引言 ? 光刻膠又稱“光致抗蝕劑”或“光阻劑”，被廣泛應用于光電信息產業的微細圖形線路的加工制作，是微納制造技術的關鍵性材料。 光刻膠是光刻工藝最重要的耗材，其性能決定了加工成品的精密程度和良品率
2022-04-25 17:35:22
12484 
關鍵詞：氧氣、微氣泡、光刻膠、高劑量離子注入、氣水界面 介紹? ??? 微氣泡是一種很有前途的環保光刻膠去除方法的候選方法。已經證明，臭氧微氣泡可以去除硅片上的光刻劑，即使被高劑量的離子注入破壞
2022-01-10 11:37:131980 
光刻膠為何要謀求國產替代？中國國產光刻膠企業的市場發展機會和挑戰如何？光刻膠企業發展要具備哪些核心競爭力？在南京半導體大會期間，徐州博康公司董事長傅志偉和研發總監潘新剛給我們帶來前沿觀點和獨家分析。
2022-08-29 15:02:238662 
光刻膠類型及特性光刻膠（Photoresist），又稱光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:337845 
近日，上海新陽發布公告稱，公司自主研發的KrF（248nm）厚膜光刻膠產品已經通過客戶認證，并成功取得第一筆訂單，取得不錯進展。 ? 光刻膠用于半導體光刻工藝環節，是決定制造質量的重要因素，根據曝光
2021-07-03 07:47:0026808 ，增幅11.11%。 ? 截圖自企查查 ? 光刻膠是芯片制造中光刻環節的重要材料，目前主要被日美把控，國內在光刻膠方面投入研制的廠商主要晶瑞股份、南大光電、上海新陽、徐州博康、北京科華等，那么華為投資的徐州博康在光刻膠方面有何優勢，國內廠商在光
2021-08-12 07:49:006896 領域進行激烈競爭的時候，中國國產光刻膠企業在國內晶圓廠布局的成熟制程領域，展開了新產品上市和量產的爭奪戰。 ? 南大光電最新消息顯示，國產193nm（ArF）光刻膠研發成功，這家公司成為通過國家“02專項”驗收的ArF光刻膠項目實施主體；徐州博康宣布，該
2022-08-31 07:45:004234 厚膠量產到ArF浸沒式膠驗證，從樹脂國產化到EUV原料突破，一場靜默卻浩蕩的技術突圍戰已進入深水區。 ? 例如在248nm波長的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A膠以120nm分辨率和93.7%的良率通過中芯國際28nm產線驗證，開創了國內半導體光刻制造的新
2025-07-13 07:22:006083 ? 電子發燒友網綜合報道 近日，八億時空宣布其KrF光刻膠萬噸級半導體制程高自動化研發/量產雙產線順利建成，標志著我國在中高端光刻膠領域的自主化進程邁出關鍵一步。 ? 此次建成的KrF光刻膠產線采用
2025-08-10 03:26:009092 2015年底，中國大陸已經建成投產的面板生產線有25條，其中8.5代線有8條，6代線以下中小尺寸世代線有17條；目前正在建設中的有10條，計劃總投資金額為2103億元；另外還有5條世代線正在規劃中，預計到
2016-01-30 11:30:52
SU-8光刻膠 SU-8光刻膠克服了普通光刻膠采用UV光刻深寬比不足的問題，在近紫外光（365nm-400nm）范圍內光吸收度很低，且整個光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側壁和高深寬比
2018-07-12 11:57:08
分辨率可達0.15mm；193nm光刻采用OPC技術和多層光刻膠技術分辨率可達0.1 mm。進一步提高分辨率, 直至達到硅材料的極限0.1μｍ左右。另一條路線是采用更短波長的激光如氟157ｎｍ和氬
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
這是我的版圖一部分，然后生成了圖案是這樣的： 感覺間距小的地方全都有殘留，間距大的地方沒有殘留；工藝參數：s9920光刻膠， evg 620‘未進行蒸汽底漆層涂覆，前烘：100攝氏度，90s
2016-11-29 14:59:18
Futurrex,成立于1985年，位總部設在美國新澤西州，富蘭克林市。 公司業務范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開發最高端產品方面已經有很長的歷史，尤其是其光刻膠
2010-04-21 10:57:46
SU 8光刻膠系列產品簡介：新型的化學增幅型負像 SU- 8 膠是一種負性、環氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導致的深寬比不足的問題，十分適合于制備高深寬比微結構。SU- 8
2018-07-04 14:42:34
書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：光刻前 GaAs 表面處理以改善濕化學蝕刻過程中的光刻膠附著力和改善濕蝕刻輪廓[/td][td]編號：JFSJ-21-0作者：炬豐科技網址：http
2021-07-06 09:39:22
TSMC，中芯國際SMIC 組成:核心:生產線，服務:技術部門，生產管理部門，動力站（雙路保障），廢水處理站(環保，循環利用)等。生產線主要設備: 外延爐，薄膜設備，光刻機，蝕刻機，離子注入機，擴散爐
2025-03-27 16:38:20
噴膠機是現代光電子產業中光刻膠涂布的重要設備。可對不同尺寸和形狀的基片進行涂膠，最大涂膠尺寸達8寸，得到厚度均勻的光刻膠層，同時可對大深寬比結構的側壁進行均勻涂膠；通過計算機系統控制器進行工藝參數的編輯和操作。
2020-03-23 09:00:57
151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
遼寧唯一廢舊電池回收生產線今年底將投入生產
2009年11月11日8:41:38 隨身聽、時鐘、電動玩具、遙控器……日子越過越好，
2009-11-11 08:41:47962 12英寸集成電路生產線今年底試投產
1月19日，“909工程升級改造———12英寸集成電路生產線項目”啟動儀式在上海宏力半導體制造有限公司舉行。中共中央
2010-01-25 10:37:371423 光刻膠與光刻工藝技術 微電路的制造需要把在數量上精確控制的雜質引入到硅襯底上的微小 區域內,然后把這些區域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區域圖形 的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 在成都高新西區，京東方第6代LTPS/AMOLED生產線項目算得上一座“低調而奢華”的工廠。對光電顯示產業的業內人士來說，這個正在緊張修建的項目意義非凡——這是京東方科技集團股份有限公司史上最大的一次單筆投資，也是國內第一條6代AM-OLED可折疊的柔性面板生產線。
2016-06-06 14:18:3215438 這是一種老式的旋轉涂膠機，將芯片上涂上光刻膠然后將芯片放到上邊，可以通過機器的旋轉的力度將光刻膠均勻分布到芯片表面，光刻膠只有均勻涂抹在芯片表面，才能保證光刻的成功。
2018-05-17 14:39:3719874 該項目建設地設在亦莊經濟開發區東區B15地塊，占地面積約為10萬平方米，總投資48億元。芯片生產廠房包含一條月產5萬片（25次光刻）0.25um-0.09um（典型工藝為0.11um)、BCD兼容工藝的8英寸芯片生產線，預計今年底投產，建成達產后，可實現年銷售收入25.17億元
2018-07-11 16:06:002171 有報道稱，總部位于臺灣的友達光電（AUO）決定建立一條噴墨OLED生產線，用于生產OLED顯示器以及車用OLED。
2018-10-18 09:24:575135 一條傳統制動器生產線大約要13個裝配檢測工人，如果替換成沃鐳研發的半自動化生產線，只需要3到5個工人。根據目前的人力成本來測算，一條半自動化的生產線2-3年就可以收回成本。
2019-01-14 17:11:294438 2018年，南大光電和上海新陽先后宣布，投入ArF光刻膠產品的開發與產業化，立志打破集成電路制造最為關鍵的基礎材料之一——高檔光刻膠材料幾乎完全依賴于進口的局面，填補國內高端光刻膠材料產品的空白。
2019-05-21 09:24:247863 
近日，南大光電在互動平臺上表示，參股公司北京科華開發的248nm光刻膠目前已通過包括中芯國際在內的部分客戶的認證。
2019-05-28 11:13:4010962 
早在2015年，南大光電入股北京科華并對外宣稱，雙方將共同開展193nm光刻膠的研究與產品開發；如今，或許進展不順等原因影響，南大光電將全部轉讓其持有的北京科華股權。
2019-06-24 08:46:0010576 7月17日，南大光電在互動平臺透露，公司設立光刻膠事業部，并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”，全力推進“ArF光刻膠開發和產業化項目”落地實施。目前該項目完成的研發技術正在等待驗收中，預計2019年底建成一條光刻膠生產線，項目產業化基地建設順利。
2019-07-18 16:14:595656 預計2019年底建成一條光刻膠生產線，項目產業化基地建設順利。
2019-07-19 14:08:305922 光刻膠概念股南大光電10月23日公告，擬投資新建光刻膠材料以及配套原材料項目。
2019-10-24 16:47:213744 經開區企業北京欣奕華科技有限公司（以下簡稱“欣奕華”）了解到，經過多年的行業累積和技術迭代，欣奕華在平板顯示用負性光刻膠領域實現了量產，預計今年將有1000噸的光刻膠交付用戶，約占國內市場的8%。
2019-10-28 16:38:494539 數據顯示，截至9月底，廣東全省建成5G基站21473座，其中廣州建成10626座，廣州天河區已建成5G基站3020個，天河區基本實現5G全覆蓋。深圳建成9504座，佛山619座、東莞398座。預計今年底，全省5G基站將達到3.48萬座。
2019-11-27 15:27:08692 近日，上海新陽在投資者互動平臺上表示，公司用于KRF248nm光刻膠配套的光刻機已完成廠內安裝開始調試，ARF193nm光刻膠配套的光刻機預計12月底到貨。
2019-12-04 15:24:458657 今年7月17日，南大光電在互動平臺透露，公司設立光刻膠事業部，并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”，全力推進“ArF光刻膠開發和產業化項目”落地實施。目前該項目完成的研發技術正在等待驗收中，預計2019年底建成一條光刻膠生產線，項目產業化基地建設順利。
2019-12-16 13:58:528273 杜邦將擴建位于韓國中部天安市的現有工廠，生產涂覆在半導體基板上的感光劑“光刻膠”。
2020-01-10 15:46:473191 隨著電子信息產業發展的突飛猛進，光刻膠市場總需求不斷提升。2019年全球光刻膠市場規模預計接近90億美元，自2010年至今CAGR約5.4%，預計未來3年仍以年均5%的速度增長，預計至2022年全球光刻膠市場規模將超過100億美元。
2020-03-01 19:02:484848 在國際半導體領域，我國雖已成為半導體生產大國，但整個半導體產業鏈仍比較落后。特別是由于國內光刻膠廠布局較晚，半導體光刻膠技術相較于海外先進技術差距較大，國產化不足5%。在這種條件下，國內半導體廠商積極開展研究，如晶瑞股份的KrF光刻膠，南大光電的ArF光刻膠均取得較好的研究效果。
2020-03-06 15:40:565517 近日，南大光電在互動平臺透露，寧波南大光電目前已安裝完成第一條ArF（193nm）光刻膠生產線，該產線仍處于調試階段。目前，研發的產品正在測試、認證過程中，尚未形成量產和銷售。
2020-03-09 10:51:344868 從豐田處獲悉，廣汽豐田已斥資9.19億元拍下廣州市南沙一處面積超過70萬平方米的工業用地，用以投建第五條生產線，計劃年產能20萬輛，預計2022年建成投產。據悉，未來廣汽豐田將主要在此生產新能源汽車產品。
2020-03-20 10:24:25906 光刻膠按應用領域分類，大致分為LCD光刻膠、PCB光刻膠（感光油墨）與半導體光刻膠等。按照下游應用來看，目前LCD光刻膠占比26．6%，刻膠占比24．5%，半導體光刻膠占比24．1%，PCB光其他類光刻膠占比24．8%。
2020-06-12 17:13:396218 來源：浙商證券研究院 光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體。其組成部分包括：光引發劑（包括光增感劑、光致產酸劑）、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過光化學反應，經曝光、顯影等
2020-09-15 14:00:1420205 技術水平與國際先進水平仍存在較大差距，自給率僅10%，主要集中于技術含量相對較低的PCB領域，6英寸硅片的g/i線光刻膠的自給率約為20%，8英寸硅片的KrF光刻膠的自給率不足5%，12寸硅片的ArF光刻膠目前尚沒有國內企業可以大規模生產。 基于此，新材料在線特推出【2020年光
2020-10-10 17:40:253534 光刻膠是由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成份組成的、對光敏感的混合液體。利用光化學反應，經曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上的圖形轉移介質，其中曝光是通過紫外光
2022-12-06 14:53:542357 國內又要建成一條大型OLED面板生產線了。
2020-12-08 10:26:221492 國內又要建成一條大型OLED面板生產線了。 12月7日上午，維信諾子公司合肥維信諾投資建設的第六代全柔AMOLED生產線點亮儀式在合肥新站高新區隆重舉行，維信諾及地方政府高管、中科院院士等人一
2020-12-08 11:17:093620 在安集微電子不遠處，錦越新材料憑借自主研發的“晶析法”工藝，成功突破5N8（99.9998%）電子級超高純鋁的技術瓶頸，一舉打破國外壟斷，其生產的電子級超高純鋁純度排名全球前三，并已向6N（99.9999%）純度發起技術攻關。
2020-12-11 14:22:277655 大光電的ArF光刻膠產品測試各項性能滿足工藝規格要求，良率結果達標。” “ArF 光刻膠產品開發和產業化”是寧波南大光電承接國家 “02 專項”的一個重點攻關項目。本次產品的認證通過，標志著 “ArF 光刻膠產品開發和產業化”項目取得了關鍵性的突破
2020-12-18 09:29:427279 昨夜晚間，寧波南大光電發表公告稱，公司自主研發的 ArF 光刻膠產品 近日成功通過客戶的使用認證。
2020-12-18 09:52:103957 ? 導 讀 日前，南大光電公告稱，由旗下控股子公司寧波南大光電材料自主研發的 ArF 光刻膠產品成功通過客戶使用認證，線制程工藝可以滿足 45nm-90nm光刻需求。 圖：南大光電公告 ? 公告稱
2020-12-25 18:24:097828 ? ? 摘要 該項目將在今年底建成12條全球先進鋰離子大電芯生產線及相應模組、電池包生產線，建成后預計新增產能40GWh。 1月28日，江蘇時代動力及儲能鋰電池研發與生產項目（四期）舉行開工儀式
2021-02-02 10:03:0011418 按照應用領域分類，光刻膠主要包括印制電路板（PCB）光刻膠專用化學品（光引發劑和樹脂）、液晶顯示器（LCD）光刻膠光引發劑、半導體光刻膠光引發劑和其他用途光刻膠四大類。本文主要討論半導體光刻膠。
2021-05-17 14:15:525022 
由于KrF光刻膠產能受限以及全球晶圓廠積極擴產等，占據全球光刻膠市場份額超兩成的日本供應商信越化學已經向中國大陸多家一線晶圓廠限制供貨KrF光刻膠，且已通知更小規模晶圓廠停止供貨KrF光刻膠。 信越
2021-06-25 16:12:281241 5月27日，半導體光刻膠概念股開盤即走強，截至收盤，A股光刻膠板塊漲幅達6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停，容大感光大漲13.28%，揚帆新材大漲11.37%，南大光電
2021-05-28 10:34:154020 在半導體制造方面，國內廠商需要突破的不只是光刻機等核心設備，光刻膠也是重要的一環。而南大光電研發的高端ArF光刻機，已經獲得了國內某企業的認證，可用于55nm工藝制造。 南大光電發布公告稱，控股
2021-06-26 16:32:373071 光刻膠是光刻機研發的重要材料，換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕跡，就需要網硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0015756 摘要 我們華林科納提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑，選擇負光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數量的影響。實驗表明，低粘度正光刻膠
2022-01-26 11:43:221169 
本發明涉及一種去除光刻膠的方法，更詳細地說，是一種半導體制造用光刻膠去除方法，該方法適合于在半導體裝置的制造過程中進行吹掃以去除光刻膠。在半導體裝置的制造工藝中，將殘留在晶片上的光刻膠，在H2O
2022-04-13 13:56:421659 
灰化，簡單的理解就是用氧氣把光刻膠燃燒掉，光刻膠的基本成分是碳氫有機物，在射頻或微波作用下，氧氣電離成氧原子并與光刻膠發生化學反應，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通過泵被真空抽走，完成光刻膠的去除。
2022-07-21 11:20:178339 光刻膠產品說明英文版資料分享。
2022-08-12 16:17:2511 南大光電最新消息顯示，國產193nm（ArF）光刻膠研發成功，這家公司成為通過國家“02專項”驗收的ArF光刻膠項目實施主體；徐州博康宣布，該公司已開發出數十種高端光刻膠產品系列，包括
2022-08-31 09:47:142371 光刻膠的組成：樹脂（resin/polymer），光刻膠中不同材料的粘合劑，給與光刻膠的機械與化學性質（如粘附性、膠膜厚度、熱穩定性等）；感光劑，感光劑對光能發生光化學反應；溶劑（Solvent
2022-10-21 16:40:0423795 10%-15%，對應的 PAG 用量為一般按樹脂重量的 6%-8%添加，最 終 PAG 的成本占光刻膠總成本的 10%-20%。從單價看，KrF 光刻膠用 PAG 的價格在 0.5-1.5萬元/kg
2022-11-18 10:07:434880 此前該公司指出，公司已建成年產5噸ArF干式光刻膠生產線、年產20噸ArF浸沒式光刻膠生產線及年產45噸的光刻膠配套高純試劑生產線，具備ArF光刻膠及配套關鍵組分材料的生產能力，目前公司送樣驗證的產品均由該自建產線產出。
2023-04-11 09:25:321910 光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:112940 
20日，西隴科學（株）發布公告稱，該公司沒有生產銷售礦產品。公司生產及銷售用于清洗劑、顯影液、剝離液等的光刻膠，占公司營業收入的比例，是目前用于上述用途的光刻膠配套。
2023-11-21 14:54:571303 為了生產高純度、高質量的光刻膠，需要高純度的配方原料，例如光刻樹脂，溶劑PGMEA…此外，生產過程中的反應釜鍍膜和金屬析出污染監測也是至關重要的控制環節。例如，2019年，某家半導體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染，導致上萬片12吋晶圓報廢
2023-11-27 17:15:481717 KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進行光刻的光刻膠。248nmKrF光刻技術已廣 泛應用于0.13μm工藝的生產中,主要應用于150 , 200和300mm的硅晶圓生產中。
2023-11-29 10:28:501413 
勻膠是光刻中比較重要的一步，而旋涂速度是勻膠中至關重要的參數，那么我們在勻膠時，是如何確定勻膠速度呢？它影響光刻膠的哪些性質？
2023-12-15 09:35:563928 
所謂的“光刻膠”，即是在紫外線、電子束等輻射下，其溶解度會產生變化的耐腐蝕薄膜材料。作為光刻工藝中的關鍵要素，廣泛應用于晶圓和分立器件的精細圖案制作中。其品種繁多，此次漲價涉及的KrF 光刻膠則屬高級別光刻膠，將成為各廠商關注的焦點。
2023-12-28 11:14:341635 光刻膠主要下游應用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產、半導體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應用，占比30%。光刻膠在半導體制造應用占比24%，是第三達應用場景。
2024-01-03 18:12:212813 
據吳中發布的最新消息，簽約項目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項目，該項投資高達15億元，旨在新建半導體光刻膠及其配套試劑的生產基地。
2024-01-26 09:18:431197 光刻膠不能太厚或太薄，需要按制程需求來定。比如對于需要長時間蝕刻以形成深孔的應用場景，較厚的光刻膠層能提供更長的耐蝕刻時間。
2024-03-04 10:49:162061 
光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:189618 與正光刻膠相比，電子束負光刻膠會形成相反的圖案。基于聚合物的負型光刻膠會在聚合物鏈之間產生鍵或交聯。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解，而曝光的光刻膠則保留下來，從而形成負像。
2024-03-20 11:36:505058 
光刻膠按照種類可以分為正性的、負性的。正膠受到紫外光照射的部分在顯影時被去除，負膠受到紫外光曝光的地方在顯影后被留下。
2024-04-24 11:37:056635 
通常要考慮光刻膠是否過期失效了。接下來我們將介紹一下光刻膠保存和老化失效的基礎知識。 光刻膠的保存 光刻膠對光敏感，在光照或高溫條件下其性能會發生變化。光刻膠在儲存過程中會老化，因此通常保存在防光的棕色玻璃試
2024-07-08 14:57:083146 圖形反轉膠是比較常見的一種紫外光刻膠，它既可以當正膠使用又可以作為負膠使用。相比而言，負膠工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負膠工藝。 應用領域 在反轉工藝下，通過適當的工藝參數，可以獲得底切的側壁
2024-07-09 16:06:001988 
一般光刻過程文章中簡單介紹過后烘工藝但是比較簡單，本文就以下一些應用場景下介紹后烘的過程和作用。 化學放大正膠 機理 當使用“正常”正膠時，曝光完成后光反應也就完成了，但是化學放大的光刻膠需要隨后的烘烤步驟。光反應在曝光期間開始并在后烘環節中完
2024-07-09 16:08:433446 
評價一款光刻膠是否適合某種應用需要綜合看這款光刻膠的特定性能，這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度（sensitivity）是衡量曝光速度的指標。光刻膠的靈敏度越高，所需的曝光劑量
2024-07-10 13:43:492388 根據光刻膠的應用工藝，我們可以采用適當的方法對已顯影的光刻膠結構進行處理以提高其化學或物理穩定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現整個光刻膠結構的熱交聯，稱為硬烘烤或者堅膜。或通過低劑量紫外線輻照
2024-07-10 13:46:592702 
為了確保光刻工藝的可重復性、可靠性和可接受性，必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中，是一種高粘度材料。根據工藝要求，有許多工藝可用于涂覆光刻膠。 旋涂是用光刻膠涂覆基材
2024-07-11 15:46:362757 存儲時間 正膠和圖形反轉膠在存儲數月后會變暗，而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料，在 可見光譜的部分具有很強的吸收能力，對紫外靈敏度沒有任何影響。這種變色過程
2024-07-11 16:07:491791 ？ 基底上SU-8光刻膠的圖層可以通過若干種技術來完成。最常用的技術是旋涂技術，該技術是在旋轉的基底上放置一小灘SU-8光刻膠。旋轉速度、加速度和SU-8光刻膠的黏度將會決定SU-8光刻膠層（如下簡稱膠層）的厚度。 使用旋涂機來旋涂SU-8光刻膠，相比于其它技術來講，旋涂機會使
2024-08-26 14:16:011298 控SU-8光刻膠烘烤：軟烘、后曝光烘烤和硬烘 在整個SU-8模具制備的過程中，微流控SU-8光刻膠需要烘烤2或3次，每一次烘烤都有不同的作用。 第一次光刻膠烘烤叫做軟烘，是SU-8光刻膠旋涂之后需要完成的操作。目標是蒸發溶劑，使SU-8光刻膠更加堅固。溶劑蒸發會稍微的改變光
2024-08-27 15:54:011241
原文標題：一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠
2024-11-01 11:08:073091 友達光電正全力打造全球頂尖的4.5代Micro LED生產線，預計今年10月竣工，旨在引領Micro LED市場潮流。該生產線計劃于2025年啟動量產，此前，友達已成功在2023年底量產了Micro LED智能手表顯示屏，現正致力于拓展其在大型顯示屏和前沿應用領域的產能。
2024-10-28 14:50:513118 本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
2024-10-31 15:59:452789 光刻技術是現代微電子和納米技術的研發中的關鍵一環，而光刻膠，又是光刻技術中的關鍵組成部分。隨著技術的發展，對微小、精密的結構的需求日益增強，光刻膠的需求也水漲船高，在微電子制造和納米技術等高精尖領域占據著至關重要的位置。
2024-11-11 10:08:214404 
光刻膠作為掩模進行干法刻蝕或是濕法腐蝕后，一般都是需要及時的去除清洗，而一些高溫或者其他操作往往會導致光刻膠碳化難以去除。
2024-11-11 17:06:222391 
近日，據相關報道，三星電子在3D NAND閃存生產領域取得了重要技術突破，成功大幅減少了光刻工藝中光刻膠的使用量。 據悉，三星已經制定了未來NAND閃存的生產路線圖，并計劃在這一生產過程中，將光刻膠
2024-11-27 11:00:24957 光刻膠是半導體制造等領域的一種重要材料，在整個電子元器件加工產業有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中，感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關鍵性能，增感劑有助于提高
2024-12-19 13:57:362091 引言 在半導體制造與微納加工領域，光刻膠剝離液是光刻膠剝離環節的核心材料，其性能優劣直接影響光刻膠去除效果與基片質量。同時，精準測量光刻圖形對把控工藝質量意義重大，白光干涉儀為此提供了有力的技術保障
2025-05-29 09:38:531108 
如果說最終制造出來的芯片是一道美食，那么光刻膠就是最初的重要原材料之一，而且是那種看起來可能不起眼，但卻能決定一道菜味道的關鍵輔料。 光刻膠（photoresist），在業內又被稱為光阻或光阻劑
2025-06-04 13:22:51993 ? ? 引言 ? 在半導體制造領域，光刻膠剝離工藝是關鍵環節，但其可能對器件性能產生負面影響。同時，光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質量至關重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法，并介紹白光
2025-06-14 09:42:56736 
（N-甲基吡咯烷酮）、乳酸乙酯等強極性溶劑溶脹并溶解光刻膠分子鏈，適用于傳統g線/i線正膠體系。例如，NMP因低蒸氣壓可加熱至80℃以增強對交聯型光刻膠的去除能力
2025-09-17 11:01:271282 
電子發燒友App
工商網監
評論