目的：客戶希望我們用電子束蒸發器在較高的溫度下沉積ITO薄膜，并且薄膜電阻更小時薄膜厚度為100 nm時，薄膜厚度大于100 W/square。

樣品：一個雙面拋光的2英寸藍寶石晶片，以及一個小的單邊拋光硅片。

實驗：

1)樣品清洗:藍寶石晶片，DI漂洗，N2吹干，硅片:丙酮，甲醇超聲浴，DI漂洗，在BHF中浸泡1分鐘，DI再次漂洗，N2吹干。

2) ITO電子束蒸發:

a)將藍寶石晶片和硅片裝入2號電子束的樣品座(上面那個);

b)泵送下腔室，設定加熱器溫度為580℃(實際階段溫度為250℃);

c)設置標稱ITO厚度為150 nm，工裝系數為69.9;

d)待室真空度達到1.94e-6 Torr時，開啟高壓和燈絲電流，然后設置在ITO材料，光束沿縱向和橫向掃描，并使縱向和橫向升高掃描頻率分別為46和27

e)將30sccm O2流進弧度(必須同時打開電壓和電流; 否則，它們就不會亮了壓力為3.51e-4 Torr);

f) 5分鐘后，打開快門，將電流調大，使速率達到~0.5 ?/s。

g)到達目標厚度后，關閉電壓和電流，關閉加熱器(0oC);

h)在關閉氧氣流動前等待20分鐘，然后，放氣室，取樣品(非常小心樣品臺非常熱)

3)薄膜性能測量:

a)硅片上的橢偏儀測量:使用Cauchy模型，在薄膜和襯底之間有天然氧化層(10?) 擬合曲線為:632.8 nm波長處(MSE=50.8) d=1660 ?， n=1.970;

b)在藍寶石晶圓(16點)上進行4探頭電阻測量，平均薄片電阻為27.0543 W/sq。

藍寶石晶圓的光刻 略

用鹽酸濕法蝕刻ITO膜 略

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審核編輯：符乾江