，相比上一代產(chǎn)品，新款EUV光刻機(jī)生產(chǎn)效率將提升18%，曝光速度為30mj/cm，每小時可處理160片晶圓。 有意思的是，在2019年的年報中，ASML便提到正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)的計劃，不過并未透露具體型號，只是披露將在2022年初計劃出貨，2024年后大規(guī)模生產(chǎn)。而此次所公布的EUV光刻機(jī)如
2020-10-17 05:02:00
4299 對于如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言，EUV光刻機(jī)是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在，為了在未來的工藝軍備競賽中保持優(yōu)勢，臺積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購置EUV光刻機(jī)。 ? 然而，當(dāng)這些來自
2022-07-22 07:49:003666 推動科技進(jìn)步的半導(dǎo)體技術(shù)真的會停滯不前嗎？這也不太可能，7nm工藝節(jié)點(diǎn)將開始應(yīng)用EUV光刻工藝，研發(fā)EUV光刻機(jī)的ASML表示EUV工藝將會支持未來15年，部分客戶已經(jīng)在討論2030年的1.5nm工藝路線圖了。
2017-01-22 11:45:423754 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/李彎彎）據(jù)外媒報道，SK海力士希望在中國工廠無錫使用EUV光刻機(jī)，提高存儲芯片的生產(chǎn)效率，然而該工廠升級改造計劃卻遇到極大阻礙，因為美國官員不允許SK海力士將ASML 的EUV
2021-11-24 09:28:345812 作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機(jī)的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了7nm之下不可或缺的制造設(shè)備
2021-12-01 10:07:4113656 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚(yáng)）到了3nm這個工藝節(jié)點(diǎn)之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。為了實現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:003525 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚(yáng)）隨著歐美韓等國家均已引進(jìn)EUV光刻機(jī)，為其晶圓代工廠提供最先進(jìn)的工藝支持，日本雖然半導(dǎo)體制造水平這些年來提升不大，卻也計劃引進(jìn)EUV光刻機(jī)來打破這一困局，重回行業(yè)一
2023-10-10 01:13:002603 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚(yáng)）隨著雙碳目標(biāo)的提出，越來越多的行業(yè)應(yīng)用開始注意到能耗問題，尤其是在半導(dǎo)體制造設(shè)備上。就拿我們常常提及的EUV光刻機(jī)來說，就是一個不折不扣的耗電大戶，結(jié)合光刻半導(dǎo)體
2023-10-25 01:14:002523 這一突破的核心力量。 ? 然而，EUV光刻的廣泛應(yīng)用并非坦途，其光源本身存在反射損耗大、亮度低等固有缺陷，這對配套的光刻膠材料提出了前所未有的嚴(yán)苛要求——不僅需要具備高效的EUV吸收能力，還要在反應(yīng)機(jī)制的穩(wěn)定性、缺陷控制的精準(zhǔn)度等方面實
2025-08-17 00:03:004220 ofweek電子工程網(wǎng)訊 國際半導(dǎo)體制造龍頭三星、臺積電先后宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備之一極紫外光刻機(jī)（EUV）的關(guān)注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44
。 為什么需要EUV光刻？ EUV的優(yōu)勢之一是減少了芯片處理步驟，而使用EUV代替?zhèn)鹘y(tǒng)的多重曝光技術(shù)將大大減少沉積、蝕刻和測量的步驟。目前EUV技術(shù)主要運(yùn)用在邏輯工藝制程中，這導(dǎo)致了2019年訂單
2020-07-07 14:22:55
據(jù)羊城晚報報道，近日中芯國際從荷蘭進(jìn)口的一臺大型光刻機(jī)，順利通過深圳出口加工區(qū)場站兩道閘口進(jìn)入廠區(qū)，中芯國際發(fā)表公告稱該光刻機(jī)并非此前盛傳的EUV光刻機(jī)，主要用于企業(yè)復(fù)工復(fù)產(chǎn)后的生產(chǎn)線擴(kuò)容。我們知道
2021-07-29 09:36:46
進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后，EUV光刻機(jī)越來越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺EUV光刻機(jī)，總價值超過20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價超過1億歐元，可謂價值連城。
2017-01-19 18:22:594096 。 GlobalFoundries、英特爾、三星和臺積電希望將EUV光刻技術(shù)加入到7nm和5nm生產(chǎn)中。但就像以前一樣，EUV由幾部分組件組成，在芯片制造商能夠引入之前，它們必須整合在一起。
2018-03-31 11:52:006365 在半導(dǎo)體芯片制造設(shè)備中，投資最大、也是最為關(guān)鍵的是光刻機(jī)，光刻機(jī)同時也是精度與難度最高、技術(shù)最為密集、進(jìn)步最快的一種系統(tǒng)性工程設(shè)備。光學(xué)光刻技術(shù)與其它光刻技術(shù)相比，具有生產(chǎn)率高、成本低、易實現(xiàn)高的對準(zhǔn)和套刻精度、掩模制作相對簡單、工藝條件容易掌握等優(yōu)點(diǎn)，一直是半導(dǎo)體芯片制造產(chǎn)業(yè)中的主流光刻技術(shù)。
2018-04-10 11:26:34217055 
據(jù)業(yè)內(nèi)最新消息，全球最大的芯片機(jī)器制造商、荷蘭的AMSL證實，中國向荷蘭訂購一臺最新型的使用EUV（極紫外線）技術(shù)的芯片制造機(jī)器光刻機(jī)，訂貨單位是中芯國際（SMIC）。這也幾乎花掉了中芯國際
2018-05-20 10:32:3714641 微電子技術(shù)的發(fā)展歷程中，人們一直在研究開發(fā)新的IC制造技術(shù)來縮小線寬和增大芯片的容量。我們也普遍的把軟X射線投影光刻稱作極紫外投影光刻。在光刻技術(shù)領(lǐng)域我們的科學(xué)家們對極紫外投影光刻EUV技術(shù)的研究最為
2018-06-27 15:43:5013171 臺積電前不久試產(chǎn)了7nm EUV工藝，預(yù)計明年大規(guī)模量產(chǎn)，三星今天宣布量產(chǎn)7nm EUV工藝，這意味著EUV工藝就要正式商業(yè)化了，而全球最大的光刻機(jī)公司荷蘭ASML為這一天可是拼了20多年。
2018-10-19 10:49:293872 隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多技術(shù)挑戰(zhàn)，目前的光源功率以及晶圓產(chǎn)能輸出還沒有
2018-10-30 16:28:404245 用于高端邏輯半導(dǎo)體量產(chǎn)的EUV(Extreme Ultra-Violet，極紫外線光刻)曝光技術(shù)的未來藍(lán)圖逐漸“步入”我們的視野，從7nm階段的技術(shù)節(jié)點(diǎn)到今年(2019年，也是從今年開始)，每2年~3年一個階段向新的技術(shù)節(jié)點(diǎn)發(fā)展。
2019-01-21 10:45:563963 
批量產(chǎn)系統(tǒng)。預(yù)計2019年我們的EUV掃描儀生產(chǎn)的芯片將開始供消費(fèi)者和企業(yè)使用。”
他們還指出，公司將在今年推出新一代的EUV光刻設(shè)備NXE：3400C，規(guī)格為每小時170片晶圓，可用
2019-01-27 10:33:555103 
隨著半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)突破設(shè)計尺寸不斷縮小的極限，極紫外 （EUV） 光刻技術(shù)的運(yùn)用逐漸擴(kuò)展到大規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境中。對于 7 納米及更小的高級節(jié)點(diǎn)，EUV 光刻技術(shù)是一種能夠簡化圖案形成工藝的支持技術(shù)。要在如此精細(xì)的尺寸下進(jìn)行可靠制模，超凈的掩模必不可少。
2019-07-03 15:32:372675 
格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示，如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機(jī)，那么光刻的步驟將會超過100步，這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機(jī)無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來圍繞EUV光刻機(jī)的爭奪戰(zhàn)將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進(jìn)工藝市場競爭的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1814886 
11月25日，市場研究公司總裁羅伯特·卡斯特拉諾（Robert Castellano）表示：“過去三年來，應(yīng)用材料一直在晶圓制造前段工序（WFE）的設(shè)備市場上失去市場份額，而 ASML卻將憑借其價格高昂的EUV光刻設(shè)備大批出貨實現(xiàn)超越，取代應(yīng)用材料成為最大的半導(dǎo)體設(shè)備公司。”
2019-11-26 15:06:442524 近些年來EUV光刻這個詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473867 2月28日，美國泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時微電子中心合作開發(fā)了新的EUV光刻技術(shù)，不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能，還將光刻膠的用量最多降至原來的1/10，大幅降低了成本。
2020-02-29 11:20:583930 近些年來EUV光刻這個詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4531024 據(jù)中國證券報報道，3月6日下午從中芯國際獲悉，日前中芯國際深圳工廠從荷蘭進(jìn)口了一臺大型光刻機(jī)，但這是設(shè)備正常導(dǎo)入，用于產(chǎn)能擴(kuò)充，并非外界所稱的EUV光刻機(jī)。
2020-03-07 10:55:145046 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:483419 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:195447 2020年3月25日，三星電子（Samsung Electronics）公開透露，在半導(dǎo)體生產(chǎn)的主要工序中首次采用了新一代“EUV（極紫外線）”光刻設(shè)備的量產(chǎn)線。成為在半導(dǎo)體存儲芯片領(lǐng)域，全球首家使用EUV光刻設(shè)備。
2020-03-30 15:40:133914 與此同時， 他指出，EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量，迄今為止，他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機(jī)曝光了超過1100萬個EUV晶圓，并交付了57個3400x EUV系統(tǒng)（3400平臺是EUV生產(chǎn)平臺）。
2020-08-14 11:20:553039 
來源：浙商證券研究院 光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體。其組成部分包括：光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等
2020-09-15 14:00:1420205 據(jù)悉，ASML是全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的廠商，年產(chǎn)量為40余臺，臺積電方面希望獲得全數(shù)供應(yīng)。EUV光刻機(jī)的價格昂貴，每臺要價約1.3億美元，由于是EUV制程必需的關(guān)鍵設(shè)備，臺積電與三星電子的競爭日益激烈。
2020-10-13 13:51:522542 ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺EUV光刻機(jī)的售價為1.48億歐元，折合人民幣高達(dá)11.74億元
2020-10-19 12:02:4910752 
ASML公司的EUV光刻機(jī)全球獨(dú)一份，現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上，臺積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進(jìn)了，SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。
2020-10-30 10:54:212202 中國需要光刻機(jī)，尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)。具體來說，就是 EUV （極紫外光源）光刻機(jī)。
2020-11-11 10:13:305279 
在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm之后，EUV光刻機(jī)就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產(chǎn)，單價達(dá)到10億人民幣一臺。不過在EUV技術(shù)上，ASML還真不一定就是第一，專利比三星還少。
2020-11-17 10:25:183083 據(jù)TOMSHARDWARE報道，臺積電表示其部署的極紫外光（EUV）光刻工具已占全球安裝和運(yùn)行總量的50%左右，這意味著其使用的EUV機(jī)器數(shù)量超過了業(yè)內(nèi)其他任何一家公司。為了保持領(lǐng)先，臺積電已經(jīng)下單
2020-11-17 16:03:382413 自從芯片工藝進(jìn)入到7nm工藝時代以后，需要用到一臺頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機(jī)，目前全球
2020-12-03 13:46:227524 更多訣竅，領(lǐng)先對手1到2年。 據(jù)悉，三星的1z nm DRAM第三代內(nèi)存已經(jīng)用上了一層EUV，第四代1a nm將增加到4層。EUV光刻機(jī)的參與可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時間、降低成本，并提高性能。 盡管SK海力士、美光等也在嘗試EUV，但層數(shù)過少對
2020-12-04 18:26:542674 EUV（極紫外光）光刻機(jī)，是目前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進(jìn)光刻機(jī)類型。近來，有不少消息都指出，EUV光刻機(jī)耗電量非常大，甚至它還成為困擾臺積電的一大難題。 為何EUV光刻機(jī)會這么耗電呢
2021-02-14 14:05:004746 目前，還有ASML有能力生產(chǎn)最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約，中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機(jī)。
2021-01-21 08:56:185443 %，凈利潤達(dá)到36億歐元。全球光刻機(jī)主要玩家有ASML、尼康和佳能三家，他們占到了全球市場90%。 ASML由于技術(shù)領(lǐng)先，一家壟斷了第五代光刻機(jī)EUV光刻機(jī)，這類光刻機(jī)用于制造7nm以下先進(jìn)制程的芯片。 2020年ASML對外銷售了31臺EUV光刻機(jī)，帶來了45億歐元（折合352.52億
2021-01-22 10:38:165843 
機(jī)的出貨不及預(yù)期的35臺，而且他們還宣布了下一代高NA的EUV光刻機(jī)要到2025-2026年之間才能規(guī)模應(yīng)用，意味著要延期了。 此前信息顯示，ASML下一代EUV光刻機(jī)最早是2022年開始出樣，大規(guī)模
2021-01-22 17:55:243621 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 09:28:552324 機(jī)。 據(jù)報道，SK海力士與ASML公司簽訂了一個超級大單，未來5年內(nèi)將斥資4.8萬億韓元，約合43.4億美元購買EUV光刻機(jī)。 SK海力士在一份監(jiān)管文件中稱，這筆交易是為了實現(xiàn)下一代工藝芯片量產(chǎn)的目標(biāo)。 ASML及SK海力士都沒有透露這么多資金到底購買了多少臺EUV光刻機(jī)，不過從之
2021-02-25 09:30:232709 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 11:39:092438 一提起ASML這家公司，就少不了對光刻機(jī)問題的討論，因為截至目前，ASML仍然是全球最領(lǐng)先的光刻機(jī)廠商。普通的DUV光刻機(jī)就不多說了，ASML每年都能賣出去很多臺，而在更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)方面，ASML更是占據(jù)了絕對壟斷的地位。
2021-02-27 09:59:4216218 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:412409 日前，ASML產(chǎn)品營銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV（極紫外）光刻機(jī)的最新進(jìn)展。
2021-03-19 09:39:405766 美國媒體7月19日報道，美國政府正在努力阻止荷蘭ASML EUV光刻機(jī)（極紫外光刻機(jī)）進(jìn)入中國大陸。 報道稱，中國政府此前與荷蘭政府協(xié)商，要求允許中國公司購買ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)設(shè)備（極紫外光刻
2021-07-21 16:52:252514 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚(yáng)）作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機(jī)的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了
2021-12-07 14:01:1012038 EUV光刻技術(shù)為半導(dǎo)體制造商提供一個前所未有的速度開發(fā)最強(qiáng)大芯片的機(jī)會。
2022-04-07 14:49:331137 臺積電和三星從7nm工藝節(jié)點(diǎn)就開始應(yīng)用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導(dǎo)體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:203214 
HVM中的EUV光刻
?背景和歷史
?使用NXE的EUV光刻：3400B
?EUV生成原理
?EUV來源：架構(gòu)
?現(xiàn)場EUV源
?電源展望
?總結(jié)
2022-06-13 14:45:45
0 日前，在臺積電召開的會議上，有一名高管稱臺積電將于2024年引進(jìn)ASML正在研發(fā)的最新的High-NA EUV光刻機(jī)。 會議中，該高管稱：為了滿足客戶所需的相關(guān)基礎(chǔ)設(shè)施的開發(fā)等，臺積電將于2024年
2022-06-17 16:33:277596 據(jù)CNBC報道稱，世界聞名的先進(jìn)光刻機(jī)智造商荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機(jī)。
2022-06-18 08:13:032334 中國芯的進(jìn)步那是有目共睹，我國在光刻機(jī)，特別是在EUV光刻機(jī)方面，更是不斷尋求填補(bǔ)空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3518612 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:078348 如今世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，只有asml一家公司可以制造出來。
2022-07-06 11:19:3852761 EUV光刻機(jī)是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:445306 大家都知道，芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了。現(xiàn)在，全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)，那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢？ 到現(xiàn)在，世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4253101 說到芯片，估計每個人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個人都知道光刻機(jī)對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:278556 光刻機(jī)是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，它能夠制造和維護(hù)需要高水平的光學(xué)和電子產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)，全球只有少數(shù)制造商掌握了這一基礎(chǔ)。 光刻機(jī)的作用是對芯片晶圓進(jìn)行掃描曝光，對集成電路進(jìn)行蝕刻。精度更高的光刻
2022-07-10 14:35:067938 目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1087066 光刻機(jī)的原理是接近或接觸光刻，通過無限接近，將圖案復(fù)制到掩模上。直寫光刻是將光束聚焦到一個點(diǎn)上，通過移動工作臺或透鏡掃描實現(xiàn)任意圖形處理。投影光刻是集成電路的主流光刻技術(shù)，具有效率高、無損傷等優(yōu)點(diǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工
2022-07-10 15:28:1018347 光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，其技術(shù)含量和價值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制等
2022-07-10 16:34:405149 與此同時，在ASML看來，下一代高NA EUV光刻機(jī)為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn)，更少的隨機(jī)效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負(fù)膠肯定是沒法用了，DUV光刻機(jī)上常用的化學(xué)放大光刻膠（CAR）也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:083923 EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術(shù)，簡單來說，就是以極紫外光作“刀”，對芯片上的晶圓進(jìn)行雕刻，讓芯片上的電路變成人們想要的圖案。
2022-10-10 11:15:027389 光刻是半導(dǎo)體工藝中最關(guān)鍵的步驟之一。EUV是當(dāng)今半導(dǎo)體行業(yè)最熱門的關(guān)鍵詞，也是光刻技術(shù)。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細(xì)看看光刻技術(shù)。
2022-10-18 12:54:056458 號為 CN202110524685.X。這能解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題，這個也是 EUV 光刻常見問題。 從介紹中可以看出，該專利提供了一種光刻裝置，通過不斷改變相干光形成的干涉圖樣，使得照明視場在曝光時間內(nèi)的積累光強(qiáng)均勻化，從而達(dá)到勻光的目的，繼而
2022-11-21 15:10:073824 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/ 周凱揚(yáng) ）到了3nm這個工藝節(jié)點(diǎn)之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。 為了實現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:021848 過去二十年見證了193 nm以下波長光刻技術(shù)的發(fā)展。在使用 F2 準(zhǔn)分子激光器開發(fā)基于 157 納米的光刻技術(shù)方面付出了一些努力，但主要關(guān)注點(diǎn)是使用 13.5 納米軟 X 射線作為光源的極紫外 (EUV) 光刻技術(shù)。
2023-02-02 11:49:593901 挑戰(zhàn)性。制造商正在關(guān)注稱為極紫
外(EUV) 光刻的先進(jìn)制造技術(shù)。
EUV光刻可用于制造比以前更小規(guī)模的芯片。該技術(shù)可以導(dǎo)致微處理器的發(fā)展，其速度比目前最強(qiáng)大的芯片快十倍。EUV光刻
的本質(zhì)也可以歸因于當(dāng)前芯片印刷技術(shù)的物理限制。
2023-02-15 15:55:294 新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開發(fā)，必須通過精心設(shè)計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進(jìn)行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn)，imec 最近開發(fā)了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:122944 EUV光刻膠需要具有足夠的耐刻蝕性，以便在后續(xù)的刻蝕過程中保護(hù)圖案。為了提高耐刻蝕性，研究人員正在開發(fā)新型刻蝕抑制劑和交聯(lián)劑，以增強(qiáng)光刻膠的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。
2023-05-08 15:21:291287 
EUV光刻技術(shù)仍被認(rèn)為是實現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關(guān)鍵途徑。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟，預(yù)計EUV光刻將在未來繼續(xù)推動芯片制程的進(jìn)步。
2023-05-18 15:49:044249 
需要明確什么是EUV光刻機(jī)。它是一種采用極紫外線光源進(jìn)行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機(jī)相比，EUV光刻機(jī)可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別，從而實現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:374919 光刻機(jī)需要采用全反射光學(xué)元件，掩模需要采用反射式結(jié)構(gòu)。
這些需求帶來的是EUV光刻和掩模制造領(lǐng)域的顛覆性技術(shù)。EUV光刻掩模的制造面臨著許多挑戰(zhàn)，包括掩模基底的低熱膨脹材料的開發(fā)、零缺陷襯底拋光、多層膜缺陷檢查、多層膜缺陷修復(fù)等。
2023-06-07 10:45:543943 
EUV（Extreme Ultraviolet）光刻機(jī)是一種高級光刻設(shè)備，用于半導(dǎo)體制造業(yè)中的微電子芯片生產(chǎn)。EUV光刻機(jī)是目前最先進(jìn)的光刻技術(shù)之一，它采用極端紫外光作為曝光光源，具有更短的波長
2023-07-24 18:19:472366 EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進(jìn)光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進(jìn)技術(shù)，用于制造具有更小特征尺寸和增強(qiáng)性能的下一代半導(dǎo)體器件。
2023-08-07 15:55:021237 EUV光刻膠材料是光敏物質(zhì)，當(dāng)受到EUV光子照射時會發(fā)生化學(xué)變化。這些材料在解決半導(dǎo)體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用，包括提高靈敏度、控制分辨率、減少線邊緣粗糙度（LER）、降低釋氣和提高熱穩(wěn)定性。
2023-09-11 11:58:421622 
近20年來，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。
2023-09-14 09:45:122263 
EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光，涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會將圖案打印到晶圓上，用于微芯片設(shè)計過程中的后續(xù)步驟。
2023-10-30 12:22:555084 一文看懂FPGA芯片投資框架
2023-01-13 09:06:264 一文看懂PCB天線、FPC天線的特性
2023-03-01 15:37:4834 一文看懂BLE Mesh
2023-12-06 16:24:052509 
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露，臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑（High-NA）EUV光刻機(jī)，而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下，英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機(jī)。
2024-05-17 17:21:472030 近日，日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)（OIST）發(fā)布了一項重大研究報告，宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外（EUV）光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當(dāng)前半導(dǎo)體制造業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)界限，其設(shè)計的光刻設(shè)備能夠采用更小巧的EUV光源，并且功耗僅為傳統(tǒng)EUV光刻機(jī)的十分之一，從而實現(xiàn)了能源消耗的顯著降低。
2024-08-03 12:45:362296
原文標(biāo)題：一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻
2024-11-01 11:08:073091 光刻機(jī)的分辨率受光源波長（λ）、工藝因子（k1）和數(shù)值孔徑（NA）三個主要參數(shù)的影響。根據(jù)瑞利第一公式（CD = k1*λ/NA），這三個參數(shù)共同決定了光刻機(jī)的分辨率。 ? 芯片制造是一個復(fù)雜的過程
2024-11-28 09:58:483739 
據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司，已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個階段進(jìn)行安裝，設(shè)備安裝預(yù)計在
2024-12-20 13:48:201498 
電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《一文看懂電感、磁珠和零歐電阻的區(qū)別.docx》資料免費(fèi)下載
2025-01-02 14:48:283 來源：John Boyd IEEE電氣電子工程師學(xué)會 9月，佳能交付了一種技術(shù)的首個商業(yè)版本，該技術(shù)有朝一日可能顛覆最先進(jìn)硅芯片的制造方式。這種技術(shù)被稱為納米壓印光刻技術(shù)（NIL
2025-01-09 11:31:181280 1月5日消息，美國勞倫斯利弗莫爾國家實驗室（LLNL）正在開發(fā)一種基于銩元素的拍瓦級激光技術(shù)，該技術(shù)旨在替代現(xiàn)有的極紫外光刻（EUV）工具中使用的二氧化碳激光器，并預(yù)計將光源效率提高約十倍。這一
2025-01-13 09:40:295896 
? EUV光刻有多強(qiáng)？目前來看，沒有EUV光刻，業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)也是歷史上最復(fù)雜、最昂貴的機(jī)器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸？ EUV光刻技術(shù)，存在很多難點(diǎn)。 1.1
2025-02-18 09:31:242258 
了。 ? 芯片制造離不開光刻機(jī)，特別是在先進(jìn)制程上，EUV光刻機(jī)由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時，盡管目前市面上，EUV光刻機(jī)客戶僅有三家，但需求不斷增加的情況底下，EUV光刻機(jī)依然供不應(yīng)求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝，High-NA（高數(shù)值孔徑）EUV光刻機(jī)
2022-06-29 08:32:006314 ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
2025-10-04 03:18:009691 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/黃山明）芯片，一直被譽(yù)為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ，而制造芯片的重要設(shè)備光刻機(jī)就是 雕刻這個結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機(jī)還不夠，還需要光刻膠、掩膜版以及
2025-10-28 08:53:356236
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