據日經亞洲 12 月 19 日報道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設備的半導體公司，已經開始在北海道芯片制造廠內安裝極紫外光刻系統。

它將分四個階段進行安裝，設備安裝預計在本月底完成。

Rapidus 計劃 2025 年春季使用最先進的 2 納米工藝開發原型芯片，于 2027 年開始大規模生產芯片。

EUV 機器結合了特殊光源、鏡頭和其他技術，可形成超精細電路圖案。該系統體積小，不易受到振動和其他干擾。

ASML 是全球唯一的 EUV 系統供應商。每臺系統的成本約為 1.8 億美元，具體價格取決于型號。這些系統需要很高水平的操作技能，只有少數芯片制造商采用了它們，包括臺灣半導體制造公司、三星電子和英特爾。去年全球僅交付了 42 臺。

Rapidus 正與 IBM 合作，計劃于 2025 年春季采用最先進的 2 納米工藝開發原型芯片，并于 2027 年實現量產。全球最大的代工芯片制造商臺積電的目標是在 2025 年實現 2 納米芯片的量產。

更精細的電路賦予邏輯芯片更高的能效和處理能力，邏輯芯片是電子設備的大腦。這種先進的芯片對于人工智能和其他有望在未來幾十年決定經濟主導地位的技術至關重要。

20 世紀 80 年代，日本半導體產業的全球市場份額超過 50%。但到了 21 世紀，日本已退出生產越來越小的邏輯芯片的競爭。當地政府希望，借由 EUV 光刻工具大規模應用，重振日本先進芯片生產能力。

關于晶揚

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主營產品:ESD、TVS、MOS管、DC-DC,LDO系列、霍爾傳感器，高精度運放芯片，汽車音頻功放芯片等。

審核編輯 黃宇