據悉，臺積電業務開發及海外營運辦公室資深副總經理暨副共同營運長張曉強博士在5月14日出席阿姆斯特丹技術研討會時公開稱ASML的High-NA EUV設備過于昂貴。盡管對其性能深感滿意，但對于價格卻并不感冒。

張曉強博士現任職于臺積電，主要負責制定公司業務戰略，包括技術規劃和客戶關系維護等工作。此外，他還共同領導海外運營團隊，確保海外運營效率。

據今年2月份報道，荷蘭半導體制造設備巨頭ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻機的售價，高達3.5億歐元（約合27.16億元人民幣）。而現有EUV光刻機的價格則為1.7億歐元（約合13.19億元人民幣）。

值得注意的是，英特爾已成功購入ASML的High-NA EUV設備，并于4月19日宣布首臺設備實現商業化生產。

關于臺積電是否需要采用ASML的High-NA EUV設備來完成A16先進工藝節點（預計將于2026年年底前量產），張曉強博士在接受采訪時表示，現階段的EUV設備完全有能力支持A16的生產需求。

至于何時引入ASML的新技術，將視乎何時最為經濟實惠以及如何平衡臺積電的技術實力。