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電子發燒友網>LEDs>LED新聞>冠銓光電第一爐4寸LED外延片成功問世

冠銓光電第一爐4寸LED外延片成功問世

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2023-02-27 11:04:411900

面對Micro LED外延量產難題,愛思強如何破解?

從保障外延品質入手,提升Micro LED生產效率,降低生產成本外,應用更大尺寸的外延也是Micro LED成本考量的關鍵。傳統的LED行業普遍在4,而Micro LED的生產工藝會擴大到6乃至8英,更大的襯底尺寸可以更好控制Micro LED的成本。
2023-05-10 09:50:041644

SiC外延工藝基本介紹

外延層是在晶圓的基礎上,經過外延工藝生長出特定單晶薄膜,襯底晶圓和外延薄膜合稱外延。其中在導電型碳化硅襯底上生長碳化硅外延層制得碳化硅同質外延,可進步制成肖特基二極管、MOSFET、 IGBT 等功率器件,其中應用最多的是4H-SiC 型襯底。
2023-05-31 09:27:098486

辰顯光電成功點亮國內首款P0.5 TFT基無邊框29英Micro-LED拼接屏

近日,成都辰顯光電有限公司(以下簡稱辰顯光電)在成都高新區成功點亮了國內首款P0.5 TFT基無邊框29英Micro-LED拼接屏。該拼接屏采用了25微米LED芯片,由4個14.5英
2023-08-02 11:05:592055

SiC外延測試需要哪些分析

對于摻雜的SiC外延,紅外光譜測量膜厚為通用的行業標準。碳化硅襯底與外延層因摻雜濃度的不同導致兩者具有不同的折射率,因此試樣的反射光譜會出現反映外延層厚度信息的連續干涉條紋。
2023-08-05 10:31:474603

晶能光電首發12英硅襯底InGaN基三基色外延

近日,晶能光電發布12英硅襯底InGaN基紅、綠、藍全系列三基色Micro LED外延技術成果。
2023-09-01 14:07:442195

不合格的碳化硅外延如何再生重利用?

此外,研磨技術的缺點還有統性不高,多加工時對外延的厚度的組合比較苛刻,并且加工效率較低。如果將研磨后的外延再進行CMP處理,則需要較長的時間才能去除掉損傷層。并且由于襯底的厚度不同,外延的厚度也不同,因此每一片外延的減薄要求也不同,整體加工效率較低。
2023-09-27 16:35:432065

中電科南京外延材料產業基地投產,期投資19.3億元

紫金山觀察消息顯示,該項目期投資19.3億元,項目達產后,預估新增年收入25億元,將形成8-12英外延456萬/年,6-8英化合物外延12.6萬/年的生產能力,支撐開展大尺寸硅外延和化合物外延研發以及產業化,擴大在高端功率器件、集成電路等應用領域的競爭優勢。
2023-11-14 15:44:121346

半導體的外延和晶圓的區別?

半導體的外延和晶圓的區別? 半導體的外延和晶圓都是用于制造集成電路的基礎材料,它們之間有些區別和聯系。在下面的文章中,我將詳細解釋這兩者之間的差異和相關信息。 首先,讓我們來了解
2023-11-22 17:21:258105

乾照光電取得多項LED芯片相關專利

近日,乾照光電取得多項LED芯片相關專利,分別是“LED芯片及其制備方法”、“種垂直結構LED芯片”、“LED外延結構“。
2023-12-03 14:11:351939

國星光電成功成功點亮1.84英Micro LED全彩顯示屏

采用國星光電自主研發的巨量轉移技術路線,實現>50多萬顆Micro LED芯片高密度集成,R/G/B三色芯片落位精度<2um,轉移良率>99.9%。此外,國星Micro LED研發平臺未來還可支持12以內基板上芯片多次拼接鍵合。
2023-12-08 10:07:36879

全球首款88英P0.5前維護TFT基Micro-LED拼接屏成功點亮

成都辰顯光電有限公司在2024年1月16日宣布,成功點亮了全球首款88英P0.5 前維護TFT基Micro-LED拼接屏
2024-01-22 11:30:321576

普興電子擬建六低密缺陷碳化硅外延產線

預計該項目投資總額3.5億元人民幣,將引進碳化硅外延設備及輔助設備共計116套。其中包括條具備24萬年產量的6英低密度缺陷碳化硅外延材料產線。
2024-02-29 16:24:011234

聚燦光電宣布擴建Mini/Micro LED芯片研發及制造項目

3月6日,聚燦光電發布公告,宣布擬變更“Mini/Micro LED芯片研發及制造擴建項目”的部分募集資金(共計8億元)用途,用于新項目“年產240萬紅黃光外延、芯片項目”的實施。
2024-03-08 13:58:421890

辰顯光電成功點亮國內首款27英TFT基P0.7 Micro-LED拼接箱體

近日,成都辰顯光電有限公司成功點亮了國內首款27英TFT基P0.7 Micro-LED拼接箱體。
2024-03-18 15:46:411357

麥斯克電子年產360萬8英外延項目封頂

麥斯克電子近日宣布,其年產360萬8英外延的項目已成功封頂。據CEFOC中電四公司透露,該項目的總投資額超過14億元,建設規模宏大,占地建筑面積超過5萬平方米。預計項目建成并投產后,將大幅提升麥斯克電子在硅外延領域的生產能力,年產量將達到360萬8英外延
2024-05-06 14:58:312197

材料認識-硅拋光外延

前言硅片按照產品工藝進行分類,主要可分為硅拋光外延和SOI硅片。上期我們已經介紹SOI硅片,本期關注硅拋光外延。硅拋光硅拋光又稱硅單晶拋光,單晶硅錠經過切割、研磨和拋光處理后得到
2024-06-12 08:09:075146

外延和擴散的區別是什么

外延和擴散都是半導體制造過程中使用的材料。它們的主要區別在于制造過程和應用領域。 制造過程: 外延是通過在單晶硅片上生長層或多層半導體材料來制造的。這個過程通常使用化學氣相沉積(CVD)或
2024-07-12 09:16:522550

ATA-2161高壓放大器基于單端接觸原理的LED外延無損檢測的應用

實驗名稱:基于單端接觸原理的LED外延無損檢測實驗內容:基于單注入模式,使用新型檢測系統獲取LED外延的電學參數與光學參數。研究方向:LED外延檢測測試設備:光譜儀、函數信號發生器
2024-10-25 10:29:541235

8英單片高溫碳化硅外延生長室結構

隨著碳化硅(SiC)材料在電力電子、航空航天、新能源汽車等領域的廣泛應用,高質量、大面積的SiC外延生長技術變得尤為重要。8英SiC晶圓作為當前及未來段時間內的主流尺寸,其外延生長室的結構設計
2024-12-31 15:04:18398

鐘罩式熱壁碳化硅高溫外延生長裝置

、引言 隨著半導體技術的飛速發展,碳化硅(SiC)作為種具有優異物理和化學性質的材料,在電力電子、微波器件、高溫傳感器等領域展現出巨大的應用潛力。高質量、大面積的SiC外延是實現高性能SiC
2025-01-07 15:19:59423

用于半導體外延生長的CVD石墨托盤結構

、引言 在半導體制造業中,外延生長技術扮演著至關重要的角色。化學氣相沉積(CVD)作為種主流的外延生長方法,被廣泛應用于制備高質量的外延。而在CVD外延生長過程中,石墨托盤作為承載和支撐半導體
2025-01-08 15:49:10364

有效抑制SiC外延掉落物缺陷生成的方法

引言 碳化硅(SiC)作為第三代半導體材料,因其出色的物理和化學特性,在功率電子、高頻通信及高溫環境等領域展現出巨大的應用潛力。然而,在SiC外延生長過程中,掉落物缺陷(如顆粒脫落、乳凸等)
2025-02-10 09:35:39401

SiC外延的化學機械清洗方法

引言 碳化硅(SiC)作為種高性能的半導體材料,因其卓越的物理和化學性質,在電力電子、微波器件、高溫傳感器等領域展現出巨大的應用潛力。然而,在SiC外延的制造過程中,表面污染物的存在會嚴重影響
2025-02-11 14:39:46414

【新啟航】碳化硅外延 TTV 厚度與生長工藝參數的關聯性研究

、引言 碳化硅外延作為功率半導體器件的核心材料,其總厚度偏差(TTV)是衡量產品質量的關鍵指標,直接影響器件的性能與可靠性 。外延的 TTV 厚度受多種因素影響,其中生長工藝參數起著決定性
2025-09-18 14:44:40645

上揚軟件中標麥斯克電子8英外延工廠項目

近日,上揚軟件憑借深厚的行業積淀、領先的技術實力以及眾多經市場驗證的成功案例,在激烈的競爭中脫穎而出,成功中標麥斯克電子材料股份有限公司(麥斯克電子)8英外延工廠 CIM 系統實施項目。此次合作
2025-10-14 11:50:46683

強強聯合,共贏未來!捷科技正式與辰顯光電達成戰略合作,共繪Micro-LED產業新藍圖!

11月5日上午,捷科技集團旗下AOC商顯、飛利浦商顯與Micro-LED顯示領域的知名企業——成都辰顯光電有限公司(以下簡稱“辰顯光電”)戰略合作簽約儀式在上海冠捷大廈成功舉行。雙方代表齊聚
2025-11-10 10:58:24382

外延氧化清洗流程介紹

外延氧化清洗流程是半導體制造中的關鍵環節,旨在去除表面污染物并為后續工藝(如氧化層生長)提供潔凈基底。以下是基于行業實踐和技術資料的流程解析:、預處理階段初步清洗目的:去除外延表面的大顆粒塵埃
2025-12-08 11:24:01244

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