電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)芯片,一直被譽為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設(shè)備光刻機就是 雕刻這個結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機還不夠,還需要光刻膠、掩膜版以及
2025-10-28 08:53:35
6234 ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/吳子鵬)?在全球半導體產(chǎn)業(yè)格局中,光刻機被譽為 “半導體工業(yè)皇冠上的明珠”,而極紫外(EUV)光刻技術(shù)更是先進制程芯片制造的核心。長期以來,荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
2025-10-04 03:18:00
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*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝(FOPLP)技術(shù)為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞?比較傳統(tǒng)的光刻機設(shè)備,尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同?能解決AI芯片生產(chǎn)當中的哪些痛點問題? 針對2nm、3nm芯片制造難題,光刻機龍頭企業(yè)ASML新款光刻機又能帶來哪些優(yōu)勢?本文進行詳細分析。
2025-07-24 09:29:39
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在機械制造領(lǐng)域,數(shù)控機床與CNC(計算機數(shù)值控制)加工技術(shù)的結(jié)合,構(gòu)成了現(xiàn)代精密加工的核心體系。這種技術(shù)體系通過數(shù)字化指令控制機床運動,實現(xiàn)對金屬、塑料等材料的精準切削、鉆孔、銑削等操作,廣泛應(yīng)用于航空航天、汽車制造、模具開發(fā)等高精度需求行業(yè)。
2026-01-04 17:14:05
965 ”。而定義產(chǎn)品的能力,往往來源于對某項核心技術(shù)的掌握與整合。在快速發(fā)展的超聲波切割領(lǐng)域,廣東固特科技憑借其全面的技術(shù)方案,正成為眾多制造企業(yè)轉(zhuǎn)型升級過程中的可靠合作伙
2025-12-26 17:16:22
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根據(jù)中國政府采購網(wǎng)公示,上海微電子裝備(集團)股份有限公司中標 zycgr22011903 采購步進掃描式光刻機項目,設(shè)備數(shù)量為一臺,貨物型號為 SSC800/10,成交金額 1.1 億元
2025-12-26 08:35:00
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近日,立訊精密自主研發(fā)的HDMI 2.2連接器及配套測試治具,正式通過HDMI Forum首批官方認證。公司成為全球首家同時獲得產(chǎn)品端與測試端雙認證的供應(yīng)商,標志著在高速互連領(lǐng)域取得里程碑式突破。
2025-12-24 15:55:28
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電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 在芯片制造領(lǐng)域,光刻膠用光引發(fā)劑長期被美日韓企業(yè)壟斷,成為制約我國半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵“卡脖子”技術(shù)。近日,這一局面被打破——湖北興福電子材料股份有限公司以4626.78萬元
2025-12-17 09:16:27
5950 設(shè)計、DFM前期評估、工程制作、物料準備,制造過程中專線生產(chǎn)和訂單發(fā)貨后的售后服務(wù),充分滿足芯片研發(fā)設(shè)計的周期需要。
部分ATE產(chǎn)品展示
ATE 測試板作為芯片測試的核心載體,其制程精度與性能穩(wěn)定性
2025-12-15 15:09:09
2025年12月6日,芯干線攜自主研發(fā)的 GaN(氮化鎵)核心技術(shù)及產(chǎn)品參展世紀電源網(wǎng)主辦的亞洲電源展,憑借突破性技術(shù)成果與高競爭力產(chǎn)品,成功斬獲 “GaN行業(yè)技術(shù)突破獎”,成為展會核心關(guān)注企業(yè)。
2025-12-13 10:58:20
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在7納米、3納米等先進芯片制造中,光刻機0.1納米級的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐,其作為“隱形功臣”,是保障工藝穩(wěn)定、設(shè)備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機中
2025-12-12 13:02:26
424 光線平行于光軸傳播,實現(xiàn)高精度、無失真成像。本文將解析遠心鏡頭的核心技術(shù)原理,并探討其在實際應(yīng)用中的優(yōu)勢與場景。核心技術(shù)解析基本原理遠心鏡頭的原理基于光學系統(tǒng)的特
2025-12-08 17:25:42
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5G技術(shù)已經(jīng)取得了很大進展,但在某些關(guān)鍵技術(shù)方面仍不夠成熟,如大規(guī)模天線技術(shù)、網(wǎng)絡(luò)切片技術(shù)等,這些技術(shù)的穩(wěn)定性和效率尚未得到充分驗證。
核心器件依賴進口:我國在5G核心器件,如高頻段射頻器件、高端芯片等方面的研發(fā)和生產(chǎn)能力與國際先進水平相比仍有一定差距,導致在關(guān)鍵器件上依賴進口
2025-12-02 06:05:13
在芯片制造這場微觀世界的雕刻盛宴中,光刻膠(PR)如同一位技藝精湛的工匠手中的隱形畫筆,在硅片這片“晶圓畫布”上勾勒出億萬個晶體管組成的復雜電路。然而,這支“畫筆”卻成了中國芯片產(chǎn)業(yè)最難突破的瓶頸之一:
2025-11-29 09:31:00
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一、 核心技術(shù):SDD如何實現(xiàn)卓越性能? SDD?探測器的核心優(yōu)勢源于其獨特的硅漂移結(jié)構(gòu)設(shè)計,其工作原理圍繞高效信號收集與能量分辨展開:在反向偏壓作用下,硅晶片內(nèi)形成特定電場,使入射光子激發(fā)的電子沿
2025-11-25 16:05:47
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當衛(wèi)星天線在軌進行高精度的姿態(tài)調(diào)整,當飛機在復雜空域自主規(guī)避障礙,當醫(yī)療設(shè)備實現(xiàn)高精準的手術(shù)定位——這些尖端裝備的背后,都離不開一個共同的核心技術(shù):MEMS加速度計的超高精度測量。在這個追求極致精度的領(lǐng)域里,精度每提升一個數(shù)量級,都意味著裝備性能的一次質(zhì)的飛躍。
2025-11-18 14:47:13
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接口”主題環(huán)節(jié),上海韶腦傳感技術(shù)有限公司董事長楊幫華分享了《無創(chuàng)腦機接口及其神經(jīng)康復應(yīng)用》主題報告。作為我國第一批腦機接口領(lǐng)域博士,楊幫華教授深耕該領(lǐng)域22年,帶領(lǐng)團隊攻克多項核心技術(shù)難關(guān),成功斬獲上海市首張腦機接口
2025-11-11 14:48:00
3876 在智能制造與高端裝備領(lǐng)域,精度是衡量機械系統(tǒng)性能的核心指標。
2025-11-03 17:46:22
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電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 近日,上海交通大學電子信息與電氣工程學院劉景全教授團隊在可植入式腦機接口(BCI)核心器件研發(fā)領(lǐng)域取得重大突破。該團隊成功開發(fā)出一種基于陽極鍵合技術(shù)的高效MEMS微電極陣列
2025-11-02 11:58:26
2866 UPS電源的核心技術(shù)圍繞電力轉(zhuǎn)換與穩(wěn)定控制展開,涵蓋整流、逆變、儲能管理、切換控制四大核心模塊,其技術(shù)原理與分類如下:一、核心模塊與技術(shù)原理整流器(AC/DC轉(zhuǎn)換)功能:將市電交流電轉(zhuǎn)換為直流電,為
2025-11-01 08:56:46
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在現(xiàn)代制造業(yè)和工業(yè)檢測領(lǐng)域,質(zhì)量控制和安全保障成為首要任務(wù)。許多企業(yè)面臨產(chǎn)品缺陷難以發(fā)現(xiàn)、檢測成本高以及檢測效率低的問題。隨著技術(shù)的不斷進步,Xray無損檢測以其精準、高效、無破壞的檢驗特性,成為
2025-10-30 11:45:31
315 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/吳子鵬)近日,大連理工大學科研團隊研發(fā)的無人機蒙皮超薄一體化集成射頻傳感器完成掛飛測試,95%的信號傳輸效率、50公里視距穩(wěn)定接收的核心數(shù)據(jù),標志著我國在無人機核心感知技術(shù)領(lǐng)域
2025-10-29 09:12:56
6068 分布與纏結(jié)行為,成功研發(fā)出可顯著減少光刻缺陷的產(chǎn)業(yè)化方案。相關(guān)研究成果已刊發(fā)于國際頂級期刊《自然·通訊》,標志著我國在光刻膠關(guān)鍵材料領(lǐng)域取得實質(zhì)性突破。 ? 此次成果對國產(chǎn)芯片制造而言具有里程碑式意義:團隊利用
2025-10-27 09:13:04
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能力及每秒 110 千兆像素的數(shù)據(jù)傳輸速率 ,在滿足日益復雜的封裝工藝對可擴展性、成本效益和精度要求的同時,消除對昂貴掩模技術(shù)的依賴。 ? TI DLP 技術(shù)造就高級封裝領(lǐng)域的無掩模數(shù)字光刻系統(tǒng) 關(guān)鍵所在 無掩模數(shù)字光刻機正廣泛應(yīng)用于高級封裝制造領(lǐng)域,這類光刻機無需光
2025-10-20 09:55:15
887 樹實現(xiàn)O(log n)調(diào)度復雜度,追求整體吞吐量最大化。實時缺陷:內(nèi)核不可搶占、自旋鎖阻塞、中斷屏蔽窗口等因素導致延遲不可預測。2.2 標準內(nèi)核+軟隔離方案核心技術(shù):在標準Linux內(nèi)核基礎(chǔ)上,通過
2025-10-17 17:41:01
近日,深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司(簡稱“穩(wěn)頂聚芯”)宣布,其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進式光刻機已成功出廠,標志著我國在半導體核心裝備領(lǐng)域取得新進展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進式光刻機屬于WS180i
2025-10-10 17:36:33
929 Xfilm埃利測量專注于電阻/方阻及薄膜電阻檢測領(lǐng)域的創(chuàng)新研發(fā)與技術(shù)突破,致力于為全球集成電路和光伏產(chǎn)業(yè)提供高精度、高效率的量檢測解決方案。公司以核心技術(shù)為驅(qū)動,深耕半導體量測裝備及光伏電池電阻檢測
2025-09-29 13:47:40
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在現(xiàn)代社會,安全檢查已成為許多行業(yè)不可或缺的一環(huán),尤其是在機場、車站以及各類大型活動場所。很多人可能會想到:如何提高檢查的準確性和效率?而這正是X-ray檢查機所能提供的解決方案。它的核心技術(shù)
2025-09-23 11:47:32
326 滾珠導軌憑借其低摩擦、高剛性、納米級定位精度等特性,成為光刻機、刻蝕機、貼片機等核心設(shè)備的關(guān)鍵傳動元件,直接決定著芯片良率與生產(chǎn)效率。
2025-09-22 18:02:20
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清華大學在石墨負極儲能領(lǐng)域取得系列突破性進展 ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 在全球能源結(jié)構(gòu)向清潔能源轉(zhuǎn)型的背景下,大規(guī)模電化學儲能技術(shù)成為保障能源供應(yīng)穩(wěn)定性的關(guān)鍵支撐,其中鈉離子電池與鉀離子電池因
2025-09-22 02:34:00
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圖1 肘形圖形為目標圖形,不同方法得到的全息掩模分布、空間像與光刻膠輪廓 近日,中國科學院上海光學精密機械研究所高端光電裝備部李思坤研究員團隊在全息光刻研究方面取得進展。相關(guān)成果以
2025-09-19 09:19:56
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確定 12 英寸集成電路新建項目中光刻機、刻蝕機等核心設(shè)備的防震基座類型與數(shù)量,需遵循 “設(shè)備需求為核心、環(huán)境評估為基礎(chǔ)、合規(guī)性為前提” 的原則,分步驟結(jié)合設(shè)備特性、廠房條件、工藝要求綜合判斷,具體流程與關(guān)鍵考量如下:
2025-09-18 11:24:23
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共聚焦顯微鏡作為微觀檢測領(lǐng)域的核心技術(shù)工具,憑借獨特的“點照明”機制與三維成像能力,突破了傳統(tǒng)寬場顯微鏡成像模糊、對比度低的局限,廣泛應(yīng)用于半導體、鋰電、航天航空等工業(yè)領(lǐng)域。本文光子灣科技將從
2025-09-16 18:05:11
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加工技術(shù),。光刻機是光刻技術(shù)的核心設(shè)備,它的性能直接決定了芯片制造的良率和成本。
光刻技術(shù)的基本原理是利用光的照射將圖形轉(zhuǎn)移到光致抗?jié)釀┍∧ど稀?光刻技術(shù)的關(guān)鍵指標的分辨率。
光刻技術(shù)的難點在于需要
2025-09-15 14:50:58
光譜相機憑借其獨特的核心技術(shù)和廣泛的應(yīng)用場景,成為了農(nóng)業(yè)監(jiān)測、環(huán)境評估、材料分析等領(lǐng)域的重要解決方案。本文將深入解析便攜式高光譜相機的核心技術(shù)和其帶來的諸多應(yīng)用優(yōu)勢,助您更好地理解這一領(lǐng)域的最新發(fā)展。 1. 什么
2025-09-05 15:39:38
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首次腦機接口應(yīng)用于腦深部腫瘤術(shù)中邊界精準定位的臨床試驗,此次試驗成功標志著我國自主研發(fā)的植入式臨床腦機接口技術(shù)實現(xiàn)重要突破。 據(jù)悉此次的臨床試驗中,采用的是中國科學院空天信息創(chuàng)新研究院自主研發(fā)的臨床腦機接口
2025-08-29 15:26:38
548 =隨著遙感技術(shù)和環(huán)境監(jiān)測需求的不斷提升,地物光譜儀在農(nóng)業(yè)、礦產(chǎn)勘探及生態(tài)環(huán)境保護等領(lǐng)域的應(yīng)用愈發(fā)廣泛。市場上不同地物光譜儀廠家憑借各自的核心技術(shù)與服務(wù)優(yōu)勢,形成了激烈競爭格局。您是否也在尋找具備
2025-08-28 09:46:46
432 、技術(shù)預判能力3. 職業(yè)發(fā)展路徑多元化電子技術(shù)從業(yè)者可通過以下方式實現(xiàn)職業(yè)突破:技術(shù)專家路徑:深耕細分領(lǐng)域,如射頻芯片、傳感器等產(chǎn)品經(jīng)理路徑:把握市場需求,主導產(chǎn)品定義創(chuàng)業(yè)創(chuàng)新路徑:依托核心技術(shù)創(chuàng)辦
2025-08-22 15:18:03
近日,中車永濟電機公司依托軌道交通電傳動核心技術(shù)的深厚積淀,通過跨領(lǐng)域技術(shù)融合創(chuàng)新,在石油裝備領(lǐng)域再獲新突破,其自主研發(fā)的500HP-2000HP石油鉆機泥漿泵專用永磁直驅(qū)電動機成功通過防爆認證。
2025-08-19 16:19:28
651 在半導體產(chǎn)業(yè)鏈中,清洗工藝是決定芯片良率與性能的關(guān)鍵前置環(huán)節(jié)。RCA(Radio Corporation of America)槽式清洗機作為該領(lǐng)域的標桿設(shè)備,憑借其獨特的設(shè)計理念和卓越的技術(shù)
2025-08-18 16:45:39
在現(xiàn)代化工業(yè)生產(chǎn)中,尤其是半導體、電子元件、精密光學儀器等高精尖領(lǐng)域,零部件表面的潔凈度直接關(guān)系到產(chǎn)品的性能與可靠性。自動槽式清洗機作為這一領(lǐng)域的核心技術(shù)裝備,正以其高效、精準、穩(wěn)定的清洗能力,引領(lǐng)
2025-08-18 16:40:37
在生產(chǎn)環(huán)境中,Kubernetes集群的安全性直接關(guān)系到企業(yè)數(shù)據(jù)安全和業(yè)務(wù)穩(wěn)定性。本文將從實戰(zhàn)角度,帶你掌握K8s安全加固的核心技術(shù)。
2025-08-18 11:18:49
628 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 隨著集成電路工藝的不斷突破, 當制程節(jié)點持續(xù)向7nm及以下邁進,傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已難以滿足高精度、高密度的制造需求,此時,波長13.5nm的極紫外(EUV)光刻技術(shù)逐漸成為支撐
2025-08-17 00:03:00
4219 澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(EBL)是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備,專為半導體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計。該系統(tǒng)采用先進的場發(fā)射電子槍,結(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng),確保光刻質(zhì)量優(yōu)異且
2025-08-15 15:14:01
澤攸科技ZML10A是一款創(chuàng)新的桌面級無掩膜光刻設(shè)備,專為高效、精準的微納加工需求設(shè)計。該設(shè)備采用高功率、高均勻度的LED光源,并結(jié)合先進的DLP技術(shù),實現(xiàn)了黃光或綠光引導曝光功能,真正做到
2025-08-15 15:11:55
8nm,專攻量子芯片和新型半導體研發(fā)的核心環(huán)節(jié),可通過高能電子束在硅基上手寫電路,無需掩膜版即可靈活修改設(shè)計,其精度已比肩國際主流設(shè)備。 ? 據(jù)介紹,與傳統(tǒng)光刻機相比,電子束光刻機在原型設(shè)計、快速迭代和小批量試制方面具有獨特優(yōu)勢。此前先進電子束光
2025-08-15 10:15:17
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? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道,近日,上海芯上微裝科技股份有限公司(簡稱:芯上微裝,英文簡稱:AMIES)第500臺步進光刻機成功交付,并舉辦了第500臺 步進光刻機 交付儀式。 ? ? 光刻是半導體器件
2025-08-13 09:41:34
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? ? 時隔21年,佳能再開新光刻機工廠 ? 日前,據(jù)《日本經(jīng)濟新聞》報道,佳能在當?shù)匾患椅挥跂心究h宇都宮市的半導體光刻設(shè)備工廠舉行開業(yè)儀式,這也是佳能時隔21年開設(shè)的首家新光刻機廠。佳能宇都宮工廠
2025-08-05 10:23:38
2173 7 月 31 日消息,據(jù)《日經(jīng)新聞》報道,日本相機、打印機、光刻機大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn),主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備,為全球芯片封裝
2025-08-04 17:39:28
712 感謝電子發(fā)燒友提供學習Deepseek核心技術(shù)這本書的機會。
讀完《Deepseek核心技術(shù)揭秘》,我深受觸動,對人工智能領(lǐng)域有了全新的認識。了解Deepseek-R1 、Deepseek-V3
2025-07-22 22:14:08
極紫外光刻(EUVL)技術(shù)作為實現(xiàn)先進工藝制程的關(guān)鍵路徑,在半導體制造領(lǐng)域占據(jù)著舉足輕重的地位。當前,LPP-EUV 光源是極紫外光刻機所采用的主流光源,其工作原理是利用波長為 10.6um 的紅外
2025-07-22 17:20:36
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Flexfilm專注于電阻/方阻及薄膜電阻檢測領(lǐng)域的創(chuàng)新研發(fā)與技術(shù)突破,致力于為全球集成電路和光伏產(chǎn)業(yè)提供高精度、高效率的量檢測解決方案。公司以核心技術(shù)為驅(qū)動,深耕半導體量測裝備及光伏電池電阻檢測
2025-07-22 09:52:23
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) ,鈉離子電池的下一代陰極材料,鈉離子電池技術(shù)取得重大突破。 該公司已為其專有綜合工藝申請臨時專利。 該材料已經(jīng)在公司的電化學和電池研發(fā)設(shè)施中對電池使用進行了優(yōu)化,并取得了可喜的成果,推動了試點規(guī)模制造的下一階段。 “這是一個有趣的故事,像我們這樣的制藥公司是
2025-07-22 09:16:35
487 ” 壓縮方案,在降低計算資源消耗的同時,努力減少精度損失。
這背后反映的是 AI 技術(shù)發(fā)展中一個重要命題:如何在有限硬件條件下,讓模型既跑得快(效率高)又跑得穩(wěn)(精度夠),這種平衡藝術(shù),彰顯了技術(shù)研發(fā)的細膩
2025-07-20 15:07:25
2025RISC-V中國峰會的聚光燈下,賽昉科技亮點紛呈:憑借一系列突破性核心技術(shù)及多領(lǐng)域場景化解決方案,為RISC-V生態(tài)突圍按下加速“快進鍵”。一.領(lǐng)先的RISC-VCPU+NoCIP,牢筑
2025-07-19 17:03:28
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光刻機的成功搬入,意味著產(chǎn)線正式進入設(shè)備安裝調(diào)試階段,距離8月底通線試產(chǎn)、第四季度產(chǎn)能爬坡并交付客戶的既定目標指日可待。這一目標的實現(xiàn),將實現(xiàn)各類MEMS半導體傳感器產(chǎn)品從研發(fā)到量產(chǎn)的無縫銜接,對重慶乃至整個集成電路行業(yè)都具
2025-07-17 16:33:12
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對 DeepSeek 的性能突破形成直觀的認識。同時,介紹 DeepSeek 的 模型家族 ,涵蓋通用語言模型、多模態(tài)模型、代碼生成與理解等領(lǐng)域,展現(xiàn)了 DeepSeek 在大模型的不同細分領(lǐng)域取得的成就。
第2章
2025-07-17 11:59:04
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材,尤其高端材料長期被日美巨頭壟斷,國外企業(yè)對原料和配方高度保密,我國九成以上光刻膠依賴進口。不過近期,國產(chǎn)光刻膠領(lǐng)域捷報頻傳——從KrF
2025-07-13 07:22:00
6083 ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 日前,中國華能宣布,全球單機功率和風輪直徑最大的直驅(qū)型漂浮式海上風電機組在福建省福清市下線,單機功率 17 兆瓦,標志著我國在海上風電裝備制造領(lǐng)域取得新的突破。 ? 公開
2025-07-13 07:12:00
3932 引言 在半導體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻圖形線寬變化直接影響器件性能與集成度。精確控制光刻圖形線寬是保障工藝精度的關(guān)鍵。本文將介紹改善光刻圖形線寬變化的方法,并探討白光干涉儀在光刻圖形測量中
2025-06-30 15:24:55
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電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道,日前,ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學組件獨家合作伙伴蔡司,啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發(fā)。這一舉措標志著
2025-06-29 06:39:00
1916 深圳 SMT 作為現(xiàn)代電子制造的核心技術(shù),在過去的發(fā)展中取得了輝煌成就,在未來也將繼續(xù)引領(lǐng)電子制造行業(yè)的發(fā)展潮流,為全球電子產(chǎn)品的創(chuàng)新和升級提供堅實的技術(shù)支撐。而晉力達回流焊設(shè)備也將憑借其卓越的性能和不斷創(chuàng)新的技術(shù),在深圳 SMT 產(chǎn)業(yè)的發(fā)展進程中發(fā)揮更加重要的作用,助力企業(yè)在激烈的市場競爭中脫穎而出。
2025-06-23 14:17:24
1130 在 MEMS(微機電系統(tǒng))制造領(lǐng)域,光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環(huán)節(jié)。光刻 Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機將不同層設(shè)計圖案對準精度的關(guān)鍵指標。光刻 Overlay 指的是芯片制造過程中,前后兩次光刻工藝形成的電路圖案之間的對準精度。
2025-06-18 11:30:49
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一、光刻工藝概述 光刻工藝是半導體制造的核心技術(shù),通過光刻膠在特殊波長光線或者電子束下發(fā)生化學變化,再經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程,將設(shè)計在掩膜上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上,是現(xiàn)代半導體、微電子、信息產(chǎn)業(yè)
2025-06-09 15:51:16
2127 對 DeepSeek 的性能突破形成直觀的認識。同時,介紹 DeepSeek 的 模型家族 ,涵蓋通用語言模型、多模態(tài)模型、代碼生成與理解等領(lǐng)域,展現(xiàn)了 DeepSeek 在大模型的不同細分領(lǐng)域取得的成就
2025-06-09 14:38:28
我國發(fā)展半導體產(chǎn)業(yè)的核心目的,可綜合政策導向、產(chǎn)業(yè)需求及國際競爭態(tài)勢,從以下四個維度進行結(jié)構(gòu)化分析:一、突破關(guān)鍵技術(shù)瓶頸,實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)鏈自主可控1.應(yīng)對外部技術(shù)封鎖美國對華實施光刻機等核心設(shè)備出口管制
2025-06-09 13:27:37
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引言 在半導體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時,精準測量光刻圖形對把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了有力的技術(shù)保障
2025-05-29 09:38:53
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我國發(fā)展氫能船舶是應(yīng)對全球航運脫碳、保障能源安全、推動產(chǎn)業(yè)升級的戰(zhàn)略選擇。AEM技術(shù)憑借低成本、高適配性和快速響應(yīng)能力,有望成為氫能船舶領(lǐng)域的核心技術(shù)路徑。
2025-05-27 17:07:56
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圖1.拼接曝光加工系統(tǒng) 衍射光柵廣泛應(yīng)用于精密測量、激光脈沖壓縮、光譜分析等領(lǐng)域。干涉光刻作為一種無掩膜曝光光刻方法,在衍射光柵加工制造方面具有高效率、高靈活度的優(yōu)勢。但干涉光刻加工的光柵尺寸在
2025-05-22 09:30:59
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云翎智能推出的全國產(chǎn)化執(zhí)法記錄儀,以“北斗+5G+AI”技術(shù)融合為核心,在定位精度、通信穩(wěn)定性、環(huán)境適應(yīng)性、智能化程度及數(shù)據(jù)安全等維度實現(xiàn)突破,成為執(zhí)法巡檢領(lǐng)域自主可控技術(shù)的標桿產(chǎn)品。以下從六大
2025-05-07 10:05:29
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出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機對電子束質(zhì)量的要求。
只有對聚焦電極改進才是最佳選擇,以下介紹該進后的電極工作原理。通過把電子束壓縮到中心線達到縮束的目的,使電子束分布在一條直線
2025-05-07 06:03:45
光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進行掩模版加工制造,在掩膜加工領(lǐng)域或者無掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺,在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10
在軍工電子領(lǐng)域,精工制造不僅關(guān)乎裝備性能的可靠性,更直接關(guān)系到國防安全與戰(zhàn)略威懾力的實現(xiàn)。隨著微電子技術(shù)、材料科學與智能制造的發(fā)展,激光焊錫技術(shù)憑借其高精度、非接觸加工、熱影響區(qū)小等核心優(yōu)勢,正成為軍工電子精密制造的核心工藝之一,尤其在微型化、高密封性、極端環(huán)境適應(yīng)性等場景中展現(xiàn)出不可替代的價值。
2025-04-29 13:47:56
725 近日,株洲中車時代電氣股份有限公司(以下簡稱“中車時代電氣”)自主研發(fā)的IGBT制氫電源設(shè)備累計交付突破100臺,成為國內(nèi)首家達成這一里程碑的裝備制造企業(yè)。這標志著公司在氫能核心裝備領(lǐng)域的技術(shù)實力與市場領(lǐng)導地位得到進一步鞏固,為我國綠色能源轉(zhuǎn)型注入了強勁動力。
2025-04-16 17:45:13
1326 ——薄膜制作(Layer)、圖形光刻(Pattern)、刻蝕和摻雜,再到測試封裝,一目了然。 全書共分20章,根據(jù)應(yīng)用于半導體制造的主要技術(shù)分類來安排章節(jié),包括與半導體制造相關(guān)的基礎(chǔ)技術(shù)信息;總體流程圖
2025-04-15 13:52:11
進制程領(lǐng)域,曝光波長逐漸縮短至13.5nm,光刻技術(shù)逐步完善成熟。2024年光刻機市場的規(guī)模為230億美元。2025年光刻機市場的規(guī)模預計為252億美元。 【光刻機的發(fā)展機會主要體現(xiàn)在以下四方面】 一、技術(shù)突破與市場競爭 中科院成功研發(fā)了突破性的固態(tài)深
2025-04-07 09:24:27
1236 。
光刻工藝、刻蝕工藝
在芯片制造過程中,光刻工藝和刻蝕工藝用于在某個半導體材料或介質(zhì)材料層上,按照光掩膜版上的圖形,“刻制”出材料層的圖形。
首先準備好硅片和光掩膜版,然后再硅片表面上通過薄膜工藝生成一
2025-04-02 15:59:44
TSMC,中芯國際SMIC 組成:核心:生產(chǎn)線,服務(wù):技術(shù)部門,生產(chǎn)管理部門,動力站(雙路保障),廢水處理站(環(huán)保,循環(huán)利用)等。生產(chǎn)線主要設(shè)備: 外延爐,薄膜設(shè)備,光刻機,蝕刻機,離子注入機,擴散爐
2025-03-27 16:38:20
在國內(nèi)高端裝備制造領(lǐng)域,有這樣一家領(lǐng)軍企業(yè),在中國船舶集團的堅實支持下,憑借卓越的技術(shù)實力與強大的市場競爭力,于橋梁安全裝備、能源裝備等關(guān)鍵領(lǐng)域熠熠生輝,占據(jù)重要地位。然而,在企業(yè)持續(xù)前行的征程中
2025-03-27 15:53:04
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TB2000已正式通過廠內(nèi)驗證,將于SEMICON 2025展會天準展臺(T0-117)現(xiàn)場正式發(fā)布。 這標志著公司半導體檢測裝備已具備14nm及以下先進制程的規(guī)模化量產(chǎn)檢測能力。這是繼TB1500突破40nm節(jié)點后,天準在高端檢測裝備國產(chǎn)化進程中的又一里程碑。 核心技術(shù)自主研發(fā) TB2000采用全自主研
2025-03-26 14:40:33
683 在科技日新月異的今天,芯片作為數(shù)字時代的“心臟”,其制造過程復雜而精密,涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機這一高端設(shè)備,但實際上,芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝,揭示這些工藝如何協(xié)同工作,共同鑄就了現(xiàn)代芯片的輝煌。
2025-03-24 11:27:42
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億元。
記者近日了解到,目前石墨烯新材料在電力能源領(lǐng)域的研發(fā)應(yīng)用已取得新突破,常溫高導電復合材料具備產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用的基礎(chǔ)。專家及業(yè)內(nèi)人士認為,未來需進一步加強技術(shù)研發(fā)投入和人才儲備,著力打造全產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新的產(chǎn)業(yè)生態(tài)。
2025-03-14 11:31:10
1111 佛山智能裝備技術(shù)研究院(以下簡稱“智能裝備院”)在蛇年伊始迎來了“開門紅”,其機器人動力學研究取得了世界級突破!
2025-02-20 10:02:56
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? EUV光刻有多強?目前來看,沒有EUV光刻,業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機也是歷史上最復雜、最昂貴的機器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸? EUV光刻技術(shù),存在很多難點。 1.1
2025-02-18 09:31:24
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設(shè)計,需要考慮各種因素,如芯片的性能、功耗、散熱等。
? 精密制造工藝: 從硅片的加工到光刻技術(shù),每一步都要求極高的精度,這要求在納米級的尺寸上精確地蝕刻電路圖案。
? 材料科學: 硅、鍺等半導體材料
2025-02-17 15:43:33
在芯片制造的復雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關(guān)鍵指標。簡單來說,它就像建造摩天大樓
2025-02-17 14:09:25
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,生產(chǎn)設(shè)備對穩(wěn)定性的要求近乎苛刻。光刻機、刻蝕機等設(shè)備在工作時,需保持極高的精度。以極紫外光刻機(EUV)為例,它在進行納米級光刻時,任何微小的位移或變形都可能導致
2025-02-17 09:52:06
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光刻技術(shù)對芯片制造至關(guān)重要,但傳統(tǒng)紫外光刻受衍射限制,摩爾定律面臨挑戰(zhàn)。為突破瓶頸,下一代光刻(NGL)技術(shù)應(yīng)運而生。本文將介紹納米壓印技術(shù)(NIL)的原理、發(fā)展、應(yīng)用及設(shè)備,并探討其在半導體制造中
2025-02-13 10:03:50
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三星電容之所以在全球市場中處于領(lǐng)先地位,主要得益于其在多層陶瓷電容器(MLCC)領(lǐng)域的卓越技術(shù)實力。三星在MLCC電容的核心技術(shù)方面擁有多項創(chuàng)新,這些技術(shù)不僅提升了產(chǎn)品的性能,還確保了其在全球
2025-02-08 15:52:32
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光刻機用納米位移系統(tǒng)設(shè)計
2025-02-06 09:38:03
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半導體設(shè)備光刻機防震基座的安裝涉及多個關(guān)鍵步驟和考慮因素,以確保光刻機的穩(wěn)定運行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先,選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運行,因此選擇的搬運工具如
2025-02-05 16:48:45
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光刻是芯片制造過程中至關(guān)重要的一步,它定義了芯片上的各種微細圖案,并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細介紹,包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻機
2025-01-28 16:36:00
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本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機配置,每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
2025-01-20 09:44:18
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本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片光刻機和面板光刻機。面板光刻機的工作原理和芯片光刻機相似
2025-01-16 09:29:45
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2024年3D打印技術(shù)領(lǐng)域在新材料、新工藝和新應(yīng)用方面繼續(xù)取得突破,并呈現(xiàn)出多樣的發(fā)展態(tài)勢。工藝方面,行業(yè)更加關(guān)注極限制造能力,從2023年的無支撐3D打印到2024年的點熔化、鍛打印、光束整形、多
2025-01-13 18:11:18
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泊蘇 Type C 系列防震基座在半導體光刻加工電子束光刻設(shè)備的應(yīng)用案例-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司一、企業(yè)背景與光刻加工電子束光刻設(shè)備挑戰(zhàn)某大型半導體制造企業(yè)專注于高端芯片的研發(fā)與生產(chǎn)
2025-01-07 15:13:21
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高,能夠達到
2025-01-07 10:02:30
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