光刻機技術壁壘高且投資占比大，芯片尺寸的縮小以及性能的提升依賴于光刻技術的發展。光刻設備從光源(從最初的g-Line,i-Line發展到極紫外EUV)、曝光方式(從接觸式到步進式，從干式投影到浸沒式投影)不斷進行著改進。目前光刻機主要可以分為主流IC前道制造光刻機、IC后道先進封裝光刻機、LED/MEMS/PowerDevices制造用光刻機以及面板光刻機。

IC前道光刻機市場需求空間廣闊，光刻機采購節奏反映2020年半導體設備資本支出可觀。光刻機約占晶圓制造設備的27%，產線擴產拉動光刻機市場規模將不斷增加。目前ASML一家獨大，占據超過80%的市場份額，在KrF/ArF/EUV光刻機出貨量份額則超過90%。上海微電子是國內光刻機領軍者，其IC前道光刻機可以實現90nm制程，未來有望逐步實現技術突破。光刻機采購節奏是內資產線資本支出的關鍵信號。內資產線一般會優先采購價值量和技術難度最高的光刻機。內資產線在19Q4至今光刻機合計采購量可觀，預示2020年內資產線資本支出將進一步提升。

利基市場需求提升，國內廠商話語權高。根據Yole，先進封裝、MEMS以及LED光刻機出貨量將持續增長，預計到2020年總需求將超過250臺/年。上微封裝光刻機國內市場占有率高達80%，全球市場占有率達40%。同時公司在LED光刻機領域占有率達到20%左右。

FPD產能向大陸轉移，本土廠商切入FPD光刻機市場。國內FPD產能全球占比持續提升，預計2020年將提高至52%。尼康、佳能基本壟斷了FPD光刻機市場，目前國內廠商上微4.5代TFT投影光刻機已經進入產線，未來將進一步發展6代及6代以產品，切入主流廠商供應。

投資建議。受益于關鍵內資產線擴產拉動以及技術不斷取得新突破，國產設備市場需求將不斷增大。推薦設備龍頭中微公司(688012)及北方華創(002371)。同時上海微電子、芯源微(688037)、盛美半導體(ACMR)、沈陽拓荊、華海清科以及北京屹唐也受益產業發展。

風險提示。設備公司新產品開發及驗證進度不及預期的風險;下游產線資本支出不及預期帶來的風險;中美貿易摩擦的不確定性的風險。