據麥姆斯咨詢介紹，掩膜版（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微電子制造過程中的圖形轉移工具或母版，是承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的載體。在MEMS加工過程中，光掩模版被定義為在一次曝光中能把圖形轉移到整個硅片中（或另一張光掩模版上）的工具。

掩膜版主要由基板和遮光膜兩個部分組成。

基板分為樹脂基板和玻璃基板。用以制作掩模版的掩膜基板必須內部和兩表面都無缺陷。必須于光刻膠的曝光波長下有高的光學透射率。用來制作掩模版的常見材質有石英玻璃，蘇打玻璃等。

蘇州硅時代的快速制版業務選用進口原材料，并根據客戶不同應用場景合理推薦高性價比光刻版。

根據遮光膜種類的不同，可以分為硬質遮光膜和乳膠。光掩膜按用途分類可分為四種，分別為鉻版（chrome）、干版、液體凸版和菲林。其中，鉻版精度最高，耐用性更好，鉻是最廣泛應用的材料，，它以濺射或蒸發的方式淀積到圓片上。盡管濺射鉻比蒸發鉻的反射性強，但用抗反射膜可以彌補。抗反射膜包含一層薄的（200A）的Cr2O3，從而降低反射率。

鉻版廣泛應用于平板顯示、IC、印刷線路板和精細電子元器件行業；干版、液體凸版和菲林主要用于中低精度LCD行業、PCB及IC載板等行業。

光刻掩膜版的制作流程主要分為以下幾步：

圖形光刻：通過光刻機進行激光光束直寫完成圖形曝光。通過激光作用使需要曝光區域的光刻膠內部發生交聯反應，從而產生性能改變。

顯影：將曝光完成后的掩膜版顯影，以便進行蝕刻。在顯影液的作用下，經過激光曝光區域的光刻膠會溶解，而未曝光區域則會保留并繼續保護鉻膜。

蝕刻：對鉻層進行蝕刻，保留圖形。在蝕刻液的作用下，沒有光刻膠保護的區域會被腐蝕溶解，而有光刻膠保護的區域的鉻膜則會保留。

脫膜：光刻膠的保護功能已經完成，脫膜工序通過脫膜液去除多余光刻膠。

目前高端掩膜版受制于國外，國內市場主要還是中低端掩膜版，國外的掩膜版廠家主要以日本凸版印刷TOPAN、日本大印刷，美國Photronics，日本豪雅HOYA，日本SK電子等，國內掩膜版市場主要被幾家大型制版廠壟斷，分別為超大Foundry、國有大型制版廠兩類，設計公司及中小客戶更多依賴中小型制版廠。

超大Foundry、國有大型制版廠主要服務于大型工廠及規模性設計公司，光刻掩膜版資源緊張，平均制作周期再15~30天，交貨周期較長，價格較高，中小型制版廠主要服務于中小規模設計公司及高校科研院所，制版周期短，質量參差不齊，價格懸殊較大，技術水平差異大。

蘇州硅時代采用標準化制版流程，嚴控質量關，嚴把價格關，讓利中小企業，服務廣大客戶，提供7x24小時技術支持，一對一技術交流，實現快速制版，三天交付。

蘇州硅時代電子科技有限公司簡介

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在MEMS加工（微納加工）、MEMS代工（微納代工）領域，擁有豐富的技術積累和工藝經驗，在掩膜版制作方面積累了豐富的經驗，可提供快速制版，三天交付的專業服務，蘇州硅時代電子科技有限公司作為一家專注于MEMS設計、MEMS加工的高技術公司，擁有豐富的MEMS加工資源，可實現4/6/8寸MEMS芯片設計、代工，以及多種單步工藝代工的完整工藝能力。具備成熟的光刻、刻蝕、鍍膜、封裝、測試等微納加工能力。所使用設備狀況精良，設備能力優異，并可多工藝合作開發，高效評估，高質量實施，全流程收集實驗數據，精細的流程管理以及優質的服務。

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