藤村：在過去的幾年中，口罩的收入一直在增長。在此之前，口罩收入相當穩定，每年約為30億美元。最近，它們已經超過了40億美元的水平，并且預計還會繼續增長。發光二極管公司認為，這一增長的一部分是由于該行業向EUV的轉變。調查中的一個問題問到參與者：“ COVID將對光掩模市場產生什么業務影響？” 有人認為這可能是消極的，但大多數人認為這不會產生太大影響，或者可能會產生積極的影響。在最近的eBeam計劃中小組成員評論說，前景樂觀的原因可能是由于半導體行業的需求情況。庇護所和在家工作的環境正在為電子和半導體行業創造更多的需求和機會。

SE：極紫外（EUV）光刻技術將如何影響掩模收入？

藤村：總體上，三分之二的調查參與者認為這將產生積極的影響。前往EUV時，口罩的數量減少了。這是因為EUV將整個行業帶回單一模式。具有多個圖案的193nm浸入需要在高級節點處使用更多的掩模。使用EUV，您的掩模較少，但是每個EUV層的掩模成本更高。

SE：幾十年來，IC行業一直遵循摩爾定律，即芯片中的晶體管密度每18到24個月翻一番。按照這種節奏，芯片制造商可以在芯片上封裝更多和較小的晶體管，但是摩爾定律似乎正在放緩。接下來是什么？

藤村：摩爾定律的定義正在改變。不再關注CPU時鐘速度的趨勢。那變化不大。它通過位寬擴展而不是時鐘速度擴展。其中很多與熱性能和其他方面有關。我們有一些理論可以逐步改善。另一方面，如果您查看諸如使用GPU或具有更多CPU內核的大規模并行計算之類的東西，以及如果包括這些東西，則可以多快地訪問內存（或可以訪問多少內存），那么摩爾定律就非常活躍。例如，D2S為半導體制造業提供計算系統，因此我們也是技術的消費者。我們進行大量的超級計算，因此了解計算能力方面的情況對我們很重要。我們看到的是，我們的計算能力正在以與以前大致相同的速度持續提高。但是，作為程序員，我們必須適應如何利用它。并不是您可以使用相同的代碼，它就不會像20年前那樣自動縮放。您必須了解在任何給定時間點，縮放比例如何不同。您必須弄清楚如何利用新一代技術的優勢，然后轉移代碼。因此，這肯定更難。您必須弄清楚如何利用新一代技術的優勢，然后轉移代碼。因此，這肯定更難。您必須弄清楚如何利用新一代技術的優勢，然后轉移代碼。因此，這肯定更難。

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