電子發(fā)燒友網報道（文/莫婷婷）近日，龍圖光罩宣布珠海項目順利投產，公司第三代掩模版PSM產品取得顯著進展。KrF-PSM和ArF-PSM陸續(xù)送往部分客戶進行測試驗證，其中90nm節(jié)點產品已成功完成從研發(fā)到量產的跨越，65nm產品已開始送樣驗證。

掩模版也稱光罩，是集成電路制造過程中的圖形轉移工具或者母板，載著圖形信息和工藝技術信息，廣泛應用于半導體、平板顯示、電路板、觸控屏等領域。掩模版的作用是將承載的電路圖形通過曝光的方式轉移到硅晶圓等基體材料上，從而實現集成電路的批量化生產。

圖源：龍圖光電

長期以來，半導體掩模版市場被美國Photronics、日本Toppan和DNP等國際巨頭主導，本土企業(yè)因起步晚、技術積累薄弱，當前量產能力集中于350nm-130nm中低端制程，130nm以下先進工藝布局不足。根據中國電子協會官網數據，目前中國半導體掩模版的國產化率10%左右，90%需要進口，高端掩模版的國產化率僅約3%。

其中，90nm先進工藝節(jié)點具有戰(zhàn)略意義——它是衡量本土企業(yè)突破技術瓶頸、縮小與國際差距的關鍵指標，對推動我國半導體產業(yè)鏈自主可控具有重要意義。

90nm作為連接成熟制程與先進制程的關鍵節(jié)點，其技術突破不僅有助于填補國內在中高端掩模版領域的空白，提升國產化水平，還能為先進邏輯芯片、高性能模擬芯片及特色工藝（如先進封裝）的發(fā)展提供有力支撐。當前，以龍圖光罩為代表的國內企業(yè)正加速技術追趕，逐步向65nm、40nm乃至更先進節(jié)點邁進，標志著我國掩模版產業(yè)正邁向高端化與自主化的新階段。

當下，龍圖光罩在半導體掩模版領域的工藝水平實現顯著躍升，已從130nm穩(wěn)步進階至65nm，且順利完成40nm工藝節(jié)點的產線配置。其產品覆蓋范圍廣泛，不僅深度融入信號鏈與電源管理集成電路等成熟制程領域，更在功率器件、微機電系統（MEMS）傳感器及先進封裝等特色工藝制程中發(fā)揮重要作用。


龍圖光罩表示，公司更高制程節(jié)點的產品已在某全球領先的晶圓代工廠完成產品流片，在線收集的各項關鍵驗證數據均滿足客戶要求。該節(jié)點驗證通過后，公司將可覆蓋該客戶三分之一以上的產品需求。此外，更高等級的產品亦在進行前期的工藝匹配，預計下半年將開始流片驗證。

隨著產品的流片驗證，龍圖光罩將覆蓋更多客戶。

在產能方面，今年3月，龍圖光罩表示，深圳工廠目前產能利用率穩(wěn)定在較高水平，由于掩模版產品系高度定制化，需根據客戶特定需求生產，因此很難達到理想的滿產狀態(tài)，但現有的產能利用率能夠有效保障客戶訂單的按時交付，同時兼顧產品質量與生產效率的平衡。珠海工廠的年達產產能規(guī)劃為1.8萬片，預計達產產值為5.4億元。

值得關注的是，珠海龍圖IPO募投項目定位為130-65nm制程節(jié)點的半導體掩模版。二期工程公司將規(guī)劃建設更高制程節(jié)點的掩模產品，目前正在進行二期廠房建設并已啟動28nm制程半導體掩模版的規(guī)劃。

依據龍圖光罩針對投資者問詢所作出的答復，可明晰其第三代掩模版PSM產品的研發(fā)推進情況：今年3月，龍圖光罩回復投資者表示：公司初步完成第三代光罩產品的工藝調試和樣品試制，產能釋放具體進度取決于客戶工藝匹配、送樣認證和開始小批量采購的周期。今年4月，龍圖光罩表示，客戶使用PSM樣品流片的Wafer已經成功下線，in line收集的各項驗證數據均滿足客戶要求，產品驗證和導入進度順利，預計年內可正式投產。