Veeco 公司今日宣布和ALLOS Semiconductors （ALLOS）達成了一項戰略舉措，展示了200mm硅基氮化鎵晶圓用于藍/綠光micro-LED的生產。維易科和ALLOS合作將其
2018-02-26 10:24:10
10634 半導體市場的發展。氮化鎵和硅的制造工藝非常相似，12英寸氮化鎵技術發展的一大優勢是可以利用現有的12英寸硅晶圓制造設備。全面規模化量產12英寸氮化鎵生產將有助于氮化鎵
2024-10-25 11:25:362336 
12月30日消息 根據中欣晶圓官方的消息，中欣晶圓12英寸第一枚外延片正式下線，成為國內首家獨立完成12英寸單晶、拋光到外延研發、生產的企業。
2020-12-31 10:57:314702 有市場消息傳出，臺積電正擴大采購買氮化鎵相關半導體設備，6英寸廠內相關產能將翻倍。
2021-02-24 10:01:333687 近日北京賽微電子股份有限公司發布了關于與青州市人民政府簽署《合作協議》的公告。公告中顯示賽微電子擬在青州經濟開發區發起投資10億元分期建設聚能國際6-8英寸硅基氮化鎵功率器件半導體制造項目，總
2021-04-04 08:39:006568 2021年6月5日，英諾賽科（蘇州）半導體有限公司在蘇州汾湖高新區舉辦量產暨研發樓奠基儀式。英諾賽科成立于2015年，是全球領先的硅基氮化鎵IDM企業，致力于8英寸GaN電力電子器件的研發與生產，在
2021-06-08 07:31:007004 電子發燒友網報道（文/梁浩斌）提升芯片產能的最顯著方式，就是擴大晶圓尺寸，就像硅晶圓從6英寸到8英寸再到如今的12英寸。雖然在12英寸之后，繼續擴大晶圓尺寸仍面臨很多問題，不過對于比如碳化硅、氮化鎵
2024-09-23 07:53:007413 
的12英寸單片式碳化硅外延生長設備順利交付瀚天天成。 相較于目前主流的6英寸碳化硅外延晶片及仍處于產業化推進階段的8英寸晶片，12英寸晶片憑借直徑的大幅增加，在相同生產流程下單片可承載的芯片數量顯著提升分別為6英寸晶片的4.4倍和8英寸晶片
2025-12-28 09:55:37809 我國科學家成功在8英寸硅片上制備出了高質量的氧化鎵外延片。我國氧化鎵領域研究連續取得突破日前，西安郵電大學新型半導體器件與材料重點實驗室的陳海峰教授團隊成功在8英寸硅片上制備出了高質量的氧化鎵外延片
2023-03-15 11:09:59
(86) ，因此在正常體溫下，它會在人的手中融化。
又過了65年，氮化鎵首次被人工合成。直到20世紀60年代，制造氮化鎵單晶薄膜的技術才得以出現。作為一種化合物，氮化鎵的熔點超過1600℃，比硅高
2023-06-15 15:50:54
充電器6、AUKEY傲基27W氮化鎵充電器7、AUKEY傲基61W氮化鎵充電器8、AUKEY傲基65W氮化鎵充電器9、AUKEY傲基100W氮化鎵充電器10、amc 65W氮化鎵充電器11、Aohai奧海
2020-03-18 22:34:23
是什么氮化鎵（GaN）是氮和鎵化合物，具體半導體特性，早期應用于發光二極管中，它與常用的硅屬于同一元素周期族，硬度高熔點高穩定性強。氮化鎵材料是研制微電子器件的重要半導體材料，具有寬帶隙、高熱導率等特點，應用在充電器方面，主要是集成氮化鎵MOS管，可適配小型變壓器和高功率器件，充電效率高。二、氮化
2021-09-14 08:35:58
時間。
更加環保：由于裸片尺寸小、制造工藝步驟少和功能集成，氮化鎵功率芯片制造時的二氧化碳排放量，比硅器件的充電器解決方案低10倍。在較高的裝配水平上，基于氮化鎵的充電器，從制造和運輸環節產生的碳足跡，只有硅器件充電器的一半。
2023-06-15 15:32:41
。氮化鎵的性能優勢曾經一度因高成本而被抵消。最近，氮化鎵憑借在硅基氮化鎵技術、供應鏈優化、器件封裝技術以及制造效率方面的突出進步成功脫穎而出，成為大多數射頻應用中可替代砷化鎵和 LDMOS 的最具成本
2017-08-15 17:47:34
)技術成為接替傳統LDMOS技術的首選技術。 與LDMOS相比，硅基氮化鎵的性能優勢已牢固確立——它可提供超過70%的功率效率，將每單位面積的功率提高4到6倍，并且可擴展至高頻率。同時，綜合測試
2018-08-17 09:49:42
。
與硅芯片相比：
1、氮化鎵芯片的功率損耗是硅基芯片的四分之一
2、尺寸為硅芯片的四分之一
3、重量是硅基芯片的四分之一
4、并且比硅基解決方案更便宜
然而，雖然 GaN 似乎是一個更好的選擇，但它
2023-08-21 17:06:18
射頻半導體技術的市場格局近年發生了顯著變化。數十年來，橫向擴散金屬氧化物半導體(LDMOS)技術在商業應用中的射頻半導體市場領域起主導作用。如今，這種平衡發生了轉變，硅基氮化鎵(GaN-on-Si)技術成為接替傳統LDMOS技術的首選技術。
2019-09-02 07:16:34
內的波長標準偏差標準為1.3nm，波長范圍為4nm微米。硅襯底氮化鎵基LED外延片的翹曲度很小，2英寸硅襯底LED大多數在4-5微米左右，6英寸在10微米以下。 2英寸硅襯底大功率LED量產硅4545
2014-01-24 16:08:55
不同，MACOM氮化鎵工藝的襯底采用硅基。硅基氮化鎵器件具備了氮化鎵工藝能量密度高、可靠性高等優點，Wafer可以做的很大，目前在8英寸，未來可以做到10英寸、12英寸，整個晶圓的長度可以拉長至2米
2017-08-29 11:21:41
功率氮化鎵電力電子器件具有更高的工作電壓、更高的開關頻率、更低的導通電阻等優勢，并可與成本極低、技術成熟度極高的硅基半導體集成電路工藝相兼容，在新一代高效率、小尺寸的電力轉換與管理系統、電動機
2018-11-05 09:51:35
本帖最后由 kuailesuixing 于 2018-2-28 11:36 編輯
整合意法半導體的制造規模、供貨安全保障和電涌耐受能力與MACOM的硅上氮化鎵射頻功率技術，瞄準主流消費
2018-02-12 15:11:38
可以做得更大，成長周期更短。MACOM現在已經在用8英寸晶圓生產氮化鎵器件，與很多仍然用4英寸設備生產碳化硅基氮化鎵的廠商不同。MACOM的氮化鎵技術用途廣泛，在雷達、軍事通信、無線和有線寬帶方面都有
2017-09-04 15:02:41
以及能耗成本上的差別。碳化硅基氮化鎵的高昂的成本，極大限制了其在商業基站成為主流應用的前景。相比之下，一個8英寸硅晶圓廠幾周的產能便可滿足 MACOM氮化鎵用于整個射頻和微波行業一年的需求。MACOM
2017-08-30 10:51:37
的射頻器件越來越多，即便集成化仍然很難控制智能手機的成本。這跟功能機時代不同，我們可以將成本做到很低，在全球市場都能夠保證低價。但如果到了5G時代，需要的器件越來越多，價格越來越高。半導體材料硅基氮化鎵
2017-07-18 16:38:20
的設計和集成度，已經被證明可以成為充當下一代功率半導體，其碳足跡比傳統的硅基器件要低10倍。據估計，如果全球采用硅芯片器件的數據中心，都升級為使用氮化鎵功率芯片器件，那全球的數據中心將減少30-40
2023-06-15 15:47:44
的電壓，其漏極漂移區為10-20μm，或大約40-80V/μm。這大大高于硅20V/μm的理論極限。然而，氮化鎵器件目前仍然遠遠低于約300V/μm的禁帶寬度極限，這為未來的優化和改進，留下了巨大的空間
2023-06-15 15:53:16
2寸的芯片，現在已經能制造4寸了。業內普遍認為，要大規模生產功率半導體，至少需要6英寸以上的芯片，因此目前還不能大規模生產。此外，上述用于小型 AC轉換器的氮化鎵功率半導體使用以下的晶片，其最大尺寸為
2023-02-23 15:46:22
eMode硅基氮化鎵技術，創造了專有的AllGaN?工藝設計套件（PDK），以實現集成氮化鎵 FET、氮化鎵驅動器，邏輯和保護功能于單芯片中。該芯片被封裝到行業標準的、低寄生電感、低成本的 5×6mm 或
2023-06-15 14:17:56
氮化鎵南征北戰縱橫半導體市場多年，無論是吊打碳化硅，還是PK砷化鎵。氮化鎵憑借其禁帶寬度大、擊穿電壓高、熱導率大、電子飽和漂移速度高、抗輻射能力強和良好的化學穩定性等優越性質，確立了其在制備寬波譜
2019-07-31 06:53:03
鎵具有更小的晶體管、更短的電流路徑、超低的電阻和電容等優勢，氮化鎵充電器的充電器件運行速度，比傳統硅器件要快 100倍。
更重要的是，氮化鎵相比傳統的硅，可以在更小的器件空間內處理更大的電場，同時提供更快的開關速度。此外，氮化鎵比硅基半導體器件，可以在更高的溫度下工作。
2023-06-15 15:41:16
氮化鎵也處于這一階段，成本將會隨著市場需求量加速、大規模生產、工藝制程革新等，而走向平民化，而最終的市場也將會取代傳統的硅基功率器件。8英寸硅基氮化鎵的商用化量產，可以大幅降低成本。第三代半導體的普及
2019-07-08 04:20:32
傳統的硅組件、碳化硅(Sic)和氮化鎵(GaN)伴隨著第三代半導體電力電子器件的誕生，以碳化硅(Sic)和氮化鎵(GaN)為代表的新型半導體材料走入了我們的視野。SiC和GaN電力電子器件由于本身
2021-09-23 15:02:11
{:11:}手頭有個900V，1600W的開關電源，電壓一直升不上去。到底是哪的問題，查不出來。有哪位大神介紹點斬波升壓這方面的資料。
2013-01-17 09:32:42
功率/高頻射頻晶體管和發光二極管。2010年，第一款增強型氮化鎵晶體管普遍可用，旨在取代硅功率MOSFET。之后隨即推出氮化鎵功率集成電路- 將GaN FET、氮化鎵基驅動電路和電路保護集成為單個器件
2023-06-25 14:17:47
各位大神，目前國內賣銦鎵砷紅外探測器的有不少，知道銦鎵砷等III-V族化合物外延片都是哪些公司生產的嗎，坐等答案
2013-06-04 17:22:07
氮化鎵單晶材料生長難度非常大，蘇州納維的2英寸氮化鎵名列第一。真正的實現了“中國造”的氮化鎵襯底晶片。氮化物半導體的產業發展非常快，同樣也是氮化物半導體產業發展不可或缺的要素。
2018-01-30 13:48:018710 法國阿斯克新城和德國德累斯頓 - 2018 年 2 月 1 日 - 來自電子、微電子及納米技術研究院 （IEMN） 的最新結果顯示，ALLOS 即將推出的適用于 1200 V 器件的硅基氮化鎵外延片產品具有超過 1400 V 的縱向和橫向擊穿電壓。
2018-02-26 10:17:426459 
氮化鎵外延片產品技術。兩家公司最近合作的宗旨是，在為全球范圍內多家杰出的消費類電子產品公司生產外延片的同時，展示ALLOS 200 mm硅基氮化鎵外延片產品技術在Veeco Propel? MOCVD反應器上的可復制性。
2018-11-10 10:18:181790 與傳統的金屬氧化物（LDMOS）半導體相比，硅基氮化鎵的性能優勢十分明顯——提供的有效功率可超過70%，每個單位面積的功率提升了4~6倍數，從而降低整體功耗，并且很重要的是能夠擴展至高頻率應用。同時
2018-11-10 11:29:249761 Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO) 與 ALLOS Semiconductors GmbH 10日宣布取得又一階段的合作成果，雙方共同努力，致力于為Micro LED生產應用提供業內領先的硅基氮化鎵外延片產品技術。
2018-11-15 14:53:494130 近日，北京耐威科技股份有限公司（以下簡稱“耐威科技”）發布公告稱，其控股子公司聚能晶源（青島）半導體材料有限公司（以下簡稱“聚能晶源”）成功研制“8英寸硅基氮化鎵（GaN-on-Si）外延晶圓”，聚
2018-12-20 14:45:207537 耐威科技表示，本次“8 英寸硅基氮化鎵（GaN-on-Si）外延晶圓”的研制成功，使得聚能晶源成為截至目前公司已知全球范圍內領先的可提供具備長時可靠性的 8 英寸 GaN 外延晶圓的生產企業，且在
2018-12-20 15:21:176874 的產品采購、資料下載、技術支持等服務內容均可由世強元件電商支持。 英諾賽科的主要產品包括30V-650V氮化鎵功率器件與5G射頻器件。特別值得一提的是，英諾賽科擁有全球首條8英寸硅基氮化鎵外延與芯片量產生產線，這條產品線的的通線投產，不僅填補了我國第
2019-01-16 18:16:01894 據悉，原先計劃在2019年第二季度開始生產用于硅基傳感器芯片的6英寸外延片的鼎元光電，由于工廠建設延遲，將于2019年第三季度開始試產，并將在2020年量產。
2019-06-26 15:24:021882 司擁有國際先進的德國愛思強MOCVD外延爐及外延表征設備、6英寸化合物半導體芯片生產線、晶圓在片檢測系統、可靠性測試系統和應用開發系統。在電力電子領域，公司已實現6英寸650伏硅基氮化鎵外延片的量產，并發布了比肩世界先進水平的650伏硅基氮化鎵功率器件產品。
2019-08-28 15:00:3317963 威科技從投建8英寸氮化鎵（GaN）外延材料項目到正式投產，僅用了15個月，進展之快，讓業界對這家新晉半導體公司的實力有了新的認識。
2019-09-11 16:33:127850 近日，為了解決晶片尺寸不匹配的問題并應對 microLED 生產產量方面的挑戰，ALLOS 應用其獨特的應變工程技術，展示了 200 mm 硅基氮化鎵 （GaN-on-Si） 外延片的出色一致性和可重復性。此外，公司還報告了其 300 mm 外延片的成功發展藍圖。
2020-04-08 16:53:125033 
近年來，對 GaN 功率和 RF 器件的各種應用越來越多廣泛，GaN 基產品的需求不斷增長，總部位于新加坡的 IGSS GaN Pte Ltd（IGaN）指出其公司積極開發硅 / 碳化硅基氮化鎵外延
2020-10-30 01:16:44915 近日，為了解決晶片尺寸不匹配的問題并應對 microLED 生產產量方面的挑戰，ALLOS 應用其獨特的應變工程技術，展示了 200 mm 硅基氮化鎵 （GaN－on－Si） 外延片的出色一致性和可重復性
2020-12-24 10:20:302566 根據中欣晶圓官方的消息，中欣晶圓12英寸第一枚外延片正式下線，成為國內首家獨立完成12英寸單晶、拋光到外延研發、生產的企業。 官方表示，12月28日杭州中欣晶圓迎來了具有歷史意義的一天：在12英寸
2020-12-31 09:44:145522 目前世界500強正威集團計劃投資53億，在陽邏建設硅基8-12英寸SOI半導體材料項目，投產后將實現年產70萬片8英寸SOI晶圓片和30萬片12英寸SOI晶圓片。
2022-01-23 09:56:331905 兩款900V FET均屬于常閉型器件，通過更低的柵極電荷、更快的切換速度和更小的反向恢復電荷，提供更高的效率，明顯超越傳統硅 (Si) 器件，具有顯著優勢。
2022-09-16 15:42:021628 芯采購設備并開始在8英寸產線實現硅基氮化鎵量產。與傳統GaN-on-SiC等技術路線相比，硅基氮化鎵選用的襯底成本與可及性有顯著優勢，GaN外延生長缺陷也顯著降低。
2022-10-21 15:33:231691 氮化鎵前景怎么樣 氮化鎵產業概述 1、產業地位 隨著半導體化合物持續發展，相較第一代硅基半導體和第二代砷化鎵等半導體，第三代半導體具有高擊穿電場、高熱導率、高電子遷移率、高工作溫度等優點。以SiC
2023-02-03 14:31:181407 氮化鎵是目前全球最快功率開關器件之一，氮化鎵本身是第三代的半導體材料，許多特性都比傳統硅基半導體更強。
2023-02-05 12:48:1527978 氮化鎵外延片生長工藝較為復雜，多采用兩步生長法，需經過高溫烘烤、緩沖層生長、重結晶、退火處理等流程。兩步生長法通過控制溫度，以防止氮化鎵外延片因晶格失配或應力而產生翹曲，為目前全球氮化鎵外延片主流制備方法。
2023-02-05 14:50:007537 硅基氮化鎵技術是一種將氮化鎵器件直接生長在傳統硅基襯底上的制造工藝。在這個過程中，由于氮化鎵薄膜直接生長在硅襯底上，可以利用現有硅基半導體制造基礎設施實現低成本、大批量的氮化鎵器件產品的生產。
2023-02-06 15:47:337273 
硅基氮化鎵作為第三代化合物半導體材料，主要應用于功率器件，憑借更小體積、更高效率對傳統硅材料進行替代。預計中短期內硅基氮 化鎵將在手機快充充電器市場快速滲透，長期在基站、服務器、新能源汽車等諸多場景也將具有一定的增長潛力。
2023-02-06 16:44:274965 硅基氮化鎵是一個正在走向成熟的顛覆性半導體技術，硅基氮化鎵技術是一種將氮化鎵器件直接生長在傳統硅基襯底上的制造工藝。在這個過程中，由于氮化鎵薄膜直接生長在硅襯底上，可以利用現有硅基半導體制造基礎設施實現低成本、大批量的氮化鎵器件產品的生產。
2023-02-06 16:44:264975 
氮化鎵外延片指采用外延方法，使單晶襯底上生長一層或多層氮化鎵薄膜而制成的產品。近年來，在國家政策支持下，我國氮化鎵外延片行業規模不斷擴大。
2023-02-06 17:14:355312 在過去幾年中，氮化鎵（GaN）在半導體技術中顯示出巨大的潛力，適用于各種高功率應用。與硅基半導體器件相比，氮化鎵是一種物理上堅硬且穩定的寬帶隙（WBG）半導體，具有快速的開關速度，更高的擊穿強度和高導熱性。
2023-02-09 18:04:021141 硅基氮化鎵技術是一種將氮化鎵器件直接生長在傳統硅基襯底上的制造工藝。在這個過程中，由于氮化鎵薄膜直接生長在硅襯底上，可以利用現有硅基半導體制造基礎設施實現低成本、大批量的氮化鎵器件產品的生產。
2023-02-10 10:43:342743 
在這種情況下，氮化鎵因其卓越的射頻性能而成為5G mMIMO無線電的領先大功率射頻功率放大器技術。然而，目前的實現方式成本過高。與硅基技術相比，氮化鎵生長在昂貴的III/V族SiC晶圓上，采用昂貴
2023-02-10 10:48:501674 
氮化鎵根據襯底不同可分為硅基氮化鎵和碳化硅基氮化鎵：碳化硅基氮化鎵射頻器件具有高導熱性能和大功率射頻輸出優勢，適用于5G基站、衛星、雷達等領域；硅基氮化鎵功率器件主要應用于電力電子器件領域。雖然
2023-02-10 10:52:524733 
硅基氮化鎵外延生長是在硅片上經過各種氣體反應在硅片上層積幾層氮化鎵外延層，為中間產物。氮化鎵功率器件是把特定電路所需的各種電子組件及線路，縮小并制作在極小面積上的一種電子產品。氮化鎵功率器件制造主要
2023-02-11 11:31:4213770 
硅基氮化鎵是一種具有較大禁帶寬度的半導體，屬于所謂寬禁帶半導體之列。
2023-02-12 13:52:271619 在半導體層面上，硅基氮化鎵的主流商業化為提高射頻性能敞開了大門，其中包括增加功率放大器的功率密度，以及縮小器件尺寸并最終節省系統空間。
2023-02-12 14:00:151261 硅基氮化鎵是第三代半導體化合材料，有著能量密度高、可靠性高的優點，能夠代替很多傳統的硅材料，晶圓可以做得很大，晶圓的長度可以拉長至2米。 硅基氮化鎵器件具有擊穿電壓高、導通電阻低、開關速度快、零
2023-02-12 14:30:283190 硅基氮化鎵作為第三代化合物半導體材料，主要應用于功率器件，可有效縮小功率器件體積，提高功率器件效率，對傳統硅材料功率器 件進行替代。
2023-02-12 17:05:08997 硅上氮化鎵具有廣泛的未來應用，擴展了當前的HEMT功能，將功率水平提高到1kW以上。該技術可幫助設計人員提高工作電壓，并將頻率響應從Ka波段推入E波段、W波段和太赫茲空間。本文由香港科技大學電子及計算機科技系的一組研究人員提出。
2023-02-12 17:20:08735 硅基氮化鎵（GaN-on-silicon）LED始終備受世人的關注。在最近十年的初期，當 Bridgelux（普瑞光電）公司宣布該技術可減低 LED 照明的成本時，它一舉成為了頭條新聞。LED 芯片
2023-02-12 17:28:001623 由于同質外延結構帶來的晶格匹配和熱匹配，自支撐氮化鎵襯底在提升氮化鎵基器件性能方面有著巨大潛力，如發光二極管，激光二極管，功率器件和射頻器件等。相比異質襯底外延， 基于自支撐氮化鎵晶圓片的同質外延可能是大多氮化鎵基器件的絕佳選擇。
2023-02-14 09:18:101513 
氮化鎵外延片是一種由氮化鎵制成的薄片，它可以用于制造電子元件、電子器件和電子零件。氮化鎵外延片具有良好的熱穩定性和電磁屏蔽性，可以用于制造高精度的零件和組件，如電路板、電子控制器、電子模塊、電子接口、電子連接器等。
2023-02-14 14:05:415426 硅基氮化鎵技術是一種新型的氮化鎵外延片技術，它可以提高外延片的熱穩定性和抗拉強度，從而提高外延片的性能。
2023-02-14 14:19:012596 硅基氮化鎵功率器件是一種新型的功率器件，它可以提高功率器件的熱穩定性和抗拉強度，從而提高功率器件的性能。它主要用于電子、光學、電力、航空航天等領域。
2023-02-14 14:28:092240 硅基氮化鎵襯底是一種新型的襯底，它可以提高襯底的熱穩定性和抗拉強度，從而提高襯底的性能。它主要用于電子、光學、電力、航空航天等領域。
2023-02-14 14:36:082354 硅基氮化鎵技術原理是指利用硅和氮化鎵的特性，將其結合在一起，形成一種新的復合材料，以滿足電子元件、電子器件和電子零件的制造要求。硅基氮化鎵具有良好的熱穩定性和電磁屏蔽性，可以用于制造電子元件、電子器件和電子零件，而氮化鎵則可以提供良好的電子性能和絕緣性能。
2023-02-14 14:46:582277 硅基氮化鎵是一種新型復合材料，它是由硅和氮化鎵結合而成的，具有良好的熱穩定性和電磁屏蔽性和抗拉強度，可以用于制造功率器件和襯底，如電子元件、電子器件和電子零件等。它具有低溫制備、低成本、低污染等優點，可以滿足不同應用領域的需求。
2023-02-14 15:14:171894 硅基氮化鎵是一種由硅和氮化鎵組成的復合材料，它具有良好的熱穩定性和電磁屏蔽性，可以用于制造電子元件、電子器件和電子零件。此外，硅基氮化鎵還可以用于制造高精度的零件和組件，如電路板、電子控制器、電子模塊、電子接口、電子連接器等。
2023-02-14 15:26:103578 硅基氮化鎵充電器是一種利用硅基氮化鎵材料作為電池正極材料的充電器，具有高功率密度、高安全性和高可靠性等優點。
2023-02-14 15:41:074636 硅基氮化鎵和藍寶石基氮化鎵都是氮化鎵材料，但它們之間存在一些差異。硅基氮化鎵具有良好的電子性能，可以用于制造電子元件，而藍寶石基氮化鎵具有良好的熱穩定性，可以用于制造熱敏元件。此外，硅基氮化鎵的成本更低，而藍寶石基氮化鎵的成本更高。
2023-02-14 15:57:152751 氮化鎵（GaN）是一種非常堅硬且在機械方面非常穩定的寬帶隙半導體材料。由于具有更高的擊穿強度、更快的開關速度，更高的熱導率和更低的導通電
阻，氮化鎵基功率器件明顯比硅基器件更優越。
氮化鎵晶體
2023-02-15 16:19:06
0 氮化鎵外延片工藝是一種用于制備氮化鎵外延片的工藝，主要包括表面清洗、氮化處理、清洗處理、干燥處理和檢測處理等步驟。
2023-02-20 15:50:3215328 （GaN）產品。PI之前有650V硅器件，后來發布的氮化鎵器件是750V，現在把氮化鎵產品擴展到900V，以滿足汽車、家電及工業類應用的需求。
2023-03-24 10:28:281524 近日，晶能光電發布12英寸硅襯底InGaN基紅、綠、藍全系列三基色Micro LED外延技術成果。
2023-09-01 14:07:442195 氮化鎵芯片是目前世界上速度最快的電源開關器件之一。氮化鎵本身就是第三代材料，很多特性都強于傳統的硅基半導體。
2023-09-11 17:17:534150 GaN 技術持續為國防和電信市場提供性能和效率。目前射頻市場應用以碳化硅基氮化鎵器件為主。雖然硅基氮化鎵（GaN-on-Si）目前不會威脅到碳化硅基氮化鎵的主導地位，但它的出現將影響供應鏈，并可能塑造未來的電信技術。
2023-09-14 10:22:362157 
從產能來看，湖南三安現有SiC產能15,000片/月，較2022年底新增3,000片/月，提升25%；GaN-on-Si（硅基氮化鎵）產能2,000片/月。其6英寸碳化硅襯底已通過數家國際大客戶驗證，并實現批量出貨，且2023年、2024年供應已基本鎖定。
2023-09-14 11:14:542322 氮化鎵功率器件與硅基功率器件的特性不同本質是外延結構的不同，本文通過深入對比氮化鎵HEMT與硅基MOS管的外延結構
2023-09-19 14:50:3410640 
2023年11月10日，溫州芯生代科技有限公司在2023世界青年科學家峰會上隆重發布了面向高電壓大電流HEMT功率器件應用的850V Cynthus?系列硅基氮化鎵（GaN-on-Si）外延產品。行業客戶、知名投資機構爭相了解合作。
2023-11-14 10:32:081630 
氮化鎵芯片是什么？氮化鎵芯片優缺點 氮化鎵芯片和硅芯片區別? 氮化鎵芯片是一種用氮化鎵物質制造的芯片，它被廣泛應用于高功率和高頻率應用領域，如通信、雷達、衛星通信、微波射頻等領域。與傳統的硅芯片相比
2023-11-21 16:15:3011008 氮化鎵芯片和硅芯片是兩種不同材料制成的半導體芯片，它們在性能、應用領域和制備工藝等方面都有明顯的差異。本文將從多個方面詳細比較氮化鎵芯片和硅芯片的特點和差異。 首先，從材料屬性上來看，氮化鎵芯片采用
2024-01-10 10:08:143855 硅基氮化鎵（SiGaN）集成電路芯片是一種新型的半導體材料，具有廣闊的應用前景。它將硅基材料與氮化鎵材料結合在一起，利用其優勢來加速集成電路發展的速度。本文將介紹硅基氮化鎵集成電路芯片的背景、特點
2024-01-10 10:14:582335 近日，廣東致能科技團隊與西安電子科技大學廣州研究院/廣州第三代半導體創新中心郝躍院士、張進成教授團隊等等合作攻關，通過采用廣東致能科技有限公司的薄緩沖層AlGaN / GaN外延片，基于廣州第三代半導體創新中心中試平臺，成功在6英寸藍寶石襯底上實現了1700V GaN HEMTs器件。
2024-01-25 10:17:242253 
4月23日，在比利時新魯汶的愛因斯坦高科技園區，晶湛半導體和 Incize 達成了一份戰略合作備忘錄，雙方將在硅基氮化鎵外延技術的建模、仿真和測試方面進行深入的戰略合作。
2024-05-06 10:35:41967 
麥斯克電子近日宣布，其年產360萬片8英寸硅外延片的項目已成功封頂。據CEFOC中電四公司透露，該項目的總投資額超過14億元，建設規模宏大，占地建筑面積超過5萬平方米。預計項目建成并投產后，將大幅提升麥斯克電子在硅外延片領域的生產能力，年產量將達到360萬片8英寸硅外延片。
2024-05-06 14:58:312194 江蘇昕感科技在半導體芯片制造領域又邁出了重要的一步。由該公司投資建設的6英寸硅基半導體芯片項目，預計將在今年年底全面通線，年產能將達到100萬片6英寸硅基半導體芯片。這一項目的成功實施，將進一步鞏固昕感科技在功率半導體領域的領先地位。
2024-06-26 10:49:133204 1月8日消息，日本豐田合成株式會社（Toyoda Gosei Co., Ltd.）宣布，成功開發出了用于垂直晶體管的 200mm（8英寸）氮化鎵 （GaN）單晶晶圓。 據介紹，與使用采用硅基GaN
2025-01-09 18:18:221358 中的性能差異源于材料物理特性，具體優劣勢如下： 1. GaN（氮化鎵）功放芯片 優勢： 功率密度高：GaN 的擊穿電場強度（3.3 MV/cm）是硅的 10 倍以上，相同面積下可承受更高電壓（600V+）和電流，功率密度可達硅基的 3-5 倍（如 100W 功率下，GaN 芯片體積僅為硅基的 1/3）。 高
2025-11-14 11:23:573105
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