国产精品久久久aaaa,日日干夜夜操天天插,亚洲乱熟女香蕉一区二区三区少妇,99精品国产高清一区二区三区,国产成人精品一区二区色戒,久久久国产精品成人免费,亚洲精品毛片久久久久,99久久婷婷国产综合精品电影,国产一区二区三区任你鲁

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

南大光電預計2019年底建成一條光刻膠生產線

半導體動態 ? 來源:工程師吳畏 ? 2019-07-18 16:14 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

7月17日,南大光電在互動平臺透露,公司設立光刻膠事業部,并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”,全力推進“ArF光刻膠開發和產業化項目”落地實施。目前該項目完成的研發技術正在等待驗收中,預計2019年底建成一條光刻膠生產線,項目產業化基地建設順利。

資料顯示,南大光電是一家專業從事高純電子材料研發、生產和銷售的高新技術企業,公司于2012年8月7日在深圳證券交易所創業板掛牌上市。

憑借30多年來的技術積累優勢,南大光電先后攻克了國家863計劃MO源全系列產品產業化、國家“02—專項”高純電子氣體(砷烷、磷烷)研發與產業化、ALD/CVD前驅體產業化等多個困擾我國數十年的項目,填補了多項國內空白。2017年,南大光電承擔了集成電路芯片制造用關鍵核心材料之一的193nm光刻膠材料的研發與產業化項目。

通過承擔國家重大技術攻關項目并實現產業化,南大光電形成了MO源、電子特氣、ALD/CVD前驅體材料和光刻膠四大業務板塊。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 光刻膠
    +關注

    關注

    10

    文章

    354

    瀏覽量

    31779
  • 南大光電
    +關注

    關注

    0

    文章

    20

    瀏覽量

    5122
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    中國打造自己的EUV光刻膠標準!

    電子發燒友網報道(文/黃山明)芯片,直被譽為 人類智慧、工程協作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設備光刻機就是 雕刻這個結晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機還不夠,還需要光刻膠
    的頭像 發表于 10-28 08:53 ?6639次閱讀

    光刻膠剝離工藝

    (N-甲基吡咯烷酮)、乳酸乙酯等強極性溶劑溶脹并溶解光刻膠分子鏈,適用于傳統g/i正膠體系。例如,NMP因低蒸氣壓可加熱至80℃以增強對交聯型光刻膠的去除能力
    的頭像 發表于 09-17 11:01 ?1899次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝

    光刻膠旋涂的重要性及厚度監測方法

    在芯片制造領域的光刻工藝中,光刻膠旋涂是不可或缺的基石環節,而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優可測薄膜厚度測量儀AF系列憑借高精度、高速度的特點,為光刻膠厚度監測提供了可靠
    的頭像 發表于 08-22 17:52 ?1777次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>旋涂的重要性及厚度監測方法

    從光固化到半導體材料:久日新材的光刻膠國產替代之路

    。 從光固化龍頭到半導體材料新銳 久日新材的戰略轉型始于2020。通過收購大晶信息、大晶新材等企業,強勢切入半導體化學材料賽道。202411月,久日新材控股公司年產4500噸光刻膠項目進入試
    的頭像 發表于 08-12 16:45 ?2011次閱讀

    國產百噸級KrF光刻膠樹脂產正式投產

    ? 電子發燒友網綜合報道 近日,八億時空宣布其KrF光刻膠萬噸級半導體制程高自動化研發/量產雙產順利建成,標志著我國在中高端光刻膠領域的自主化進程邁出關鍵
    的頭像 發表于 08-10 03:26 ?9701次閱讀

    國產光刻膠突圍,日企壟斷終松動

    量產到ArF浸沒式驗證,從樹脂國產化到EUV原料突破,場靜默卻浩蕩的技術突圍戰已進入深水區。 ? 例如在248nm波長的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A
    的頭像 發表于 07-13 07:22 ?6854次閱讀

    行業案例|膜厚儀應用測量之光刻膠厚度測量

    光刻膠生產技術復雜、品種規格多樣,在電子工業集成電路制造中,對其有著極為嚴格的要求,而保證光刻膠產品的厚度便是其中至關重要的環。 項目需求? 本次項目旨在測量
    的頭像 發表于 07-11 15:53 ?566次閱讀
    行業案例|膜厚儀應用測量之<b class='flag-5'>光刻膠</b>厚度測量

    針對晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關鍵環節,其效果直接影響芯片性能與良率。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
    的頭像 發表于 06-25 10:19 ?1033次閱讀
    針對晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關鍵環節。銅布線在制程中廣泛應用,但傳統光刻膠剝離液易對銅產生腐蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精準測量對確保 ARRAY 制程工藝精度
    的頭像 發表于 06-18 09:56 ?869次閱讀
    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造過程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現出色,但因其高含量使用帶來的成本、環保等問題備受關注。同時,光刻圖形的精準
    的頭像 發表于 06-17 10:01 ?823次閱讀
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液和制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    ? ? 引言 ? 在半導體制造領域,光刻膠剝離工藝是關鍵環節,但其可能對器件性能產生負面影響。同時,光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質量至關重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
    的頭像 發表于 06-14 09:42 ?891次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠產業國內發展現狀

    如果說最終制造出來的芯片是道美食,那么光刻膠就是最初的重要原材料之,而且是那種看起來可能不起眼,但卻能決定道菜味道的關鍵輔料。 光刻膠
    的頭像 發表于 06-04 13:22 ?1541次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造與微納加工領域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環節的核心材料,其性能優劣直接影響光刻膠去除效果與基片質量。同時,精準測量光刻圖形對把控工藝質量意義重大,白光干涉儀為此提供了
    的頭像 發表于 05-29 09:38 ?1345次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
    的頭像 發表于 04-29 13:59 ?9462次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    【「芯片通識課:本書讀懂芯片技術」閱讀體驗】了解芯片怎樣制造

    TSMC,中芯國際SMIC 組成:核心:生產線,服務:技術部門,生產管理部門,動力站(雙路保障),廢水處理站(環保,循環利用)等。生產線主要設備: 外延爐,薄膜設備,光刻機,蝕刻機,離
    發表于 03-27 16:38