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電子發燒友網>制造/封裝>一文解析EUV掩模版缺陷分類、檢測、補償

一文解析EUV掩模版缺陷分類、檢測、補償

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2023-04-13 11:52:122944

基于機器視覺的汽車漆面缺陷檢測技術

統和運動控制系統。系統對漆面缺陷檢測的過程和結果全程保存在本地電腦數據庫上,同時可以與車間管理系統對接,實現檢測結果的分類查詢、匯總分析功能。
2023-06-19 10:12:485267

行業案例 | 缺陷自動檢測分類(ADC)解決方案

由人工判別缺陷種類和缺陷位置,雖然已融入自動化生產步驟,但仍然有檢測過程耗時耗力、成本高的不便之處。明治傳感器推出的自動缺陷檢測分類(ADC,AutomaticD
2022-08-04 11:55:113645

讀懂方殼電池倉段差缺陷檢測

讀懂方殼電池倉段差缺陷檢測
2023-01-12 15:46:341798

基于GAN的零缺陷樣本產品表面缺陷檢測

的情況下實現高精度的檢測呢?目前有兩種方法,種是小樣本學習,另種是用GAN。本文將介紹種GAN用于無缺陷樣本產品表面缺陷檢測
2023-06-26 09:49:011866

EUV光刻市場高速增長,復合年增長率21.8%

EUV掩膜,也稱為EUV掩模EUV光刻掩膜,對于極紫外光刻(EUVL)這種先進光刻技術至關重要。EUV光刻是種先進技術,用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下代半導體器件。
2023-08-07 15:55:021237

EUV薄膜容錯成本高 成芯片良率的關鍵

近20年來,EUV光源、EUV掩模EUV光刻膠直是EUV光刻的三大技術挑戰。
2023-09-14 09:45:122263

基于改進FCOS的表面缺陷檢測算法

首先使用深度卷積神經網絡提取輸入圖像特征圖,然后使用分類網絡、回歸網絡、中心度網絡對特征圖上的所有特征點逐個進行檢測分類網絡輸出原圖上以此特征點為中心的區域所含缺陷類別,回歸網絡輸出原圖上以此特征
2023-09-28 09:41:271358

關于高數值孔徑EUV和曲線光掩模等燈具的討論

半導體芯科技編譯 來源:Silicon Semiconductor eBeam Initiative已完成第12屆年度eBeam Initiative杰出人物調查。 來自半導體生態系統(包括光掩模
2023-10-17 15:00:01921

高數值孔徑EUV的可能拼接解決方案

采用曲線掩模的另個挑戰是需要將兩個掩模縫合在起以在晶圓上形成完整的圖像。對于高數值孔徑 EUV,半場掩模的拼接誤差是個主要問題。
2023-10-23 12:21:412013

光刻可制造性檢查如何檢測掩模版質量

隨著工藝節點不斷變小,掩模版制造難度日益增加,耗費的資金成本從數十萬到上億,呈指數級增長,同時生產掩模版的時間成本也大幅增加。如果不能在制造掩模版前就保證其設計有足夠高的品質,重新優化設計并再次制造掩模版將增加巨大的資金成本和時間成本。
2023-11-02 14:25:592453

帶你了解蔡司工業CT中的自動缺陷檢測

蔡司自動缺陷檢測 適用于您的應用領域的AI軟件 蔡司自動化缺陷檢測機器學習軟件將人工智能應用于3D CT和2D X射線系統,樹立了新的標桿,可對缺陷或異常(不規則)進行檢測、定位與分類,同時通過讀取
2023-11-14 11:27:271208

龍圖光罩:致力于高端半導體掩模版國產化的先鋒

2020年-2023年上半年,應用于功率半導體領域的掩模版是龍圖光罩最主要的收入來源,且營收和營收占比呈現逐年遞增的趨勢。龍圖光罩指出,在功率半導體掩模版領域,公司的工藝節點已覆蓋全球功率半導體主流制程的需求。
2024-01-12 10:18:062023

解析光刻芯片掩模的核心作用與設計

掩模在芯片制造中起到“底片”的作用,是類不可或缺的晶圓制造材料,在芯片封裝(構筑芯片的外殼和與外部的連接)、平板顯示(TFT-LCD液晶屏和OLED屏〉、印刷電路板、微機電器件等用到光刻技術的領域也都能見到各種掩模的身影。
2024-01-18 10:25:222481

視覺檢測設備的分類

視覺檢測設備是種利用攝像頭、傳感器、光源和圖像處理算法等技術組成的設備,用于檢測、識別、分析和判斷圖像或視頻中目標物體的特征、屬性、狀態或缺陷。這些設備可以應用于各種行業和領域,包括工業自動化
2024-02-21 09:41:112675

煜輝半導體獲近億元A輪融資,聚焦下掩模檢測機臺研發

這家半導體制造商下屬的江蘇維普光電則專注于半導體光掩模檢測設備研發。據記者了解,該公司擁有包括IC掩模檢測、FPD掩模檢測、晶圓檢測、晶圓及掩模量測在內的五大產品線。
2024-04-03 15:53:061529

御微首臺掩模基板缺陷檢測儀 Halo-100順利交付

5月12日,皖江經濟帶核心城市合肥的邊界上,御微首臺掩模基板缺陷檢測產品Halo-100正式裝車,準備運輸交付給國內頂尖掩模工廠。
2024-05-15 17:43:481760

晶合集成成功生產首片半導體光刻掩模版,計劃2024年Q4量產

近日,國內領先的半導體制造企業晶合集成宣布了項重大技術突破,公司成功生產出首片半導體光刻掩模版,標志著其在高端半導體制造領域邁出了堅實的步。據公司官方公告,這里程碑式的成果預示著晶合集成即將開啟大規模量產的新篇章,預計將于2024年第四季度正式投入生產。
2024-07-23 16:48:191321

晶合集成迎來半導體光刻掩模版量產,推動半導體產業發展

近日,合肥晶合集成電路股份有限公司(簡稱晶合集成)欣然宣布,其于7月22日成功推出安徽省首款半導體光刻掩模版,從而成功填補了安徽省在此領域的歷史空缺,進步加強了本地區半導體產業的核心競爭力。
2024-07-24 16:00:411811

龍圖光罩科創板上市,引領半導體掩模版新篇章

近日,龍圖光罩在上海證券交易所科創板成功掛牌上市,股票代碼定為688721,以每股18.5元的發行價格亮相資本市場,其發行市盈率高達30.2倍,彰顯了市場對該公司未來發展的高度認可與期待。作為國內半導體掩模版領域的稀缺獨立第三方廠商,龍圖光罩的此次上市標志著其在半導體產業鏈中的重要地位進步鞏固。
2024-08-07 11:26:421290

預防光掩模霧狀缺陷實用指南

精密的線路圖形精確地復制到每片晶圓上。 然而,在使用光掩模進行硅片光刻的過程中,當掩模板被光刻機中的激光持續照射段時間后,掩模板上常常會出現種被稱為霧狀缺陷(Deflate)的問題,其中最常見的種表現形式就是“haze”(霧
2025-02-19 10:03:571140

解析工業互聯網

電子發燒友網站提供《解析工業互聯網.pptx》資料免費下載
2025-02-20 16:42:511

國內材料巨頭入主掩模版,空白掩模有望國產化(附投資邏輯)

關于空白掩模(BlankMask)的業務板塊(包含土地、廠房、存貨、設備、專利、在建工程、人員、技術等)。BlankMask是什么產品?目前收入空間與國產化率怎么樣?進軍BlankMask業務對聚和材料有何影響?BlankMask為半導體核心材料,國產化率極低Bl
2025-09-27 07:35:543861

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