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日本與英特爾合建半導(dǎo)體研發(fā)中心,將配備EUV光刻機(jī)

半導(dǎo)體芯科技SiSC ? 來(lái)源:半導(dǎo)體芯科技SiSC ? 作者:半導(dǎo)體芯科技SiS ? 2024-09-05 10:57 ? 次閱讀
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英特爾將在日本設(shè)立先進(jìn)半導(dǎo)體研發(fā)中心,配備EUV光刻設(shè)備,支持日本半導(dǎo)體設(shè)備和材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展,增強(qiáng)本土研發(fā)能力。

據(jù)日經(jīng)亞洲(Nikkei Asia)9月3日?qǐng)?bào)導(dǎo),美國(guó)處理器大廠英特爾已決定與日本官方研究機(jī)構(gòu)在日本設(shè)立先進(jìn)半導(dǎo)體研發(fā)中心,以提振日本半導(dǎo)體設(shè)備制造與材料產(chǎn)業(yè)。

據(jù)介紹,這座新的研發(fā)中心將在未來(lái)3到5年落成,擬配備極紫外光(EUV)光刻設(shè)備。設(shè)備制造商與材料商只要繳納一定的費(fèi)用,就能使用設(shè)備進(jìn)行測(cè)試與試作。這將是日本第一座擁有供廠商共用EUV光刻機(jī)的研發(fā)中心,也是日本研究機(jī)構(gòu)首度計(jì)劃導(dǎo)入EUV光刻機(jī)。

該研發(fā)中心將由隸屬于日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)?。ń?jīng)產(chǎn)?。┑漠a(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所(AIST)負(fù)責(zé)營(yíng)運(yùn),而英特爾將提供使用EUV技術(shù)制造芯片的專業(yè)知識(shí)。這座研發(fā)中心的總投資額將達(dá)數(shù)百億日元。

EUV在制造5nm以下先進(jìn)芯片上扮演重要角色,不過(guò)一臺(tái)EUV設(shè)備動(dòng)輒售價(jià)約1.5億美元,并非是許多材料商與設(shè)備商可單獨(dú)負(fù)擔(dān)的價(jià)格。

而資金不夠雄厚的廠商目前只能使用海外研究機(jī)構(gòu)的EUV設(shè)備來(lái)研發(fā)產(chǎn)品,例如比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)。此外,日本政府與8家民間企業(yè)合資的晶圓代工廠Rapidus計(jì)劃今年12月引進(jìn)EUV設(shè)備,以便制造尖端制程芯片,不過(guò)日本研究機(jī)構(gòu)目前尚無(wú)這類設(shè)備。

隨著美中科技競(jìng)爭(zhēng)日趨激烈,美國(guó)早已禁止EUV的對(duì)華出口,并加強(qiáng)了對(duì)于高端DUV相關(guān)技術(shù)和產(chǎn)品的出口管制,其中包含設(shè)備與材料,不過(guò)管制措施也導(dǎo)致廠商從海外研究機(jī)構(gòu)回收數(shù)據(jù)到日本之際更加耗時(shí)。未來(lái)日本國(guó)內(nèi)就能使用EUV光刻機(jī),就能減少管制帶來(lái)的阻礙。

荷蘭光刻機(jī)大廠ASML是唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商,不過(guò)生產(chǎn)芯片需要經(jīng)過(guò)超過(guò)600道制程,而光刻機(jī)只是其中一環(huán),其他相關(guān)設(shè)備與材料的發(fā)展也至關(guān)重要。

【近期會(huì)議】

10月30-31日,由寬禁帶半導(dǎo)體國(guó)家工程研究中心主辦的“化合物半導(dǎo)體先進(jìn)技術(shù)及應(yīng)用大會(huì)”將首次與大家在江蘇·常州相見(jiàn),邀您齊聚常州新城希爾頓酒店,解耦產(chǎn)業(yè)鏈?zhǔn)袌?chǎng)布局!https://w.lwc.cn/s/uueAru

11月28-29日,“第二屆半導(dǎo)體先進(jìn)封測(cè)產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新大會(huì)”將再次與各位相見(jiàn)于廈門,秉承“延續(xù)去年,創(chuàng)新今年”的思想,仍將由云天半導(dǎo)體與廈門大學(xué)聯(lián)合主辦,雅時(shí)國(guó)際商訊承辦,邀您齊聚廈門·海滄融信華邑酒店共探行業(yè)發(fā)展!誠(chéng)邀您報(bào)名參會(huì):https://w.lwc.cn/s/n6FFne

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審核編輯 黃宇

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