、4LPE、3GAE、3GAP等更先進的工藝,都會使用EUV極紫外光刻,其中5nm、4nm都可以算作7nm工藝的深度升級,3nm則是全新設計。

高通剛剛發布的第三代5G基帶驍龍X60就采用三星5nm工藝制造,3nm則會在今年完成開發,放棄使用多年的FinFET晶體管架構。

三星V1工廠2018年2月開工建設,2019年下半年開始試產,未來將迅速擴大產能,到今年底7LPP EUV和更新工藝的總產能將是去年底的三倍,累計投資也將達60億美元。

責任編輯:wv

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 三星電子
    +關注

    關注

    34

    文章

    15894

    瀏覽量

    183120
  • EUV
    EUV
    +關注

    關注

    8

    文章

    615

    瀏覽量

    88811
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    2025全球EMS代工廠50強(TOP 50)

    2025全球EMS代工廠50強(TOP 50)
    的頭像 發表于 12-10 16:12 ?799次閱讀
    2025<b class='flag-5'>全球</b>EMS<b class='flag-5'>代工廠</b>50強(TOP 50)

    白光干涉儀在EUV光刻后的3D輪廓測量

    EUV紫外光刻技術憑借 13.5nm 的短波長,成為 7nm 及以下節點集成電路制造的核心工藝,其
    的頭像 發表于 09-20 09:16 ?770次閱讀

    PCBA代工廠選擇指南:四大核心標準

    無論是初創企業還是成熟品牌,選對PCBA代工廠都是項目成功的關鍵一步。那么,如何從眾多代工廠中篩選出最適合的合作伙伴?以下四大核心標準您指明方向。 一、技術匹配度 首先需確認其是否具備特殊
    的頭像 發表于 08-08 17:10 ?1361次閱讀

    三星最新消息:三星將在美國工廠蘋果生產芯片 三星和海力士不會被征收100%關稅

    給大家帶來三星的最新消息: 三星將在美國工廠蘋果生產芯片 據外媒報道,三星電子公司將在美國德克薩斯州奧斯汀的芯片
    的頭像 發表于 08-07 16:24 ?1390次閱讀

    3D 共聚焦顯微鏡 | 芯片制造光刻工藝的表征應用

    光刻工藝是芯片制造的關鍵步驟,其精度直接決定集成電路的性能與良率。隨著制程邁向3nm及以下,光刻膠圖案維結構和層間對準精度的控制要求達納米級,傳統檢測手段難滿足需求。光子灣3D共聚焦顯微鏡憑借非
    的頭像 發表于 08-05 17:46 ?1188次閱讀
    3D 共聚焦顯微鏡 | 芯片制造<b class='flag-5'>光刻工藝</b>的表征應用

    中芯國際 7 納米工藝突破:代工龍頭的技術躍遷與拓能半導體的封裝革命

    流轉。這家全球大晶圓代工廠,正以每月 3 萬片的產能推進 7 納米工藝客戶驗證,標志著中國大陸在先進制程領域的實質性突破。 技術突圍的底層邏輯 中芯國際的 7 納米
    的頭像 發表于 08-04 15:22 ?1.2w次閱讀

    中科院微電子所突破 EUV 光刻技術瓶頸

    紫外光刻(EUVL)技術作為實現先進工藝制程的關鍵路徑,在半導體制造領域占據著舉足輕重的地位。當前,LPP-EUV 光源是
    的頭像 發表于 07-22 17:20 ?1145次閱讀
    中科院微電子所突破 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻</b>技術瓶頸

    Cadence擴大與三星晶圓代工廠的合作

    楷登電子(美國 Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)近日宣布擴大與三星晶圓代工廠的合作,包括簽署一項新的多年期 IP 協議,在三星晶圓代工
    的頭像 發表于 07-10 16:44 ?1084次閱讀

    光刻工藝中的顯影技術

    一、光刻工藝概述 光刻工藝是半導體制造的核心技術,通過光刻膠在特殊波長光線或者電子束下發生化學變化,再經過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程,將設計在掩膜上的圖形轉移到襯底上,是現代半導體、微
    的頭像 發表于 06-09 15:51 ?2786次閱讀

    詳談X射線光刻技術

    隨著紫外光刻EUV)技術面臨光源功率和掩模缺陷挑戰,X射線光刻技術憑借其固有優勢,在特定領域正形成差異化競爭格局。
    的頭像 發表于 05-09 10:08 ?1630次閱讀
    詳談X射線<b class='flag-5'>光刻</b>技術

    三星在4nm邏輯芯片上實現40%以上的測試良率

    似乎遇到了一些問題 。 另一家韓媒《DealSite》當地時間17日報道稱,自 1z nm 時期開始出現的電容漏電問題正對三星 1c nm DRAM 的開發量產造成明顯影響。三星試圖通
    發表于 04-18 10:52

    【「芯片通識課:一本書讀懂芯片技術」閱讀體驗】了解芯片怎樣制造

    合一工藝平臺,CMOS圖像傳感器工藝平臺,微電機系統工藝平臺。 光掩模版:基板,不透光材料 光刻膠:感光樹脂,增感劑,溶劑。 正性和負性
    發表于 03-27 16:38

    光刻工藝的主要流程和關鍵指標

    光刻工藝貫穿整個芯片制造流程的多次重復轉印環節,對于集成電路的微縮化和高性能起著決定性作用。隨著半導體制造工藝演進,對光刻分辨率、套準精度和可靠性的要求持續攀升,光刻技術也將不斷演化,
    的頭像 發表于 03-27 09:21 ?3740次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻工藝</b>的主要流程和關鍵指標

    千億美元打水漂,傳三星取消1.4nm晶圓代工工藝

    電子發燒友網綜合報道?據多方消息來源推測,三星電子可能取消原計劃于?2027?年量產的?1.4nm(FS1.4)晶圓代工工藝三星在?“Sa
    的頭像 發表于 03-23 11:17 ?2012次閱讀

    千億美元打水漂,傳三星取消1.4nm晶圓代工工藝?

    電子發燒友網綜合報道 據多方消息來源推測,三星電子可能取消原計劃于 2027 年量產的 1.4nm(FS1.4)晶圓代工工藝三星在 “Sa
    的頭像 發表于 03-22 00:02 ?2634次閱讀