荷蘭造價上億的龐大機器到位并組裝好后，并不意味著EUV光刻機的生產工作完全準備就緒。隨著先進工藝晶圓制造中圖案化策略和分辨率重視程度的攀升，為了滿足這些需求，與EUV光刻技術相關的材料同樣需要納入考量，尤其是光刻膠和防護膜。 ? EUV光
2022-07-22 07:49:00
3666 6月23日下午，富士康科技集團與江蘇昆山簽約“全面深化戰略合作協議”，約定將在昆山追加投資建設一攬子項目，計劃投資250億元，首期投資超80億元。昆山官方稱，這標志著昆山與富士康的合作發展又站在了新的起點。
2017-06-26 10:10:151484 光刻膠為何要謀求國產替代？中國國產光刻膠企業的市場發展機會和挑戰如何？光刻膠企業發展要具備哪些核心競爭力？在南京半導體大會期間，徐州博康公司董事長傅志偉和研發總監潘新剛給我們帶來前沿觀點和獨家分析。
2022-08-29 15:02:238662 
光刻膠類型及特性光刻膠（Photoresist），又稱光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:337845 
，增幅11.11%。 ? 截圖自企查查 ? 光刻膠是芯片制造中光刻環節的重要材料，目前主要被日美把控，國內在光刻膠方面投入研制的廠商主要晶瑞股份、南大光電、上海新陽、徐州博康、北京科華等，那么華為投資的徐州博康在光刻膠方面有何優勢，國內廠商在光
2021-08-12 07:49:006896 膠領域進行激烈競爭的時候，中國國產光刻膠企業在國內晶圓廠布局的成熟制程領域，展開了新產品上市和量產的爭奪戰。 ? 南大光電最新消息顯示，國產193nm（ArF）光刻膠研發成功，這家公司成為通過國家“02專項”驗收的ArF光刻膠項目實施主體；徐州博康宣布，該
2022-08-31 07:45:004234 根據中國政府采購網公示，上海微電子裝備（集團）股份有限公司中標 zycgr22011903 采購步進掃描式光刻機項目，設備數量為一臺，貨物型號為 SSC800/10，成交金額 1.1 億
2025-12-26 08:35:004294 
翁壽松(無錫市羅特電子有限公司，江蘇無錫214001)1 32 nm/22 nm工藝進展2006年1月英特爾推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特爾將投資90億美元在以下4座
2019-07-01 07:22:23
有人知道 為什么光刻完事 剝離那么容易脫落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40:30
本帖最后由 iweimo 于 2014-10-20 15:07 編輯
先分享光刻的參考資料。============================2014-10-17========光刻分類
2014-09-26 10:35:02
光刻圖形轉化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導體通用格式的圖紙轉換成如bmp或者tiff格式進行掩模版加工制造，在掩膜加工領域或者無掩膜光刻領域不可或缺，在業內也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10
一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類型：正性光刻和負性光刻，區別如下
2021-01-12 10:17:47
隨著半導體技術的發展，光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數量級（從毫米級到亞微米級），已從常規光學技術發展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
是0.33，大家可能還記得之前有過一個新聞，就是ASML投入20億美元入股卡爾·蔡司公司，雙方將合作研發新的EUV光刻機，許多人不知道EUV光刻機跟蔡司有什么關系，現在應該明白了，ASML跟蔡司合作
2020-07-07 14:22:55
芯片制造流程其實是多道工序將各種特性的材料打磨成形，經循環往復百次后，在晶圓上“刻”出各種電子特性的區域，最后形成數十億個晶體管并被組合成電子元件。那光刻，整個流程中的一個重要步驟，其實并沒有
2020-09-02 17:38:07
SU-8光刻膠 SU-8光刻膠克服了普通光刻膠采用UV光刻深寬比不足的問題，在近紫外光（365nm-400nm）范圍內光吸收度很低，且整個光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側壁和高深寬比
2018-07-12 11:57:08
的耐蝕刻薄膜材料，經曝光和顯影而使溶解度增加的是正性光刻膠，反之為負性光刻膠。光刻膠的分類及其特點見表1。 隨著IC特征尺寸亞微米、深亞微米方向快速發展，現有的光刻機和光刻膠已無法適應新的光刻工藝要求
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
這是我的版圖一部分，然后生成了圖案是這樣的： 感覺間距小的地方全都有殘留，間距大的地方沒有殘留；工藝參數：s9920光刻膠， evg 620‘未進行蒸汽底漆層涂覆，前烘：100攝氏度，90s
2016-11-29 14:59:18
電介質和濾波應用的旋涂材料 PC3 系列 產品可用于平坦化，臨時行粘接層和保護涂層。 BDC1/PDC1/ZPDC1 系列 產品可作為高效參雜層，代替昂貴的CVD參雜工序。 RD6系列 光刻膠顯影液，可用
2010-04-21 10:57:46
SU 8光刻膠系列產品簡介：新型的化學增幅型負像 SU- 8 膠是一種負性、環氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導致的深寬比不足的問題，十分適合于制備高深寬比微結構。SU- 8
2018-07-04 14:42:34
三種常見的光刻技術方法根據暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻技術。 ◆投影式暴光是利用透鏡或反射鏡將掩膜版上的圖形投影到襯底上的暴光方法.在這種暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
半導體光刻蝕工藝
2021-02-05 09:41:23
中國科學院大學（以下簡稱國科大）微電子學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院，國科大微電子學院開設的《集成電路先進光刻技術與版圖設計優化》課程是國內少有的研究討論光刻技術的研究生課程，而開設課程
2021-10-14 09:58:07
本人是菜鳥 需要在玻璃上光刻普通的差值電極 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻膠是AZ5214E 正膠 同樣的工藝和參數在玻璃上附著力差了很多 懇請哪位高人指點一下PS 插值電極的距離為25微米 小女子這廂謝過了
2010-12-02 20:40:41
更高的亮度。 激光刻劃的優勢 - 可以干凈整齊的刻劃硬脆性材料 - 非接觸式工藝低運營成本 - 減少崩邊、微裂紋、分層等缺陷的出現 - 刻劃線條窄提高了單片晶圓上的分粒數量 - 減少微裂紋
2011-12-01 11:48:46
151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機作為集成電路制造中最關鍵的設備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽為“超精密制造技術皇冠上的明珠”，根據之前中芯國際的公報，目...
2021-07-29 09:36:46
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統）等微細結構。光刻機是一種光學投影技術，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
據Pixelligent Technologies LLC表示，該公司開發出一種據稱可提高現有光刻設備分辨率的納米晶（nanocrystalline）材料，使光學光刻（Optical lithography）可擴展至32納米以下。
2009-06-07 18:31:181781 澤攸科技ZEL304G電子束光刻機（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設備，專為半導體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設計。該系統采用先進的場發射電子槍，結合一體化的高速圖形發生系統，確保光刻質量優異且
2025-08-15 15:14:01
投資5億多元動力鋰離子電池生產與研發項目落戶蘭考
昨日，投資5.2億
2010-01-04 09:27:511009 隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小，光刻技術和光刻設備發生著顯著變化。通過對目前國內外光刻設備生產廠商對下一代光刻技術的開發及目前已經應用到先進生產線上
2011-10-31 16:38:17
70 經過十年的自主創新，上海光刻設備工程技術躋身世界一流，成功打破國際壟斷。7日，上海舉辦光刻機十年成果匯報暨上海微電子裝備有限公司十年回顧活動。
2012-04-09 09:02:241427 本文主要介紹集成電路加工-光刻技術與光刻膠。集成電路加工主要設備和材料：光刻設備，半導體材料：單晶硅等，掩膜，化學品：光刻膠（光致抗蝕劑），超高純試劑，封裝材料及光刻機的介紹
2017-09-29 16:59:0218 光刻機是芯片制造中光刻環節的核心設備， 技術含量、價值含量極高。 光刻機涉及系統集成、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環境控制等多項先進技術，是所有半導體制造設備中技術含量最高的設備，因此也具備極高的單臺價值量。
2018-04-10 10:19:4737625 光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得
2018-04-17 16:07:4135720 荷蘭ASML光刻機掌握著世界做高端的工藝，半導體行業都離不開他，ASML光刻機的售價也是相當之高的。據傳，中芯國際1.2億美元向ASML預訂一套光刻設備，欲開發14納米工藝，縮小與競爭對手的差距。
2018-05-16 14:56:542178 近日，首屆進博會上，由美國恩創公司投資的“原子層沉積技術產業園項目”，作為江蘇省五個重大項目之一亮相。該項目總投資90億元，將落戶在南京經濟技術開發區，主要從事原子層沉積（ALD）技術的研究與應用、大型粉末ALD精密設備的生產銷售以及鋰電池正極材料加工等業務。
2018-11-13 10:43:061216 11月13號，捷威動力電池項目在嘉興正式簽約，項目總投資約108億元，計劃建設產能20GWh的動力電池生產基地，其中一期產能規劃6GWh，包括研發中心、生產基地一期等基礎建設，投資近50億元。
2018-11-15 15:24:344576 南報網報道，近日，總投資10億元、其中外資到賬不低于1億美元的海外項目——“SMCD”項目正式落戶中國（南京）軟件谷。
2019-04-02 16:36:217555 2018年，南大光電和上海新陽先后宣布，投入ArF光刻膠產品的開發與產業化，立志打破集成電路制造最為關鍵的基礎材料之一——高檔光刻膠材料幾乎完全依賴于進口的局面，填補國內高端光刻膠材料產品的空白。
2019-05-21 09:24:247863 
近日，沃衍資本攜手江蘇盛世投資、紫荊資本、深圳市投控通產新材料創業投資企業、四川潤資、北京高盟新材料等投資機構完成了對國內光刻膠領頭企業—北京科華微電子材料有限公司1.7億元的投資。
2019-06-29 10:37:4629489 7月16日，上海兄弟微泛半導體超高純設備集成項目正式簽約落戶海寧科技綠洲。
2019-07-17 16:33:344068 光刻膠概念股南大光電10月23日公告，擬投資新建光刻膠材料以及配套原材料項目。
2019-10-24 16:47:213744 11月25日，市場研究公司總裁羅伯特·卡斯特拉諾（Robert Castellano）表示：“過去三年來，應用材料一直在晶圓制造前段工序（WFE）的設備市場上失去市場份額，而 ASML卻將憑借其價格高昂的EUV光刻設備大批出貨實現超越，取代應用材料成為最大的半導體設備公司。”
2019-11-26 15:06:442524 近日，上海新陽在投資者互動平臺上表示，公司用于KRF248nm光刻膠配套的光刻機已完成廠內安裝開始調試，ARF193nm光刻膠配套的光刻機預計12月底到貨。
2019-12-04 15:24:458657 光刻機是芯片制造最為重要的設備之一。目前，ASML壟斷了全世界的高端光刻機。中國一直以來都想掌握光刻機技術，但是上海微電子經過17年的努力，才造出90nm的光刻機，這已經十分不容易了，這可是0的突破。那么為什么光刻機這么難造呢？
2020-01-29 11:07:008876 通過了《關于投資實施國家“02專項”ArF光刻膠產品的開發與產業化項目的議案》和《關于使用部分超募資金投資“ArF光刻膠產品的開發與產業化”項目的議案》。
2019-12-16 11:17:576730 今年7月17日，南大光電在互動平臺透露，公司設立光刻膠事業部，并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”，全力推進“ArF光刻膠開發和產業化項目”落地實施。目前該項目完成的研發技術正在等待驗收中，預計2019年底建成一條光刻膠生產線，項目產業化基地建設順利。
2019-12-16 13:58:528273 經常聽說，高端光刻機不僅昂貴而且還都是國外的，那么什么是光刻機呢？上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程，今天我們就來聊聊什么是光刻～
2020-01-24 16:47:009060 光刻機技術壁壘高且投資占比大，芯片尺寸的縮小以及性能的提升依賴于光刻技術的發展。
2020-02-21 20:47:114175 經常聽說，高端光刻機不僅昂貴而且還都是國外的，那么什么是光刻機呢？上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程，今天我們就來聊聊什么是光刻～
2020-03-15 14:46:00229670 光刻機是芯片制造的核心設備之一，作為目前世界上最復雜的精密設備之一，其實光刻機除了能用于生產芯片之外，還有用于封裝的光刻機，或者是用于LED制造領域的投影光刻機。目前，我國高端的光刻機，基本上是從荷蘭ASML進口的。
2020-03-18 11:12:0247310 近日，埃眸科技與常熟高新區正式簽署項目協議，打造納米壓印光刻機生產線。
2020-04-13 16:18:059002 對于公司兩臺光刻機何時到位，上海新陽稱，公司購買的ArF光刻機準備運輸中，時間尚不能確定。I線光刻機已完成招投標，在進行采購中。
2020-06-23 16:30:402415 開發行股票計劃募集資金總額不超過人民幣 120,000.00萬元，扣除發行費用后的募集資金凈額擬投入以下項目。其中，有8.5億元將會投入到新一代電子信息材料國產化項目-光刻膠及光刻膠配套試劑研發當中。 雅克科技于2010年在深交所中小企業板上市，主
2020-09-24 10:32:016129 
9月16日，安徽馬鞍山當涂縣9月份項目集中簽約、集中開工儀式在姑孰工業集中區舉行。 本次集中簽約8個項目，其中包括斯坦得LDI感光干膜及半導體光刻膠項目。該項目總投資15億元，分2期建設。其中，一期
2020-09-24 11:12:054086 考慮到光刻工藝步驟中的光刻膠、光刻氣體、光罩（光掩膜板）、涂膠顯影設備等諸多配套設施和材料投資，實則整個光刻工藝占到了芯片成本的三分之一左右。
2020-10-09 15:40:112916 全球光刻膠市場規模從2016 年的15 億美元增長至2019年的18億美元，年復合增長率達6.3%；應用方面，光刻膠主要應用在PCB、半導體及LCD顯示等領域，各占約25%市場份額。 國內光刻膠整體
2020-10-10 17:40:253534 荷蘭阿斯麥（ASML）公司的光刻機作為世界上最貴最精密的儀器，相信大家都有耳聞，它是加工芯片的設備。其最先進的EUV（極紫外光）光刻機已經能夠制造7nm以下制程的芯片，據說一套最先進的7納米EUV
2020-10-15 09:20:055352 ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產的設備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元，折合人民幣高達11.74億
2020-10-19 12:02:4910752 
對公司光刻膠業務的具體影響等問題。 10月12日，晶瑞股份發布關于深圳證券交易所關注函的回復公告稱，本次擬購買的光刻機設備將用于公司集成電路制造用高端光刻膠研發項目，將有助于公司將光刻膠產品序列實現到ArF光刻膠的跨越，并最終實
2020-10-21 10:32:105003 近兩年來，芯片制造成為了半導體行業發展的焦點。芯片制造離不開光刻機，而光刻技術則是光刻機發展的重要推動力。在過去數十載的發展中，光刻技術也衍生了多個分支，除了光刻機外，還包括光源、光學元件、光刻膠等材料設備，也形成了極高的技術壁壘和錯綜復雜的產業版圖。
2020-11-27 16:03:3621975 化咨詢預計，2020年全球半導體光刻膠市場規模預計超過21億美元，光刻過程中用到的材料（光刻膠、光刻膠輔材、光罩）約為晶圓制造材料市場的26%。
目前，國內90-14nm半導體制程的高端半導體芯片
2020-12-29 15:41:443108 在光刻機領域一家獨大的荷蘭光刻機巨頭ASML，占據著芯片行業的頂端，畢竟沒有了他們的設備，想要造出先進工藝制程的芯片是沒戲的。 財報披露，ASML2020年全年凈銷售額140億歐元，毛利率為48.6
2021-01-22 10:38:165843 
據馬鞍山發布，安徽馬鞍山慈湖高新區舉辦通信通訊產業重點項目集中簽約儀式。其中，簽約的部分項目包括：蘇州世名光刻膠納米材料產業園項目，由世名科技投資，從事先進光敏材料及光刻膠納米顏料分散液研發
2021-02-24 16:25:063276 中芯國際的芯片工藝目前已發展至14nm，若想將芯片工藝進一步提升至7nm乃至3nm等先進制程，EUV光刻機設備就必不可少。那么，中芯國際此次12億美元的采購協議都有哪些類型的光刻機，包含EUV光刻機嗎？
2021-03-10 14:36:5511344 上海新陽表示，公司采購的ASML干法光刻機設備順利交付，對加快193nmArF干法光刻膠產品開發進度有積極影響，有利于進一步提升公司光刻膠產品的核心競爭力，加快落實公司發展戰略，提高公司抗風險能力和可持續發展能力。
2021-03-10 17:13:003205 4月21日，新宙邦公告稱，控股孫公司江蘇瀚康擬與瀚邦聚能設立合資公司瀚康電子材料，在江蘇淮安投資12億元建設年產5.9萬噸鋰電添加劑項目。 其中一期投資約6.6億元，2年后達產，將建成年產2.93
2021-04-25 10:10:036360 5月27日，半導體光刻膠概念股開盤即走強，截至收盤，A股光刻膠板塊漲幅達6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停，容大感光大漲13.28%，揚帆新材大漲11.37%，南大光電
2021-05-28 10:34:154020 不會有我們現在的手機、電腦了。 光刻機是用于芯片制造的核心設備，按照用途可以分為用于生產芯片的光刻機、用于封裝的光刻機和用于LED制造領域的投影光刻機。 光刻機的核心原理就是一個透鏡組，在精度上首先咱們有個概念：我們現在芯片的
2021-07-07 14:31:18130297 最近光博會上看到一本關于光刻的小冊子，里面有一點內容，分享給大家。 關于光刻的原理、光刻設備、光刻膠的種類和選擇等。 開篇 光刻的原理 表面處理：一般的晶圓光刻前都需要清潔干凈，特別是有有機物
2021-10-13 10:59:425701 
光刻膠是光刻機研發的重要材料，換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕跡，就需要網硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0015756 光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前有用于生產的光刻機，有用于LED制造領域的光刻機，還有用于封裝的光刻機。光刻機是采用類似照片沖印的技術，然后把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0090746 光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機。
2022-07-06 11:03:078348 ASML的極紫外光刻機（EUV），這個是當前世界頂級的光刻機設備。 在芯片加工的時候，光刻機是用一系列光源能量和形狀控制手段，通過帶有電路圖的掩模傳輸光束。 光刻設備涉及系統集成、精密光學、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環境控制等多項先
2022-07-10 11:17:4253101 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術，EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1087067 euv光刻機原理是什么 芯片生產的工具就是紫外光刻機，是大規模集成電路生產的核心設備，對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產。那么euv光刻機原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1018347 與此同時，在ASML看來，下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰，更少的隨機效應、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統的正膠和負膠肯定是沒法用了，DUV光刻機上常用的化學放大光刻膠（CAR）也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現瓶頸
2022-07-22 10:40:083923 首先光刻膠成分復雜，一瓶光刻膠需要光引發劑、光增感劑、光致產酸劑、樹脂、稀釋劑、溶劑、助劑這些材料組成，而且配方都是保密的。
2022-07-25 16:27:575200 南大光電最新消息顯示，國產193nm（ArF）光刻膠研發成功，這家公司成為通過國家“02專項”驗收的ArF光刻膠項目實施主體；徐州博康宣布，該公司已開發出數十種高端光刻膠產品系列，包括
2022-08-31 09:47:142371 光刻膠的組成：樹脂（resin/polymer），光刻膠中不同材料的粘合劑，給與光刻膠的機械與化學性質（如粘附性、膠膜厚度、熱穩定性等）；感光劑，感光劑對光能發生光化學反應；溶劑（Solvent
2022-10-21 16:40:0423796 湖州國資消息，寧波微芯新材料科技有限公司的半導體材料生產基地項目總投資3.5億元人民幣，用地35畝，年產1000噸的電子級光刻膠原材料（光刻膠樹脂、高等級單體等核心材料）基地建設。”全部達到，預計年產值可達到約5億元。
2023-08-21 11:18:262538 光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得的分辨率直接相關，而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:151810 
第六屆進博會于近日在上海國家會展中心正式收官，ASML2023進博之旅也圓滿落幕! 今年，ASML繼續以“光刻未來，攜手同行”為主題，攜全景光刻解決方案驚艷亮相，還創新性地帶來了“芯”意滿滿的沉浸式
2023-11-11 15:23:531746 
光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:112940 
據吳中發布的最新消息，簽約項目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項目，該項投資高達15億元，旨在新建半導體光刻膠及其配套試劑的生產基地。
2024-01-26 09:18:431197 光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:189618 康達新材表示，為了貫徹其“新材料+電子科技”戰略，優化旗下彩晶光電產品構成，填補內地資源空缺，推進國產化進程，解決半導體光刻膠核心材料受限問題，打破國際技術和市場壟斷
2024-04-16 09:44:361668 市場對需要EUV光刻系統的先進芯片的需求不斷增長，東京應化、信越化學、三菱化學等日本公司正在增加投資并關注EUV關鍵技術所用材料的供應。 東京應化（TOK）正在福島縣建造一座全新的先進光刻膠工廠，該工廠預計將于2024年底開工，2026年完工。
2024-07-16 18:27:02816 光刻掩膜（也稱為光罩）和模具在微納加工技術中都起著重要的作用，但它們的功能和應用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微納加工技術中常用的光刻工藝所使用的圖形母版。它由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成
2024-10-14 14:42:031183 光刻膠是半導體制造等領域的一種重要材料，在整個電子元器件加工產業有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中，感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關鍵性能，增感劑有助于提高
2024-12-19 13:57:362091 機和光刻膠： ? 光掩膜：如同芯片的藍圖，上面印有每一層結構的圖案。 ? ? ?光刻機：像一把精確的畫筆，能夠引導光線在光刻膠上刻畫出圖案。 ? 光刻膠：一種特殊的感光材料，通過光刻過程在光刻膠上形成圖案，進而構建出三維結構。
2025-01-28 16:36:003594 
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類，光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片光刻機和面板光刻機。面板光刻機的工作原理和芯片光刻機相似
2025-01-16 09:29:456363 
【2025年光刻機市場的規模預計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一，其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對光刻機的需求持續增長，尤其是在先
2025-04-07 09:24:271241 干涉儀在光刻圖形測量中的應用。 ? 減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法 ? 優化光刻膠材料選擇 ? 選擇與半導體襯底兼容性良好的光刻膠材料，可增強光刻膠與襯底的粘附力，減少剝離時對襯底的損傷風險。例如，針對特定的硅基襯
2025-06-14 09:42:56736 
圖1 肘形圖形為目標圖形，不同方法得到的全息掩模分布、空間像與光刻膠輪廓 近日，中國科學院上海光學精密機械研究所高端光電裝備部李思坤研究員團隊在全息光刻研究方面取得進展。相關成果以
2025-09-19 09:19:56443 
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