Veeco Instruments Inc． 與 ALLOS Semiconductors GmbH 8日宣布取得又一階段的合作成果，雙方共同努力，致力于為microLED生產應用提供業內領先的硅基氮化鎵外延片產品技術。兩家公司最近合作的宗旨是，在為全球范圍內多家杰出的消費類電子產品公司生產外延片的同時，展示ALLOS 200 mm硅基氮化鎵外延片產品技術在Veeco Propel? MOCVD反應器上的可復制性。

“要將microLED技術轉化為生產，僅依據單項指標展示主導價值是不夠的。我們必須確保每種外延片的整套規格都具有出色的可重復性和收益，”Veeco Compound Semiconductor業務部門高級副總裁兼總經理Peo Hansson博士表示。“此次成功聯合再次肯定Veeco的優秀MOCVD專業知識與ALLOS硅基氮化鎵外延片產品技術強強結合，能夠為客戶提供經驗證的、可靠的創新方案，加速推進microLED應用。”

作為標準，傳統LED技術通過分類和分級實現波長一致性。但鑒于microLED尺寸小、數量多而無法分類和分級，因此，外延沉積的一致性變得更為重要。要使大批量生產microLED顯示器的承諾變成現實，最重要的成功要素在于實現極佳的發射波長一致性，這樣就不需要進行單獨的microLED芯片測試和分選。根據業內目標要求，外延片分級應介于＋／－1 nm（下限）和 ＋／－4 nm（上限）之間，取決于應用和傳質方法。通過合作項目，Veeco和ALLOS通過標準偏差僅為0．85 nm的晶片進一步改善至關重要的波長一致性，這在生產系統方面屬于行業首例。

“Veeco和ALLOS對晶片之間的可復制性進行了驗證，所有晶片的平均波長標準偏差為1．21 nm，且峰值波長介于＋／－0．5 nm范圍內。由此，我們朝著＋／－1 nm外延片分級的目標又邁進一大步，”ALLOS首席執行官Burkhard Slischka表示。“我們的技術已經可以在直徑200 mm的晶片上使用，這樣就能使用低成本、高收益的硅系列進行 microLED芯片生產。此外，我們對于300 mm晶片應用已有清晰的發展藍圖。”

作為下一個重大技術轉變主題，microLED備受顯示器技術創新者的關注。據調研公司Yole Développement，到2025年，市售microLED顯示器數量可能達到3．3億臺。邊長小于100μm的microLED技術被視作開發功耗更低的旗艦顯示器的重要驅動因素，相關技術承諾助長了這一樂觀情緒。但是，材料成本高、收益低以及microLED傳質技術產量一直阻礙著此類顯示器的開發。此次技術聯合有效地解決了這些挑戰，Veeco和ALLOS將繼續與客戶合作，旨在進一步改善硅基氮化鎵外延片和microLED傳質技術。

2018年11月12日，兩家公司將攜手在日本金澤市召開的國際氮化物半導體工作研討會（IWN）上詳細展示他們的突破成就。