国产精品久久久aaaa,日日干夜夜操天天插,亚洲乱熟女香蕉一区二区三区少妇,99精品国产高清一区二区三区,国产成人精品一区二区色戒,久久久国产精品成人免费,亚洲精品毛片久久久久,99久久婷婷国产综合精品电影,国产一区二区三区任你鲁

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

國內光刻膠領頭企業:北京科華微電子材料有限公司獲得1.7億元投資

mvj0_SEMI2025 ? 來源:xx ? 2019-06-29 10:37 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

近日,沃衍資本攜手江蘇盛世投資、紫荊資本、深圳市投控通產新材料創業投資企業、四川潤資、北京高盟新材料等投資機構完成了對國內光刻膠領頭企業—北京科華微電子材料有限公司1.7億元的投資。

北京科華微電子材料有限公司(以下簡稱科華微電子)成立于2004年8月,是集光刻膠研發、生產、檢測、銷售于一體的中外合資企業,也是國內唯一一家擁有高檔光刻膠自主研發及生產實力的國家級高新技術企業。2017年獲得SEMI全球光刻膠企業前十;2018年獲批“光刻膠國家地方聯和工程研究中心” ;并建有北京市發改委命名的“光刻膠北京市工程實驗室”。

科華微電子陳昕總帶領的國際化團隊從事光刻膠行業近三十年,在光刻膠領域具有豐富的實踐經驗和理論經驗,完成了紫外正性光刻膠、集成電路用高分辨G線正膠、I線正膠、KrF-248nm深紫外光刻膠的產線建設和量產出貨,是集先進光刻膠產品研、產、銷為一體的擁有自主知識產權的行業標桿企業,特別是KrF-248nm光刻膠代表了國內目前最先進的光刻膠研發與生產水平。

科華微電子一直以來堅持自主創新,將以客戶需求為導向的研發創新作為公司的核心競爭力,建成了一支國際化研發團隊,在光刻膠成膜樹脂結構、感光材料結構、光刻膠配方及生產工藝控制技術等方面取得了很大的成就,并在高端晶圓加工應用、先進封裝應用、MINI LED、MICRO LED、分立器件應用等領域積累了豐富的系列產品和深厚的技術儲備,是中芯國際、華潤上華、杭州士蘭微、吉林華微電子、三安光電、華燦光電、德豪光電等行業頂尖客戶的穩定合作伙伴。

在設備配置方面,科華微電子也體現出了國內光刻膠企業的領先地位:擁有KrF-248nm光刻膠分析測試及應用測試平臺、I線光刻膠應用實驗室、Hitachi SEM掃描電鏡、TEL涂膠顯影一體機等設備,可以對KrF-248nm光刻膠、G/I線光刻膠等所有產品進行全面的應用檢測評估。值得一提的是,科華微電子是目前國內唯一擁有荷蘭ASML曝光機的光刻膠公司,其最小分辨率可達0.11um。通過與客戶晶圓廠同樣的檢測設備配置,實現了上下游產品檢測的無縫對接。

科華微電子始終將光刻膠國產化事業作為企業的愿景和使命,公司成立至今承接了國家02科技重大專項、國家“163”重大科技項目、國防科工委“十一五”重點科技項目、國家發改委產業化示范工程項目以及北京市科委重點計劃項目、北京市工業促進局工業發展資金項目等國家級、北京市級重大課題,在各級政府的支持下科華微電子不負眾望,實現了G線正膠、I線正膠、KrF-248nm深紫外光刻膠的產業化,加快了半導體事業國產化進程。

談及此次融資,沃衍資本創始合伙人成勇表示:“沃衍資本一直秉持以技術為導向、專注的投資理念,半導體領域是沃衍資本重點投資方向,希望能夠和該領域內真正有技術實力和競爭力的企業合作,助力其快速發展。而科華就是具備技術高度、研發能力、產業化能力的企業,以陳昕總為首的公司團隊多年來一直深耕光刻膠行業,能夠感受到對光刻膠行業深深的熱愛和堅持以及為國貢獻的情懷,同時對整個下游行業、產品線配置、技術研發趨勢等有著很深刻的認識。在國際環境日益復雜化的今天,科華微電子的地位和重要性日益凸顯,是真正實現國家自主知識產權技術、提升國內半導體制造工藝水平實現進口替代的中堅力量,科創板的推出也會為科華微電子提供更好的展現舞臺,沃衍資本希望能夠與其攜手共同走向成功!”

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 集成電路
    +關注

    關注

    5452

    文章

    12572

    瀏覽量

    374554
  • 光刻膠
    +關注

    關注

    10

    文章

    354

    瀏覽量

    31780

原文標題:國內唯一擁有ASML曝光機的光刻膠生產企業,北京科華微電子獲得1.7億元投資

文章出處:【微信號:SEMI2025,微信公眾號:半導體前沿】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    國產光刻膠開啟“鉗形攻勢”

    。作為半導體制造中最關鍵的材料之一,其性能更是直接決定了芯片的線寬、集成度和良率。 ? 《國家集成電路產業投資基金三期規劃》明確將光刻膠等半導體材料列為重點
    的頭像 發表于 01-13 09:06 ?2360次閱讀

    中國打造自己的EUV光刻膠標準!

    電子發燒友網報道(文/黃山明)芯片,一直被譽為 人類智慧、工程協作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設備光刻機就是 雕刻這個結晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機還不夠,還需要光刻膠
    的頭像 發表于 10-28 08:53 ?6641次閱讀

    上海微電子中標 1.1 億元光刻機項目

    根據中國政府采購網公示,上海微電子裝備(集團)股份有限公司中標 zycgr22011903 采購步進掃描式光刻機項目,設備數量為一臺,貨物型號為 SSC800/10,成交金額 1.1 億元
    的頭像 發表于 12-26 08:35 ?4695次閱讀
    上海<b class='flag-5'>微電子</b>中標 1.1 <b class='flag-5'>億元</b><b class='flag-5'>光刻</b>機項目

    比肩進口!我國突破光刻膠“卡脖子”技術

    電子發燒友網綜合報道 在芯片制造領域,光刻膠用光引發劑長期被美日韓企業壟斷,成為制約我國半導體產業發展的關鍵“卡脖子”技術。近日,這一局面被打破——湖北興福電子
    的頭像 發表于 12-17 09:16 ?6459次閱讀

    光刻膠剝離工藝

    光刻膠剝離工藝是半導體制造和微納加工中的關鍵步驟,其核心目標是高效、精準地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結構。以下是該工藝的主要類型及實施要點:濕法剝離技術有機溶劑溶解法原理:使用丙酮、NMP
    的頭像 發表于 09-17 11:01 ?1912次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝

    從光固化到半導體材料:久日新材的光刻膠國產替代之路

    。 從光固化龍頭到半導體材料新銳 久日新材的戰略轉型始于2020年。通過收購大晶信息、大晶新材等企業,強勢切入半導體化學材料賽道。2024年11月,久日新材控股公司年產4500噸
    的頭像 發表于 08-12 16:45 ?2030次閱讀

    國產光刻膠突圍,日企壟斷終松動

    ? 電子發燒友網綜合報道 光刻膠作為芯片制造光刻環節的核心耗材,尤其高端材料長期被日美巨頭壟斷,國外企業對原料和配方高度保密,我國九成以上
    的頭像 發表于 07-13 07:22 ?6859次閱讀

    行業案例|膜厚儀應用測量之光刻膠厚度測量

    光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是一種關鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下,溶解度會發生變化,主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業。由于
    的頭像 發表于 07-11 15:53 ?569次閱讀
    行業案例|膜厚儀應用測量之<b class='flag-5'>光刻膠</b>厚度測量

    魔視智能獲得浙江美大實業股份有限公司投資 完成數億元D輪融資

    2025年6月23日,國內領先的智能駕駛解決方案提供商魔視智能(Motovis)宣布獲得浙江美大實業股份有限公司(股票代碼:002677)的投資,順利完成數
    的頭像 發表于 06-23 16:25 ?1050次閱讀

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    干涉儀在光刻圖形測量中的應用。 ? 減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法 ? 優化光刻膠材料選擇 ? 選擇與半導體襯底兼容性良好的光刻膠
    的頭像 發表于 06-14 09:42 ?891次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠產業國內發展現狀

    ,是指通過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射,溶解度會發生變化的耐蝕刻薄膜材料,是光刻工藝中的關鍵材料。 從芯片生產的工藝流程上來說,
    的頭像 發表于 06-04 13:22 ?1551次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造與微納加工領域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環節的核心材料,其性能優劣直接影響光刻膠去除效果與基片質量。同時,精準測量光刻圖形
    的頭像 發表于 05-29 09:38 ?1348次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    百企行 | 中科微電子科技(蘇州)有限公司

    近日,賽迪2025年“工控中國”百企行調研組前往中科微電子科技(蘇州)有限公司(以下簡稱中科海微)調研,雙方就國產FPGA芯片的行業現狀、技術積累、產業化及產品化成果等方面進行了
    的頭像 發表于 05-26 17:07 ?1438次閱讀
    百企行 | 中科<b class='flag-5'>億</b>海<b class='flag-5'>微電子</b>科技(蘇州)<b class='flag-5'>有限公司</b>

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了
    的頭像 發表于 04-29 13:59 ?9477次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    半導體材料介紹 | 光刻膠及生產工藝重點企業

    光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液
    的頭像 發表于 03-18 13:59 ?4060次閱讀
    半導體<b class='flag-5'>材料</b>介紹 | <b class='flag-5'>光刻膠</b>及生產工藝重點<b class='flag-5'>企業</b>