在半導體制造的精密流程中,晶圓清洗機濕法制程設備扮演著至關重要的角色。以下是關于晶圓清洗機濕法制程設備的介紹:分類單片清洗機:采用兆聲波、高壓噴淋或旋轉刷洗技術,針對納米級顆粒物進行去除。批量式清洗
2025-12-29 13:27:19
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提供可靠的圖形化保障。以下深度解析其工藝優勢與技術創新。 一、設備核心工藝流程 華林科納四步閉環工藝,實現亞微米級圖形保真 (1)預處理(Pre-wetting) 去離子水浸潤:均勻潤濕晶圓表面,消除靜電吸附效應。 邊緣曝光消除(Edge
2025-12-24 15:03:51
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、核心化學品、常見問題及創新解決方案等維度,解析RCA濕法設備如何為晶圓表面凈化提供全周期保障。 一、RCA濕法設備核心工藝流程 華林科納RCA清洗技術通過多步驟化學反應的協同作用,系統清除晶圓表面的顆粒、有機物及金屬污染物
2025-12-24 10:39:08
135 一、核心化學品與工藝參數 二、常見問題點與專業處理措施 ? ? ? ? ? 三、華林科納設備選型建議 槽式設備:適合批量處理(25-50片/批次),成本低但需關注交叉污染風險,建議搭配高精度過濾系統
2025-12-23 16:21:59
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近日,為期三天的SEMICON JAPAN 2025(2025年日本半導體展)在東京國際展覽中心圓滿落下帷幕。作為半導體制造供應鏈領域的頂尖盛會,本次展會匯聚了全球行業精英、技術先鋒與知名企業,重點聚焦AI、先進封裝、量子計算、光電融合、移動出行、航空航天及醫療應用等前沿方向。
2025-12-22 13:46:33
234 襯底清洗是半導體制造、LED外延生長等工藝中的關鍵步驟,其目的是去除襯底表面的污染物(如顆粒、有機物、金屬離子、氧化層等),確保后續薄膜沉積或器件加工的質量。以下是常見的襯底清洗方法及適用場景:一
2025-12-10 13:45:30
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日前,衢州市科學技術局發布《衢州市科學技術局關于下達2025年度市競爭性科技攻關項目的通知》(衢市科發規〔2025〕18號),浙江海納半導體股份有限公司(以下簡稱“公司”)憑借“高性能硅基復合襯底
2025-12-09 15:35:48
507 格芯(GlobalFoundries,納斯達克代碼:GFS)與納微半導體(Navitas Semiconductor,納斯達克代碼:NVTS)今日正式宣布建立長期戰略合作伙伴關系,共同推進美國
2025-11-27 14:30:20
2043 自我正式擔任納微半導體(Navitas Semiconductor)首席執行官至今,已有 60 天時間。今天,我們迎來了關鍵時刻:納微正加速轉型,成為一家以高功率為核心、聚焦“從電網到GPU”全鏈路解決方案的功率半導體公司。
2025-11-21 17:05:12
1217 近日,納微半導體宣布了一系列重要人事任命,多名高管的加入將為納微注入全新動力。
2025-11-14 14:11:10
2167 云鎵半導體喜報|第十四屆納博會創新創業大賽首場路演,云鎵半導體一舉奪魁,直通決賽!創新引領未來,創業鑄就輝煌3月21日下午第十四屆中國國際納米技術產業博覽會創新創業大賽啟動儀式暨首場行業賽在蘇州納米
2025-11-11 11:47:05
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半導體清洗中SPM(硫酸-過氧化氫混合液)的最佳使用溫度需根據具體工藝目標、污染物類型及設備條件綜合確定,以下是關鍵分析: 高溫場景(120–150℃) 適用場景:主要用于光刻膠剝離、重度有機污染
2025-11-11 10:32:03
253 濕法蝕刻的最佳刻蝕條件需綜合溶液體系、溫度控制、時間管理及材料特性等因素,具體如下: 溶液體系與濃度 氫氟酸緩沖體系(BOE):采用HF:NH?F:H?O=6:1:1的體積比配置,pH值控制在3-5
2025-11-11 10:28:48
269 加利福尼亞州托倫斯——2025年11月3日訊:下一代GaNFast氮化鎵與高壓碳化硅 (GeneSiC) 功率半導體行業領導者——納微半導體 (納斯達克股票代碼: NVTS) 今日公布截至2025年9月30日的未經審計的第三季度財務業績。
2025-11-07 16:46:05
2452 一臺半導體參數分析儀抵得上多種測量儀器Keysight B1500A 半導體參數分析儀是一款一體化器件表征分析儀,能夠測量 IV、CV、脈沖/動態 I-V 等參數。 主機和插入式模塊能夠表征大多數
2025-10-29 14:28:09
半導體無機清洗是芯片制造過程中至關重要的環節,以下是關于它的詳細介紹: 定義與目的 核心概念:指采用化學試劑或物理方法去除半導體材料(如硅片、襯底等)表面的無機污染物的過程。這些污染物包括金屬離子
2025-10-28 11:40:35
231 晶圓濕法刻蝕技術作為半導體制造中的重要工藝手段,具有以下顯著優點:高選擇性與精準保護通過選用特定的化學試劑和控制反應條件,濕法刻蝕能夠實現對目標材料的高效去除,同時極大限度地減少對非目標區域(如掩膜
2025-10-27 11:20:38
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在半導體濕法腐蝕工藝中,選擇合適的掩模圖形以控制腐蝕區域是一個關鍵環節。以下是一些重要的考慮因素和方法: 明確設計目標與精度要求 根據器件的功能需求確定所需形成的微觀結構形狀、尺寸及位置精度。例如
2025-10-27 11:03:53
312 近日,第十五屆中國國際納米技術產業博覽會(CHInano2025)正在蘇州國際博覽中心火熱舉辦。這場聚焦微納制造、第三代半導體、納米大健康、AI技術應用等前沿領域行業盛會,不僅呈現納米技術
2025-10-24 11:00:21
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自由空間半導體激光器半導體激光器是以一定的半導體材料做工作物質而產生激光的器件。.其工作原理是通過一定的激勵方式,在半導體物質的能帶(導帶與價帶)之間,或者半導體物質的能帶與雜質(受主或施主)能級
2025-10-23 14:24:06
納微半導體正式發布專為英偉達800 VDC AI工廠電源架構打造的全新100V氮化鎵,650V氮化鎵和高壓碳化硅功率器件,以實現突破性效率、功率密度與性能表現。
2025-10-15 15:54:59
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兆易創新GigaDevice與納微半導體(納斯達克股票代碼:NVTS)共同設立的“數字能源聯合實驗室”在合肥正式揭牌。該實驗室將GD32 MCU領域的深厚積累,與納微半導體在高頻、高速、高集成度氮化
2025-10-13 13:52:54
409 近日,蘇州納芯微電子股份有限公司(以下簡稱:納芯微)、聯合汽車電子有限公司(以下簡稱:聯合電子)與英諾賽科(蘇州)科技股份有限公司(以下簡稱:英諾賽科)共同簽署戰略合作協議。
2025-10-13 11:41:04
2482 近日,納微半導體宣布一項人事任命:Matthew Sant將擔任高級副總裁、秘書兼總法律顧問。
2025-09-26 10:12:50
663 硅片濕法清洗工藝雖然在半導體制造中廣泛應用,但其存在一些固有缺陷和局限性,具體如下:顆粒殘留與再沉積風險來源復雜多樣:清洗液本身可能含有雜質或微生物污染;過濾系統的濾芯失效導致大顆粒物質未被有效攔截
2025-09-22 11:09:21
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納微半導體(納斯達克股票代碼:NVTS)今日宣布一項重要人事任命:納微董事會已決定聘任Chris Allexandre為公司總裁兼首席執行官,自2025年9月1日起正式履職。同時,Chris
2025-08-29 15:22:42
3924 選擇合適的濕法清洗設備需要綜合評估多個技術指標和實際需求,以下是關鍵考量因素及實施建議:1.清洗對象特性匹配材料兼容性是首要原則。不同半導體基材(硅片、化合物晶體或先進封裝材料)對化學試劑的耐受性
2025-08-25 16:40:56
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在半導體濕法工藝中,高精度溫控器是必需的關鍵設備,其應用貫穿多個核心環節以確保工藝穩定性和產品良率。以下是具體分析:一、為何需要高精度溫控?化學反應速率控制濕法蝕刻、清洗等過程依賴化學液與材料
2025-08-12 11:23:14
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半導體濕法去膠是一種通過化學溶解與物理輔助相結合的技術,用于高效、可控地去除晶圓表面的光刻膠及其他工藝殘留物。以下是其核心原理及關鍵機制的詳細說明:化學溶解作用溶劑選擇與反應機制有機溶劑體系:針對
2025-08-12 11:02:51
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制造工藝的深刻理解,將濕法蝕刻這一關鍵技術與我們自主研發的高精度檢測系統相結合,為行業提供從工藝開發到量產管控的完整解決方案。濕法蝕刻工藝:高精度制造的核心技術M
2025-08-11 14:27:12
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微型導軌在半導體制造中用于晶圓對準和定位系統,確保晶圓在光刻、蝕刻等工藝中精確移動。
2025-08-08 17:50:08
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在半導體制造中,“濕法flush”(WetFlush)是一種關鍵的清洗工藝步驟,具體含義如下:定義與核心目的字面解析:“Flush”意為“沖洗”,而“濕法”指使用液體化學品進行操作。該過程通過噴淋或
2025-08-04 14:53:23
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近日,天津瑞發科半導體技術有限公司(以下簡稱“瑞發科”)的車載SerDes產品NS6129S和NS6168在季豐電子可靠性實驗室的助力下,成功通過AEC-Q100認證測試,榮獲AEC-Q100認證證書。
2025-07-29 16:46:27
923 一、核心功能與應用場景半導體超聲波清洗機是利用高頻超聲波(20kHz-1MHz)的空化效應,通過液體中微射流和沖擊波的作用,高效剝離晶圓表面的顆粒、有機物、金屬污染及微小結構內的殘留物。廣泛應用
2025-07-23 15:06:54
在半導體行業中,硅基光電子技術是實現光互聯、突破集成電路電互聯瓶頸的關鍵,而在硅si襯底上外延生長高質量GaAs薄膜是硅基光源單片集成的核心。臺階儀作為重要的表征工具,在GaAs/Si異質外延研究中
2025-07-22 09:51:18
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晶圓蝕刻與擴散是半導體制造中兩個關鍵工藝步驟,分別用于圖形化蝕刻和雜質摻雜。以下是兩者的工藝流程、原理及技術要點的詳細介紹:一、晶圓蝕刻工藝流程1.蝕刻的目的圖形化轉移:將光刻膠圖案轉移到晶圓表面
2025-07-15 15:00:22
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晶圓蝕刻后的清洗是半導體制造中的關鍵步驟,旨在去除蝕刻殘留物(如光刻膠、蝕刻產物、污染物等),同時避免對晶圓表面或結構造成損傷。以下是常見的清洗方法及其原理:一、濕法清洗1.溶劑清洗目的:去除光刻膠
2025-07-15 14:59:01
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目錄
第1章?半導體中的電子和空穴第2章?電子和空穴的運動與復合
第3章?器件制造技術
第4章?PN結和金屬半導體結
第5章?MOS電容
第6章?MOSFET晶體管
第7章?IC中的MOSFET
2025-07-12 16:18:42
近日,太極半導體(蘇州)有限公司(以下簡稱:太極半導體)召開了SAP S/4 HANA系統實施項目總結會。太極半導體數字化轉型的征程中又迎來了一個具有里程碑意義的時刻——SAP 升級系統正式上線,這
2025-07-11 17:16:28
975 本書較全面地講述了現有各類重要功率半導體器件的結構、基本原理、設計原則和應用特性,有機地將功率器件的設計、器件中的物理過程和器件的應用特性聯系起來。
書中內容由淺入深,從半導體的性質、基本的半導體
2025-07-11 14:49:36
在工業自動化領域,哈默納科(HarmonicDrive)憑借其創新的精密傳動技術,成為高端制造的核心驅動力。無論是工業機器人、半導體設備,還是醫療機械,Harmonic執行器都以緊湊設計、超高精度和卓越性能脫穎而出,為復雜應用場景提供高效解決方案。
2025-07-03 11:15:05
1042 關系 ,正式啟動并持續推進業內領先的 8英寸硅基氮化鎵技術生產。 納微半導體預計將使用位于臺灣苗栗竹南科學園區的力積電8B廠的
2025-07-02 17:21:09
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濕法清洗臺是一種專門用于半導體、電子、光學等高科技領域的精密清洗設備。它主要通過物理和化學相結合的方式,對芯片、晶圓、光學元件等精密物體表面進行高效清洗和干燥處理。從工作原理來看,物理清洗方面,它
2025-06-30 13:52:37
和精度能夠滿足光模塊在不同工況下的性能檢測要求,在光通訊行業的溫控應用中發揮作用。
依托帕爾貼效應這一科學原理研發的高精度半導體溫控產品,通過多樣化的產品配置,在各領域的溫控環節中發揮作用。從電子元件
2025-06-25 14:44:54
在半導體制造的精密鏈條中,半導體清洗機設備是確保芯片良率與性能的關鍵環節。它通過化學或物理手段去除晶圓表面的污染物(如顆粒、有機物、金屬離子等),為后續制程提供潔凈的基底。本文將從設備定義、核心特點
2025-06-25 10:31:51
在半導體制造的精密流程中,晶圓濕法清洗設備扮演著至關重要的角色。它不僅是芯片生產的基礎工序,更是決定良率、效率和成本的核心環節。本文將從技術原理、設備分類、行業應用到未來趨勢,全面解析這一關
2025-06-25 10:26:37
半導體濕法清洗是芯片制造過程中的關鍵工序,用于去除晶圓表面的污染物(如顆粒、有機物、金屬離子、氧化物等),確保后續工藝的良率與穩定性。隨著芯片制程向更小尺寸(如28nm以下)發展,濕法清洗設備
2025-06-25 10:21:37
有沒有這樣的半導體專用大模型,能縮短芯片設計時間,提高成功率,還能幫助新工程師更快上手。或者軟硬件可以在設計和制造環節確實有實際應用。會不會存在AI缺陷檢測。
能否應用在工藝優化和預測性維護中
2025-06-24 15:10:04
半導體藥液單元(Chemical Delivery Unit, CDU)是半導體前道工藝(FEOL)中的關鍵設備,用于精準分配、混合和回收高純化學試劑(如蝕刻液、清洗液、顯影液等),覆蓋光刻、蝕刻
2025-06-17 11:38:08
蘇州芯矽電子科技有限公司(以下簡稱“芯矽科技”)是一家專注于半導體濕法設備研發與制造的高新技術企業,成立于2018年,憑借在濕法清洗領域的核心技術積累和創新能力,已發展成為國內半導體清洗設備領域
2025-06-06 14:25:28
在半導體產業的宏大版圖中,蘇州芯矽電子科技有限公司宛如一座默默耕耘的燈塔,雖低調卻有著不可忽視的光芒,尤其在半導體清洗機領域,以其穩健的步伐和扎實的技術,為行業發展貢獻著關鍵力量。
芯矽科技扎根于
2025-06-05 15:31:42
前不久,納微半導體剛剛發布全球首款量產級的650V雙向GaNFast氮化鎵功率芯片。
2025-06-03 09:57:50
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在半導體制造中,wafer清洗和濕法腐蝕是兩個看似相似但本質不同的工藝步驟。為了能讓大家更好了解,下面我們就用具體來為大家描述一下其中的區別: Wafer清洗和濕法腐蝕是半導體制造中的兩個關鍵工藝
2025-06-03 09:44:32
712 半導體硅作為現代電子工業的核心材料,其表面性質對器件性能有著決定性影響。表面氧化處理作為半導體制造工藝中的關鍵環節,通過在硅表面形成高質量的二氧化硅(SiO?)層,顯著改善了硅材料的電學、化學和物理
2025-05-30 11:09:30
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濕法刻蝕作為半導體制造領域的元老級技術,其發展歷程與集成電路的微型化進程緊密交織。盡管在先進制程中因線寬控制瓶頸逐步被干法工藝取代,但憑借獨特的工藝優勢,濕法刻蝕仍在特定場景中占據不可替代的地位。
2025-05-28 16:42:54
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近日,納微半導體宣布推出專為超大規模AI數據中心設計的最新12kW量產電源參考設計,可適配功率密度達120kW的高功率服務器機架。
2025-05-27 16:35:01
1299 近日,江蘇省工業和信息化廳公布了2025年江蘇省先進級智能工廠名單,太極半導體(蘇州)有限公司(以下簡稱:太極半導體)成功入選。 近年來,太極半導體深度融合物聯網、大數據等領域的前沿技術,聚焦工廠
2025-05-23 16:33:54
1025 隨著電子技術的快速發展,半導體材料的研究與應用不斷演進。傳統的硅(Si)半導體已無法滿足現代電子設備對高效能和高頻性能的需求,因此,第三代半導體材料應運而生。第三代半導體主要包括氮化鎵(GaN
2025-05-22 15:04:05
1951 近日,納微半導體 (納斯達克股票代碼: NVTS) 宣布將于5月21日晚(臺北國際電腦展Computex同期)在臺北舉辦“AI科技之夜”,數據中心上下游行業專家、供應鏈合作伙伴以及技術開發者將齊聚一堂,通過主題演講、技術演示和互動討論等形式展開對最新AI數據中心能源基建技術發展的交流。
2025-05-20 10:18:05
870 納微半導體 (納斯達克股票代碼: NVTS) 今日推出一種全新的可靠性標準,以滿足最嚴苛汽車及工業應用的系統壽命要求。納微最新一代650V與1200V“溝槽輔助平面柵”碳化硅MOSFET,搭配優化的HV-T2Pak頂部散熱封裝,實現行業最高6.45mm爬電距離,可滿足1200V以下應用的IEC合規性。
2025-05-14 15:39:30
1341 日前,2025中國浙江(海寧)半導體裝備及材料博覽會在海寧會展中心拉開帷幕。本次展會匯聚了全球多家產業鏈上下游企業,聚焦芯片制造、封裝測試、材料研發等核心領域。浙江海納半導體股份有限公司(以下簡稱
2025-05-13 16:07:20
1596 電子束半導體圓筒聚焦電極
在傳統電子束聚焦中,需要通過調焦來確保電子束焦點在目標物體上。要確認是焦點的最小直徑位置非常困難,且難以測量。如果焦點是一條直線,就可以免去調焦過程,本文將介紹一種能把
2025-05-10 22:32:27
麥科信獲評CIAS2025金翎獎【半導體制造與封測領域優質供應商】
蘇州舉辦的2025CIAS動力·能源與半導體創新發展大會上,深圳麥科信科技有限公司憑借在測試測量領域的技術積累,入選半導體
2025-05-09 16:10:01
納微半導體(納斯達克股票代碼:NVTS)公布了截至2025年3月31日的未經審計的2025年第一季度財務業績。
2025-05-08 15:52:26
2028 半導體BOE(Buffered Oxide Etchant,緩沖氧化物蝕刻液)刻蝕技術是半導體制造中用于去除晶圓表面氧化層的關鍵工藝,尤其在微結構加工、硅基發光器件制作及氮化硅/二氧化硅刻蝕中廣
2025-04-28 17:17:25
5516 納微半導體宣布將在5月6-8日參加于德國紐倫堡舉辦的PCIM 2025,全面展示氮化鎵和碳化硅技術在AI數據中心、電動汽車、電機馬達和工業領域的應用新進展。
2025-04-27 09:31:57
1008 在工業自動化高速發展的今天,HD哈默納科行星減速機憑借其精密性、高負載、長壽命等核心優勢,成為半導體、機器人、數控機床等高端制造領域選擇。本文將深度解析其技術亮點、型號選擇與應用場景,揭秘它如何助力企業實現效率與精度的雙重突破!
2025-04-24 13:22:31
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納微半導體今日宣布推出最新SiCPAK功率模塊,該模塊采用環氧樹脂灌封技術及納微獨家的“溝槽輔助平面柵”碳化硅MOSFET技術,經過嚴格設計和驗證,適用于最嚴苛的高功率環境,重點確??煽啃耘c耐高溫
2025-04-22 17:06:39
980 On Wafer WLS-WET無線晶圓測溫系統是半導體先進制程監控領域的重要創新成果。該系統通過自主研發的核心技術,將溫度傳感器嵌入晶圓集成,實現了晶圓本體與傳感單元的無縫融合。傳感器采用IC傳感器,具備±0.1℃的測量精度和10ms級快速響應特性,可實時捕捉濕法工藝中瞬態溫度場分布。
2025-04-22 11:34:40
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日訊——納微半導體宣布其高功率旗艦GaNSafe氮化鎵功率芯片已通過 AEC-Q100 和 AEC-Q101 兩項車規認證,這標志著氮化鎵技術在電動汽車市場的應用正式邁入了全新階段。 ? 納微半導體的高功率旗艦——第四代GaNSafe產品家族, 集成了控制、驅動、感測以及關鍵的保護功能
2025-04-17 15:09:26
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在工業自動化領域,哈默納科(HarmonicDrive)憑借其創新的精密傳動技術,成為高端制造的核心驅動力。無論是工業機器人、半導體設備,還是醫療機械,Harmonic執行器都以緊湊設計、超高精度和卓越性能脫穎而出,為復雜應用場景提供高效解決方案。
2025-04-16 09:14:39
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晶圓高溫清洗蝕刻工藝是半導體制造過程中的關鍵環節,對于確保芯片的性能和質量至關重要。為此,在目前市場需求的增長情況下,我們來給大家介紹一下詳情。 一、工藝原理 清洗原理 高溫清洗利用物理和化學的作用
2025-04-15 10:01:33
1097 半導體:硅與鍺的奠基時代 時間跨度: 20世紀50年代至70年代 核心材料: 硅(Si)、鍺(Ge) 硅(Si) 鍺(Ge) 優勢: ①成本低廉:硅是地殼中含量第二的元素,原材料豐富且提純技術成熟。 ②工藝成熟:基于硅的集成電路制造技術高度
2025-04-10 15:58:56
2601 兆易創新GigaDevice今日宣布與納微半導體(納斯達克股票代碼: NVTS)達成戰略合作伙伴關系,通過將兆易創新先進的高算力MCU產品和納微半導體高頻、高速、高集成度的氮化鎵技術進行優勢整合
2025-04-09 09:30:43
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? ? ? 今日,兆易創新宣布與納微半導體正式達成戰略合作!雙方將強強聯合,通過將兆易創新先進的高算力MCU產品和納微半導體高頻、高速、高集成度的氮化鎵技術進行優勢整合,打造智能、高效、高功率密度
2025-04-08 18:12:44
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科在中國的制造產能。 服務多重電子應用領域、全球排名前列的半導體公司 意法半導體 (簡稱ST)與8英寸高性能低成本硅基氮化鎵(GaN-on-Si)制造全球領軍企業 英諾賽科 ,共同宣布簽署了一項氮化鎵技術開發與制造協議。雙方將充分發揮各
2025-04-01 10:06:02
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金屬導體,其導電性能比導體差而比絕緣體好。 半導體:導電性能介于導體與絕緣體之間的物質稱半導體。常用的半導體材料有硅(Si)、鍺(Ge)、硒(Se)和砷化鎵(GaAs)及其他金屬氧化物和硫化物等
2025-03-25 16:21:28
? 日前,廣東領益智造股份有限公司(簡稱“領益智造”)2025年供應商大會于廣東深圳領益大廈成功召開。納微達斯(無錫)半導體有限公司(簡稱“納微半導體”)憑借領先的第三代功率半導體技術,與領益智造
2025-03-14 11:51:04
3895 華林科納半導體高選擇性蝕刻是指在半導體制造等精密加工中,通過化學或物理手段實現目標材料與非目標材料刻蝕速率的顯著差異,從而精準去除指定材料并保護其他結構的工藝技術?。其核心在于通過工藝優化控制
2025-03-12 17:02:49
809 在芯片制造的精密工藝中,華林科納濕法刻蝕(Wet Etching)如同一把精妙的雕刻刀,以化學的魔力在晶圓這張潔白的畫布上,雕琢出微觀世界的奇跡。它是芯片制造中不可或缺的一環,以其高效、低成本的特點
2025-03-12 13:59:11
983 特性,使其在特殊工業場景中表現出色。以下是華林科納半導體對其的詳細解析: 一、PTFE隔膜泵的結構與工作原理 結構 :主要由PTFE隔膜、驅動機構(氣動、電動或液壓)、泵腔、進出口閥門(通常為PTFE球閥或蝶閥)組成。部分型號的泵體內壁也會覆蓋PTFE涂層
2025-03-06 17:24:09
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座艙與車控芯片,出貨量超700萬片,覆蓋國內90%車企及國際品牌,2024年估值超140億元,計劃2026年科創板上市。其產品已打入歐洲OEM市場,是國產車規芯片的標桿企業。
2. 屹唐半導體
2025-03-05 19:37:43
近日,威睿電動汽車技術(寧波)有限公司(簡稱“威睿公司”)2024年度供應商伙伴大會于浙江寧波順利召開。納微達斯(無錫)半導體有限公司(簡稱“納微半導體”)憑借在第三代功率半導體中的技術創新和協同成果,喜獲“優秀技術合作獎”。
2025-03-04 09:38:23
969 本文介紹了Cu-Cu混合鍵合主要用在哪方面以及原理是什么。
2025-02-26 17:35:11
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近日,唯一全面專注的下一代功率半導體公司及下一代氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)領導者——納微半導體 (納斯達克股票代碼: NVTS) 今日公布了截至2024年12月31日的未經審計的第四季度及全年財務業績。
2025-02-26 17:05:13
1246 近日,唯一全面專注的下一代功率半導體公司及下一代氮化鎵(GaN)功率芯片和碳化硅(SiC)技術領導者——納微半導體 (納斯達克股票代碼: NVTS) 宣布將參加APEC 2025,展示氮化鎵和碳化硅技術在AI數據中心、電動汽車和移動設備領域的應用新突破。
2025-02-25 10:16:38
1784 在半導體制造的精密世界里,濕法清洗是確保芯片質量的關鍵環節。而在這一過程中,有機溶劑的選擇至關重要。那么,半導體濕法清洗中常用的有機溶劑究竟有哪些呢?讓我們一同來了解。 半導體濕法清洗中常
2025-02-24 17:19:57
1828 隨著近些年國內技術的迅猛發展,科智立憑借自主創新,成功研發出性能不輸于歐姆龍V640的國產RFID讀寫器,徹底打破了國外對半導體RFID讀寫器的壟斷,為國內半導體行業提供了高性價比的替代方案。以武漢
2025-02-23 16:17:41
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GaNFast氮化鎵功率芯片和GeneSiC碳化硅功率器件的行業領導者——納微半導體(納斯達克股票代碼:NVTS)今日宣布于下月發布全新的功率轉換技術,將觸發多個行業領域的顛覆性變革。該創新涵蓋半導體與系統級解決方案,預計將顯著提升能效與功率密度,加速氮化鎵和碳化硅技術對傳統硅基器件的替代進程。
2025-02-21 16:41:10
867 半導體濕法清洗工藝?? 隨著半導體器件尺寸的不斷縮小和精度要求的不斷提高,晶圓清洗工藝的技術要求也日益嚴苛。晶圓表面任何微小的顆粒、有機物、金屬離子或氧化物殘留都可能對器件性能產生重大影響,進而
2025-02-20 10:13:13
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在半導體行業中,封裝技術對于功率芯片的性能發揮起著至關重要的作用。隨著電子技術的飛速發展,特別是在大功率場合下,傳統的封裝技術已經難以滿足日益增長的性能需求。因此,Cu Clip封裝技術作為一種新興
2025-02-19 11:32:47
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無錫納斯凱半導體科技有限公司(以下簡稱“納斯凱”)宣布,面向耐心資本的近億元定向融資已高效交割。由毅達資本領投,高發集團旗下星源資本、廣州零備件戰略投資等投資方。 納斯凱作為一家專注于半導體設備
2025-02-11 11:37:02
987 近日,半導體設備關鍵性零部件企業納斯凱宣布獲得新一輪融資,由毅達資本領投。這一消息標志著納斯凱在半導體領域的持續發展和創新得到了資本市場的認可。
2025-02-10 17:26:19
996 近日,GaNFast氮化鎵功率芯片和GeneSiC碳化硅功率器件的行業領導者——納微半導體(納斯達克股票代碼:NVTS)今日宣布其氮化鎵和碳化硅技術進入戴爾供應鏈,為戴爾AI筆記本打造功率從60W至360W的電腦適配器。
2025-02-07 13:35:08
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electronics as pathways to carbon neutrality"的文章,深入探討了寬禁帶(WBG)半導體和電力電子技術在能源領域的重要作用,肯定了納微半導體在節能減排方面帶來的突出影響,為實現碳中和提供了新的思路和方向。
2025-02-07 11:54:03
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近日,江蘇省工業和信息化廳公布了2024年度江蘇省綠色工廠名單,太極半導體(蘇州)有限公司(以下簡稱:太極半導體)成功入選。
2025-01-24 10:48:00
1102 半導體濕法刻蝕過程中殘留物的形成,其背后的機制涵蓋了化學反應、表面交互作用以及側壁防護等多個層面,下面是對這些機制的深入剖析: 化學反應層面 1 刻蝕劑與半導體材料的交互:濕法刻蝕技術依賴于特定
2025-01-08 16:57:45
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