国产精品久久久aaaa,日日干夜夜操天天插,亚洲乱熟女香蕉一区二区三区少妇,99精品国产高清一区二区三区,国产成人精品一区二区色戒,久久久国产精品成人免费,亚洲精品毛片久久久久,99久久婷婷国产综合精品电影,国产一区二区三区任你鲁

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

上海新陽:光刻膠產品處于實驗研發和中試開發階段

集成電路應用雜志 ? 來源:全球半導體觀察 ? 2020-06-23 16:30 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

上海新陽:光刻膠產品處于實驗研發和中試開發階段

近日,上海新陽在2019年度網上業績說明會上表示,公司KrF厚膜光刻膠配套的光刻機一季度已完成安裝調試,目前進入試運行階段。KrF厚膜中試產線在安裝調試建設當中。而公司光刻膠產品還處于實驗室研發和中試開發階段,未來主要服務于國內芯片制造公司。

對于公司兩臺光刻機何時到位,上海新陽稱,公司購買的ArF光刻機準備運輸中,時間尚不能確定。I線光刻機已完成招投標,在進行采購中。

此外,上海新陽還表示,今年會加大光刻膠業務的投入,并且在未來幾年都會對光刻膠技術與產品開發進行較大投入。除光刻膠外,上海新陽將繼續圍繞電子電鍍和電子清洗兩大核心技術,持續研發創新,不斷滿足產業和客戶需求,增強我國半導體關鍵工藝材料與核心技術自主可控能力。

當前,上海新陽主要收入為氟碳涂料業務,2019年涂料業務占營業收入的57%,上海新陽表示,隨著公司對半導體材料的研發和市場開拓投入加大,公司半導體業務將快速增長,涂料業務的收入占比會逐步下降。2020年1季度半導體業務銷售增長28%,受疫情影響涂料業務下降了23%;涂料業務占銷售比重與去年同期比下降了12%。

至于合肥項目的進程,上海新陽則稱,公司在合肥投資設立第二生產基地的項目目前正處于前期準備工作當中,由于受疫情影響進度有所延緩。第二生產基地僅僅生產半導體功能性材料。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 半導體材料
    +關注

    關注

    11

    文章

    577

    瀏覽量

    30852
  • 光刻機
    +關注

    關注

    31

    文章

    1199

    瀏覽量

    48925

原文標題:上海新陽:光刻膠產品處于實驗研發和中試開發階段

文章出處:【微信號:appic-cn,微信公眾號:集成電路應用雜志】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    中國打造自己的EUV光刻膠標準!

    電子發燒友網報道(文/黃山明)芯片,一直被譽為 人類智慧、工程協作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設備光刻機就是 雕刻這個結晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機還不夠,還需要光刻膠、掩膜版以及
    的頭像 發表于 10-28 08:53 ?6650次閱讀

    上海重磅發文:扶持集成電路產業、攻堅裝備與光刻膠!

    未來,上海將加快先導產業戰略引領。支持集成電路企業瞄準裝備、先進工藝、光刻膠材料、3D封裝,實現全產業鏈突破,培育一批具有國際競爭力的龍頭企業。同時深化全棧創新,推動高性能智算芯片加快發展。
    的頭像 發表于 01-16 16:10 ?248次閱讀

    光刻膠剝離工藝

    光刻膠剝離工藝是半導體制造和微納加工中的關鍵步驟,其核心目標是高效、精準地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結構。以下是該工藝的主要類型及實施要點:濕法剝離技術有機溶劑溶解法原理:使用丙酮、NMP
    的頭像 發表于 09-17 11:01 ?1912次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝

    光刻膠旋涂的重要性及厚度監測方法

    在芯片制造領域的光刻工藝中,光刻膠旋涂是不可或缺的基石環節,而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優可測薄膜厚度測量儀AF系列憑借高精度、高速度的特點,為光刻膠厚度監測提供了可靠
    的頭像 發表于 08-22 17:52 ?1779次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>旋涂的重要性及厚度監測方法

    從光固化到半導體材料:久日新材的光刻膠國產替代之路

    。 從光固化龍頭到半導體材料新銳 久日新材的戰略轉型始于2020年。通過收購大晶信息、大晶新材等企業,強勢切入半導體化學材料賽道。2024年11月,久日新材控股公司年產4500噸光刻膠項目進入試生產階段,其中面板光刻膠4000噸
    的頭像 發表于 08-12 16:45 ?2031次閱讀

    國產百噸級KrF光刻膠樹脂產線正式投產

    研發+量產”雙軌并行模式,總產能達萬噸級,是目前國內規模領先的KrF光刻膠生產基地。產線集成了高自動化控制系統,從原料配比到成品檢測的全流程實現智能化管控,不僅大幅提升了生產效率,更確保了產品質量的穩定性。 ?
    的頭像 發表于 08-10 03:26 ?9728次閱讀

    國產光刻膠突圍,日企壟斷終松動

    ? 電子發燒友網綜合報道 光刻膠作為芯片制造光刻環節的核心耗材,尤其高端材料長期被日美巨頭壟斷,國外企業對原料和配方高度保密,我國九成以上光刻膠依賴進口。不過近期,國產光刻膠領域捷報頻
    的頭像 發表于 07-13 07:22 ?6861次閱讀

    行業案例|膜厚儀應用測量之光刻膠厚度測量

    光刻膠生產技術復雜、品種規格多樣,在電子工業集成電路制造中,對其有著極為嚴格的要求,而保證光刻膠產品的厚度便是其中至關重要的一環。 項目需求? 本次項目旨在測量光刻膠厚度,
    的頭像 發表于 07-11 15:53 ?569次閱讀
    行業案例|膜厚儀應用測量之<b class='flag-5'>光刻膠</b>厚度測量

    針對晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關鍵環節,其效果直接影響芯片性能與良率。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
    的頭像 發表于 06-25 10:19 ?1035次閱讀
    針對晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關鍵環節。銅布線在制程中廣泛應用,但傳統光刻膠剝離液易對銅產生腐蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精準測量對確保 ARRAY 制程工藝精度
    的頭像 發表于 06-18 09:56 ?870次閱讀
    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    測量對工藝優化和產品質量控制至關重要。本文將探討低含量 NMF 光刻膠剝離液及其制備方法,并介紹白光干涉儀在光刻圖形測量中的應用。 低含量 NMF 光刻膠剝離液及制備方法 配方組成 低
    的頭像 發表于 06-17 10:01 ?824次閱讀
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液和制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    ? ? 引言 ? 在半導體制造領域,光刻膠剝離工藝是關鍵環節,但其可能對器件性能產生負面影響。同時,光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質量至關重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
    的頭像 發表于 06-14 09:42 ?895次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠產業國內發展現狀

    ,是指通過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射,溶解度會發生變化的耐蝕刻薄膜材料,是光刻工藝中的關鍵材料。 從芯片生產的工藝流程上來說,光刻膠的應用處于芯片設計、制造、封測當中的制造環節,是芯片制造過程里
    的頭像 發表于 06-04 13:22 ?1555次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造與微納加工領域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環節的核心材料,其性能優劣直接影響光刻膠去除效果與基片質量。同時,精準測量光刻圖形對把控工藝質量意義重大,白光干涉儀為此提供了
    的頭像 發表于 05-29 09:38 ?1349次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
    的頭像 發表于 04-29 13:59 ?9487次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性