三星斥資買新一代光刻機 中芯光刻機最新消息
據(jù)韓國媒體報道稱，三星電子和ASML就引進今年生產(chǎn)的EUV光刻機和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協(xié)議。
High-NA EUV光刻機精密度更高、設計零件更多，是延續(xù)摩爾定律的關鍵，據(jù)悉，三星電子已獲得ASML今年EUV光刻機產(chǎn)能中的18臺。這意味三星僅在EUV光刻機上就將投資超過4兆韓元。
光刻機依然來自ASML，全球只有ASML可以量產(chǎn)，其它公司暫時還沒有能力研發(fā)出光刻機。
據(jù)外媒報道，半導體巨頭ASML的下一代光刻機將在2023年上半年產(chǎn)出第一臺樣機，并且有5份試驗機訂單將在2024年交貨，臺積電、英特爾、三星這些頂級芯片廠商，預計將在2025年開始使用最新一代光刻機的量產(chǎn)機。
有網(wǎng)友推測，中芯國際買EUV光刻機至少還要再等3年。如果3年后針對EUV光刻機的出貨限制被解除，中芯國際或能買到EUV光刻機。
文章綜合快科技、雪花、良言科技、科技強哥說
編輯：黃飛
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