1. 豐田汽車將從下周一重啟日本汽車工廠的生產
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豐田汽車表示將于下周一重新啟動日本的汽車工廠,但考慮到地震帶來的影響,將另行決定1月15日之后的運營情況。1月7日,豐田汽車表示,盡管部分供應商因最近在日本能登半島發生的強烈地震而受到干擾,但將從下周一開始按計劃恢復日本本土的汽車生產。
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由于余震仍在持續,且豐田許多供應商和附屬公司在地震中遭受損害,豐田表示將使用庫存區域以外的零部件。同時,豐田也將評估其供應商在1月15日之后的情況,然后再確定其持續的生產活動。豐田此前曾表示,由于供應商在地震中受到損害,無法按計劃開始生產。豐田新任CEO(Koji Sato)本周五談到,公司正試圖了解供應鏈情況,因為供應商愛信和住友電氣受到了地震的破壞。
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2. 英特爾率先擁抱 High-NA EUV 光刻機,臺積電持觀望態度
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芯片巨頭英特爾近日喜獲業內首臺具有 0.55 數值孔徑(High-NA)的 ASML 極紫外(EUV)光刻機,將助力其在未來幾年實現更先進的芯片制程。與之形成鮮明對比的是,另一巨頭臺積電則按兵不動,似乎并不急于加入這場下一代光刻技術的競賽。業內分析師預計,臺積電可能要到 2030 年甚至更晚才會采用這項技術。
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英特爾此次獲得的 High-NA EUV 光刻機將首先用于學習和掌握這項技術,預計在未來兩三年內用于 18A (1.8nm 工藝)之后的芯片制程節點。相比之下,臺積電則采取了更加謹慎的策略,華興資本和 SemiAnalysis 的分析師認為,臺積電可能要到 N1.4 制程之后(預計在 2030 年后)才會采用 High-NA EUV 技術。
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3. 7.48~10.48 萬元,東風納米 01 純電小車上市:CLTC 續航 330/430km
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東風納米旗下首款車型 —— 納米 01正式宣布上市,指導價 7.48 萬元起。這款小車基于東風旗下的「量子 3 號」純電架構打造,長寬高分別為 4030/1810/1570mm,軸距 2660mm。
動力方面,納米 01 將會采用單電機布局,最大功率 70kW,最大扭矩 160N?m。根據版本不同,該車將會搭載不同容量的電池組,官方 CLTC 續航里程為 330km 和 430km。值得一提的是,這款純電小車采用了馬赫 E 十合一電驅動總成,能效百分比高達 91.9%。根據官方的說法,「量子 3 號」平臺還配備了固態電池和輪轂電機(這款新車暫未提供),可實現大轉向角度,最低能耗 11 kWh / 100km,CLTC 達成率 89%,最快支持 8 分鐘補能 200 km。
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4. 華為 P70 手機 Deco 玻璃飾板泄露,采用 50MP 國產超大底 + 國產物理可變光圈
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據爆料華為 P70 將搭載 50MP 國產超大底 + 國產物理可變光圈,有網友曬出 Deco 玻璃飾板泄露圖片,可以看出與此前公布的線稿大致相同。
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此前,有博主分享一張華為 P70 超前瞻線稿,可以看出采用后置三攝,三顆鏡頭呈三角狀排列,布局上類似 P60。據外媒 GSMArena 報道,華為 P70 在攝影模組方面有一定升級,據稱新機超廣角鏡頭使用 1G6P 結構(一層玻璃鏡片 + 六層塑料鏡片),主攝配備 1 英寸傳感器。
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5. 蘋果 M3 iPad Pro 將首次引入 OLED 屏幕,分析師稱亮度高、壽命長、機身薄
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據爆料,蘋果將于今年晚些時候推出搭載 M3 芯片的 iPad Pro,并首次采用 OLED 顯示屏技術。知名顯示器供應鏈咨詢公司 DSCC 的 CEO 羅斯?楊(Ross Young)透露了最新相關消息,他認為蘋果將為 M3 iPad Pro 引進多項首次應用于該系列產品的技術,并對即將采用的 OLED 面板給予了高度評價。
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據傳,11 英寸和 12.9 英寸的 iPad Pro 機型都將配備 LTPO 背板,類似于蘋果最新款 iPhone 15 Pro 和 iPhone 15 Pro Max 所采用的技術。羅斯?楊表示,這些即將上市的設備還將是首批采用串聯堆疊技術的平板電腦。
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6. 消息稱華為在汽車充電方面可能會打造一個聯盟,提高充電樁利用率
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賽力斯與華為數字能源技術有限公司共同宣布,雙方在深圳簽署全面戰略合作協議。據第一財經報道,有業內人士稱,華為在充電方面可能會打造一個聯盟,以提高充電樁的利用率,加速走向盈利。
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華為數字能源技術有限公司總裁侯金龍發表演講表示,將推動全面高壓化、超快充,推動新能源汽車與充電基礎設施高質量協同發展。侯金龍表示,華為數字能源將攜手客戶、伙伴,計劃于 2024 年率先在全國 340 多個城市和主要公路部署超過 10 萬個華為全液冷超快充充電樁,實現“有路的地方就有高質量充電”。
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今日看點丨英特爾率先擁抱 High-NA EUV 光刻機;消息稱華為在汽車充電方面可能會打造一個聯盟,提高充電樁利
- 英特爾(179666)
- 華為(261259)
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- 充電樁(89070)
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`英特爾最近披露稱,它終于首次使用14納米加工技術制造成功試驗的芯片電路。英特爾計劃在2013年使用14納米加工技術生產代號為“Broadwell”的處理器。英特爾北歐及比利時、荷蘭、盧森堡經濟聯盟
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共享汽車充電樁的設計方案
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宿敵相爭 AMD向英特爾授權顯卡芯片技術的可能性不大
幾個月前就有分析師援引彭博社的報道稱,AMD即將與宿敵英特爾達成顯卡芯片技術授權協議,上周更有匿名消息人士在一家PC愛好者網站上確認了此事。然而,無論從AMD自身利益角度考慮,還是從該公司CEO
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新能源汽車無線充電的原理和方式
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電動汽車交流充電樁怎么設計?
要想得到快速廣泛的普及,便捷高效的電能補給網絡建設是重要的前提之一。充電系統為電動汽車運行提供能量補給,是電動汽車的重要基礎支撐系統,也是電動汽車商業化、產業化過程中的重要環節。交流充電樁是指固定安裝在電動汽車外,與交流電網連接,為電動汽車車載充電機提供交流電源的供電裝置。
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直流充電樁的發展趨勢
一、從未來新能源汽車的要求來看充電樁的發展趨勢60~90kW的直流樁即將被市場淘汰。在伴隨著一個最新的新能源客車補貼方案的推出,我們可以預見到未來3-5年內,國內主流電動汽車需要具備的性能。從調整
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磁共振無線充電終于走向商用啦
,相對于第一代的Powermat和Qi標準,以磁共振充電為核心的Rezence標準開始深入人心。目前,在支持Rezence標準的A4WP聯盟中有大量成員和支持者,包括三星、英特爾、高通、Broadcom
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說說充電樁
本帖最后由 wayntian 于 2013-2-23 11:33 編輯
說說充電樁 隨著電動汽車的發展,充電樁也成為當下的一個很熱門的工業產品。我們初步接觸充電樁,有了點滴的感受。 先簡單
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基于stm32的汽車智能充電樁硬件是由哪些部分組成的?基于stm32的汽車智能充電樁實現的主要功能有哪些?怎樣去設計一種基于stm32的汽車智能充電樁?
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英特爾的先進光刻和制造部的Yan Borodovsky表明,英特爾希望EUV或者無掩模電子束光刻能作為193納米浸入式光刻在11納米的后補者
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這筆錢花的值!單價1.2億刀,中芯國際拿下EUV光刻機
,三星訂購了大約6臺,英特爾今年會引入3臺EUV光刻機,GF也下了訂單,不過日經新聞沒提到具體數量。
中國公司能買先進的光刻機?很多人聽到這個消息可能不太相信,因為網上一直有傳聞稱中國公司因為瓦
2018-05-20 10:32:37
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14641關于EUV光刻機的分析介紹
格芯首席技術官Gary Patton表示,如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機,那么光刻的步驟將會超過100步,這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產工具,未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關鍵。
2019-09-03 17:18:18
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ASML研發第二代EUV光刻機的微縮分辨率、套準精度提升了70%
據韓媒報道稱,ASML正積極投資研發下一代EUV光刻機,與現有光刻機相比,二代EUV光刻機最大的變化就是High NA透鏡,通過提升透鏡規格使得新一代光刻機的微縮分辨率、套準精度兩大光刻機核心指標提升70%,達到業界對幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:39
7084
7084ASML研發新一代EUV光刻機 分辨率能提升70%左右
在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創造了新紀錄。據報道,ASML公司正在研發新一代EUV光刻機,預計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:48
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3419曝ASML新一代EUV光刻機預計2022年開始出貨 將進一步提升光刻機的精度
在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創造了新紀錄。據報道,ASML公司正在研發新一代EUV光刻機,預計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:19
5447
5447光刻機能干什么_英特爾用的什么光刻機_光刻機在芯片生產有何作用
光刻機是芯片制造的核心設備之一,作為目前世界上最復雜的精密設備之一,其實光刻機除了能用于生產芯片之外,還有用于封裝的光刻機,或者是用于LED制造領域的投影光刻機。目前,我國高端的光刻機,基本上是從荷蘭ASML進口的。
2020-03-18 11:12:02
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47310開發頂級光刻機的困難 頂級光刻機有多難搞?
頂級光刻機有多難搞?ASML的光刻機,光一個零件他就調整了10年!拿荷蘭最新極紫外光EUV光刻機舉例,其內部精密零件多達10萬個,比汽車零件精細數十倍!
2020-07-02 09:38:39
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12919EUV光刻機的數量有望成為三星半導體成長的關鍵
據悉,ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機的廠商,年產量為40余臺,臺積電方面希望獲得全數供應。EUV光刻機的價格昂貴,每臺要價約1.3億美元,由于是EUV制程必需的關鍵設備,臺積電與三星電子的競爭日益激烈。
2020-10-13 13:51:52
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2542EUV光刻機還能賣給中國嗎?
。媒體稱,臺積電采購的EUV光刻機已經超過30臺,三星累計采購的EUV光刻機不到20臺。 圍繞芯片制造要用到的關鍵設備光刻機,一直不缺話題。 比如,一臺EUV光刻機賣多少錢?誰買走了這些EUV光刻機?大陸廠商還能買到光刻機嗎?為何三星高管最近跑去荷蘭拜訪ASML總部? 上面這
2020-10-19 12:02:49
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10752
為何EUV光刻機會這么耗電呢
EUV(極紫外光)光刻機,是目前半導體產業已投入規模生產使用的最先進光刻機類型。近來,有不少消息都指出,EUV光刻機耗電量非常大,甚至它還成為困擾臺積電的一大難題。 為何EUV光刻機會這么耗電呢
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4746為什么都搶著買價格更昂貴的EUV光刻機?
目前,還有ASML有能力生產最先進的EUV光刻機,三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協定》的制約,中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機。
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5443ASML下一代EUV光刻機延期:至少2025年
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3621SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機
隨著半導體工藝進入10nm節點以下,EUV光刻機成為制高點,之前臺積電搶購了全球多數的EUV光刻機,率先量產7nm、5nm工藝,現在內存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
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2324SK海力士與ASML簽合同:SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機
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2709SK海力士砸4.8萬億韓元買EUV光刻機
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2438中國有望獨立生產EUV光刻機,打破ASML壟斷
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16218ASML第二代EUV光刻機跳票三年,售價恐貴出天際
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1795美國出手阻撓!禁止荷蘭將EUV光刻機賣給中國大陸
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2514美國出手阻撓,禁止荷蘭將EUV光刻機賣給中國大陸
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3479EUV光刻機何以造出5nm芯片
電子發燒友網報道(文/周凱揚)作為近乎壟斷的光刻機巨頭,ASML的EUV光刻機已經在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星,EUV光刻機的購置已經是生產支出中很大的一筆,也成了
2021-12-07 14:01:10
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12038ASML正致力于新一代High-NA光刻機制造,每臺預計售價4億美元
近日,據外媒路透社報道稱,全球最先進的光刻機生產廠商ASML正致力于進行新一代光刻機的制造,預計第一臺會在明年完工,將在2025能夠正式投入使用,每臺新光刻機售價預計在4億美元左右。 新光刻機采用
2022-05-22 14:40:59
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5173三星董事李在镕親自拜訪ASML,只為爭取到EUV光刻機
據外媒報道稱,三星電子公司董事李在镕今天將起身前往荷蘭拜訪光刻機廠商ASML,此舉表明三星很有可能會大量采購光刻機。 據了解,李在镕將會在荷蘭待上11天,此次花費十多天前往荷蘭拜訪ASML,有多家
2022-06-07 14:18:04
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1761臺積電將于2024年引進ASML最新EUV光刻機,主要用于相關研究
日前,在臺積電召開的會議上,有一名高管稱臺積電將于2024年引進ASML正在研發的最新的High-NA EUV光刻機。 會議中,該高管稱:為了滿足客戶所需的相關基礎設施的開發等,臺積電將于2024年
2022-06-17 16:33:27
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7596ASML的High-NA光刻機居然只賣出5臺,大多芯片廠商不為所動
2nm制程的量產。 目前市面上最先進的是EUV光刻機,而其能夠支持制造的先進制程工藝最高為3nm,也就是說,再往后的2nm等工藝就要用更加先進的光刻機來完成。 ASML為此正在研發一種特別的EUV光刻機——High-NA EUV光刻機。這種光刻機所采用的技術能夠
2022-06-22 14:44:16
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21722納米即將進入下世代的埃米(angstorm)時代布局
英特爾今年初宣布已率先向 ASML 購買業界首臺 High-NA 量產型 EUV 設備 EXE:5200,其為首款具備 High-NA 的 EUV 大量生產系統,每小時晶圓曝光產能超過 200 片,英特爾并宣布將于 2025 年開始以 High-NA EUV 進行生產。
2022-06-22 15:15:10
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3103新EUV光刻機售價超26億,Intel成為首位買家,將于2025年首次交付
3nm制程,據了解,更加先進的制程就需要更先進的光刻機來完成了。 光刻機廠商ASML為此正在研發新一代High NA EUV光刻機,這種EUV光刻機的NA數值孔徑比現在0.33口徑的EUV光刻機還要高,達到了0.55口徑,也就是說High NA EUV光刻機的分辨率更高,能
2022-06-28 15:07:12
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8591三星斥資買新一代光刻機 中芯光刻機最新消息
三星電子和ASML就引進今年生產的EUV光刻機和明年推出高數值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協議。
2022-07-05 15:26:15
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6764euv光刻機出現時間 ASML研發新一代EUV光刻機
EUV光刻機是在2018年開始出現,并在2019年開始大量交付,而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:44
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5306euv光刻機目前幾納米 中國5納米光刻機突破了嗎
ASML的極紫外光刻機(EUV),這個是當前世界頂級的光刻機設備。 在芯片加工的時候,光刻機是用一系列光源能量和形狀控制手段,通過帶有電路圖的掩模傳輸光束。 光刻設備涉及系統集成、精密光學、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環境控制等多項先
2022-07-10 11:17:42
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53101euv光刻機是哪個國家的
說到芯片,估計每個人都知道它是什么,但說到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設備。沒有光刻機的話,就無法生產芯片,因此每個人都知道光刻機對芯片制造業的重要性。那么euv光刻機
2022-07-10 11:42:27
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8556euv光刻機是干什么的
可以生產出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產。 EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工作臺系統三大核心技術。 目前,最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預計在光路系統的幫助下,能
2022-07-10 14:35:06
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7938duv光刻機和euv光刻機區別是什么
目前,光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術,EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:10
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87067euv光刻機原理是什么
光刻機的原理是接近或接觸光刻,通過無限接近,將圖案復制到掩模上。直寫光刻是將光束聚焦到一個點上,通過移動工作臺或透鏡掃描實現任意圖形處理。投影光刻是集成電路的主流光刻技術,具有效率高、無損傷等優點。 EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工
2022-07-10 15:28:10
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18347euv光刻機用途是什么
光刻機是當前半導體芯片產業的核心設備,其技術含量和價值含量都很高。那么euv光刻機用途是什么呢?下面我們就一起來看看吧。 光刻設備涉及系統集成、精密光學、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環境控制等
2022-07-10 16:34:40
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5149ASML下一代EUV光刻機High-NA來了!
對于3nm后的節點,ASML及其合作伙伴正在研究一種全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列,具有0.55 NA(High-NA)透鏡,能夠達到8nm分辨率,可以避免3nm及以上的多圖案。
2022-08-17 15:44:04
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3078密度提升近3倍,高NA EUV光刻機有何玄機
投入使用高NA EUV光刻機已經勢在必行了。 據了解,一臺高NA EUV的光刻機成本就可能達到3.2億美元,這樣一個天價的光刻系統究竟能帶來哪些優勢,又存在哪些挑戰呢? 規模和密度的平衡,我們為什么需要高NA光刻機? 從今年發布的不少新品來看,即便工藝沒有太大的變化,芯片
2022-12-07 07:25:02
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1848ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV ***;蘋果與Arm簽署新的芯片技術長期協議,延續至2040年以后
熱點新聞 1、ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV 光刻機:體積和卡車相當,每臺售價 3 億美元 ASML 首席執行官 Peter Wennink 近日在接受采訪時表示,盡管
2023-09-06 16:50:06
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生產2納米的利器!成本高達3億歐元,High-NA EUV***年底交付 !
ASML是歐洲最大半導體設備商,主導全球光刻機設備市場,光刻機是半導體制造關鍵步驟,但高數值孔徑(High NA)EUV,Peter Wennink指有些供應商提高產能及提供適當技術遇到困難,導致延誤。但即便如此,第一批產品仍會在年底推出。
2023-09-08 16:54:10
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1629IBM、美光、應用材料、東京電子宣布合作建設 High-NA EUV 研發中心
Albany NanoTech Complex 建設下一代 High-NA EUV 半導體研發中心。 根據聲明,負責協調該設施建設的非營利性機構 NY Creates 將利用 10 億美元州政府資金向
2023-12-14 08:44:18
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935英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機
如果我們假設光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個光刻機的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39
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1609英特爾:預計2027年末10A節點投產,投資千億美元擴大晶圓制造
根據先前記載,10A將會是英特爾繼使用High-NA EUV光刻技術的首批主要節點之后的第二例,預計可呈現出超過10%的每瓦性能改善。
2024-02-28 16:00:22
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1220英特爾成為全球首家購買3.8億美元高數值孔徑光刻機的廠商
英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數值孔徑(High-NA)光刻機而成為新聞焦點。到目前為止,英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機的晶圓廠,據報道它們的售價約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01
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ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
ASML 官網尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁面。 除了正在研發的 High-NA EUV 光刻機 Twinscan EXE 系列,ASML 也為其 NXE 系列傳統數值孔徑
2024-03-14 08:42:34
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Intel和ASML宣布全球第一臺High-NA光刻機“首光”
荷蘭ASML是世界上最先進的光刻設備制造商,最近該公司啟動了第一臺high-NA(numerical aperture,數值孔徑)設備,以確保其正常工作。Intel也加入了這一行列,因為它是世界上第一家訂購該設備的代工廠。
2024-04-08 10:12:14
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2069阿斯麥(ASML)公司首臺高數值孔徑EUV光刻機實現突破性成果
在半導體領域,技術創新是推動整個行業向前發展的重要動力。近日,荷蘭阿斯麥(ASML)公司宣布,成功打造了首臺采用0.55數值孔徑(NA)投影光學系統的高數值孔徑(High-NA)極紫外(EUV
2024-04-18 11:50:47
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英特爾完成高數值孔徑EUV光刻機,將用于14A制程
半導體設備制造商阿斯麥(ASML)于去年底在社交媒體上發布照片,揭示已向英特爾提供第一套高數值孔徑EUV系統的關鍵部件。如今英特爾宣布已完成組裝,這無疑展示了其在行業中的領先地位。
2024-04-19 10:07:37
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1251英特爾突破技術壁壘:首臺商用High NA EUV光刻機成功組裝
英特爾的研發團隊正致力于對這臺先進的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機進行細致的校準工作,以確保其能夠順利融入未來的生產線。
2024-04-22 15:52:56
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1974英特爾率先推出業界高數值孔徑 EUV 光刻系統
來源:Yole Group 英特爾代工已接收并組裝了業界首個高數值孔徑(高NA)極紫外(EUV)光刻系統。 新設備能夠大大提高下一代處理器的分辨率和功能擴展,使英特爾代工廠能夠繼續超越英特爾 18A
2024-04-26 11:25:56
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956ASML發貨第二臺High NA EUV光刻機,已成功印刷10nm線寬圖案
ASML公司近日宣布發貨了第二臺High NA EUV光刻機,并且已成功印刷出10納米線寬圖案,這一重大突破標志著半導體制造領域的技術革新向前邁進了一大步。
2024-04-29 10:44:34
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1739臺積電張曉強:ASML High-NA EUV成本效益是關鍵
據今年2月份報道,荷蘭半導體制造設備巨頭ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻機的售價,高達3.5億歐元(約合27.16億元人民幣)。而現有EUV光刻機的價格則為1.7億歐元(約合13.19億元人民幣)。
2024-05-15 14:42:38
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1174臺積電A16制程采用EUV光刻機,2026年下半年量產
據臺灣業內人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現有的EUV光刻機進行生產。相較之下,英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機。
2024-05-17 17:21:47
2030
2030ASML考慮推出通用EUV光刻平臺
范登布林克指出,更高的數值孔徑能提高光刻分辨率。他進一步解釋說,Hyper NA 光刻機將簡化先進制程生產流程,避免因使用 High NA 光刻機進行雙重圖案化導致的額外步驟及風險。
2024-05-23 09:51:32
1003
1003Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機
在全球四大先進制程代工巨頭(包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規模生產。
2024-05-27 14:37:22
1245
1245ASML擬于2030年推出Hyper-NA EUV光刻機,將芯片密度限制再縮小
,約在2030年將提供新的Hyper-NA EUV技術。目前仍處于開發初期階段的Hyper-NA將遵循High-NA系統,ASML今年初在英特爾奧勒岡廠首度安裝High-NA系統。 報導,van
2024-06-18 09:57:53
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1206日本與英特爾合建半導體研發中心,將配備EUV光刻機
英特爾將在日本設立先進半導體研發中心,配備EUV光刻設備,支持日本半導體設備和材料產業發展,增強本土研發能力。 據日經亞洲(Nikkei Asia)9月3日報導,美國處理器大廠英特爾已決定與日
2024-09-05 10:57:30
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989今日看點丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉;三星將于2025年初引進High NA EUV光刻機
1. 三星將于2025 年初引進High NA EUV 光刻機,加快開發1nm 芯片 ? 據報道,三星電子正準備在2025年初引入其首款High NA EUV(極紫外)光刻機設備,這標志著這家韓國
2024-10-31 10:56:06
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1494今日看點丨英特爾將更多Arrow Lake芯片訂單外包給臺積電;西門子全球裁員高達5000人
據傳臺積電和英特爾等公司都已下單。外媒本月稍早引述消息人士報導,臺積電訂購的High-NA EUV設備首批機件,將
2024-11-15 11:24:34
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1042如何提高光刻機的NA值
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機配置,每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
2025-01-20 09:44:18
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押注2nm!英特爾26億搶單下一代 EUV光刻機,臺積電三星決戰2025!
了。 ? 芯片制造離不開光刻機,特別是在先進制程上,EUV光刻機由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時,盡管目前市面上,EUV光刻機客戶僅有三家,但需求不斷增加的情況底下,EUV光刻機依然供不應求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝,High-NA(高數值孔徑)EUV光刻機
2022-06-29 08:32:00
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