紐約普萊恩維尤（Plainview），2017年11月1日– Veeco 公司 （Nasdaq： VECO）今日宣布和ALLOS Semiconductors （ALLOS）達成了一項戰略舉措，展示了200mm硅基氮化鎵晶圓用于藍/綠光micro-LED的生產。維易科和ALLOS合作將其專有外延技術轉移到Propel? 單晶圓MOCVD系統，從而在現有的硅生產線上實現生產micro-LED。

“使用Propel反應腔，我們就擁有了一項MOCVD 技術，這項技術能夠實現高產量的GaN外延，滿足在200毫米硅生產線上生產micro-LED器件的所有要求，”ALLOS Semiconductors的首席執行官Burkhard Slischka這樣說。“不到一個月時間我們就已經在Propel上對我們的技術進行了驗證，并且獲得了無裂紋、無回熔的晶圓，翹曲度低于30微米，晶體質量高，厚度均勻性優異，波長均勻性小于1納米。同Veeco攜手，ALLOS期待著將該技術在micro-LED產業中更為推廣。”

Micro-LED顯示技術由《30x30平方微米的紅、綠和藍（RGB）無機LED組成，這些LED被轉化為顯示屏背板，以形成亞像素。與有機LED（OLED）和液晶顯示（LCD）相比，這些高效的LED直接發射功耗更低，卻可以為移動顯示器、電視和可穿戴式計算機提供優異的亮度和對比度。Micro-LED的制造要求優質、均勻的外延晶圓，以滿足顯示屏的產量和成本控制的要求。

“和競爭對手的MOCVD平臺相比， Veeco的TurboDisc?技術提供的制程窗口更大，因此Propel能提一流的均勻性同時還能獲得優良的膜品質，”維易科高級副總裁兼MOCVD運營總經理Peo Hansson博士這樣說。“將Veeco領先的MOCVD專業技術和ALLOS的硅基氮化鎵外延晶片技術相結合，使我們客戶能夠開發出低成本的micro-LED，以便于在新的市場中開拓新的應用。”

關于Veeco

Veeco（NASDAQ： VECO）是一家創新半導體工藝設備的領先制造商。我們成熟的MOCVD、光刻、激光退火、離子束和單晶片蝕刻與清潔技術在制造固態照明和顯示器LED以及先進半導體器件的制造中起著不可或缺的作用。憑借旨在最大限度地提高性能、產量和擁有成本的設備，維易科在所有這些服務的市場中擁有技術領先地位。要了解更多關于維易科創新設備和服務方面的信息，請訪問www.veeco.com。

關于ALLOS Semiconductors

ALLOS是一家知識產權授權和科技工程公司，幫助全世界半導體行業的客戶掌握硅基氮化鎵技術并充分發揮其優勢。ALLOS正在向提供其專有技術和專利授權，并將其技術轉移到客戶的MOCVD反應腔中。此外，ALLOS也正在提供針對具體客戶的解決方案和下一代硅基氮化鎵開發中所面臨的挑戰的咨詢服務。