Process Control(E-PC)是Exensio數據分析平臺的四大主要模塊之一。作為一款在行業內處于領先地位的實時控制和分析工具,它為集成設備制造商(IDMs)、代工廠(Fab)、中段工藝(bumping)以及基板廠提供了故障檢測與分類(FDC)功能。借助這一功能,企業能夠在工具和工廠兩個層面,精準地識別、診斷并預防各類工具問題 ,有效保障生產流程的順暢與穩定。
助力工業 4.0,引領半導體制造革新
專為工業4.0量身打造的 Exensio-Process Control(E-PC)功能模塊,借助實時數據分析,企業在半導體制造過程中,能夠精準達成產能最大化、設備性能最優化,以及將浪費降至最低限度。
值得一提的是,E-PC與現有的工藝管控工具能完美協同并行,彼此運作毫無干擾,實現無縫對接。對于新建FAB(晶圓廠)企業而言,E-PC更是得力助手,它助力企業以更高效、便捷的方式,使新建FAB在性能上迅速與成熟FAB看齊,快速提升新建 FAB 的競爭力,為企業在半導體制造領域的發展注入強勁動力。

FDC領航者 :超4W+臺工具管控,支持數百種制造設備
Process Control模塊是FDC領域的市場領導者,在全球6英寸、8英寸和12英寸晶圓廠中,由E-PC管理的制造工具超過40,000臺。支持數百種品牌和型號的半導體制造設備。

聚焦Fab核心模型:強大高效,幫助決策
普迪飛擁有獨特的自上而下策略,構建晶圓廠模型。以Fab為中心的流程控制方法,借助DEX(數據交換網絡)自動采集并融合前端與后端數據,進而實現極為強大的特征剖析以及故障診斷。與 "按工具 "的分散式部署相比,這種方法提高了部署效率,助力企業精準做出決策,嚴格把控流程 。

制程管控:偏移診斷精準把控與變異優化策略
通過FDC工具傳感器水平診斷和深入分析自動檢測偏移事件,以執行流程和計量轉變、參數漂移、預防性維護和耗材事件檢測。采用先進的診斷技術進行一步式參數篩選,以驅動響應相關性,并反饋給工具控制(動態SPC),從而提高產量、設備參數和計量水平。




Process Control功能亮點
工具和工藝偏差最多可減少40%
制程能力指數(CPK)可提升至多 20%,實現更緊密的分布
強大的語義模型賦能,工作效率提升高達10倍
借助基于追溯的工具匹配,工藝轉移及晶圓廠產能提升速度可提前 6 個月
交互式分析環境,自動可視化數據報告
在線控制與離線分析相結合(涵蓋實時、追溯及匯總 FDC)
通過預測性維護降低維護資源成本和需求
協同AI/ML,提供完整且先進的解決方案(AIM)

FDC數據全方位挖掘,提升良率的關鍵鑰匙
FDC 數據的運用分為三個層次,層層推進,最終指向良率提升這一核心目標。
首先,Online Control 的階段,E-PC憑借靈活的數據采集方式、高效的建模效率、豐富的算法以及簡潔的操作界面,在報警時還能提供raw trace輔助判斷,且后臺服務與數據庫具備高可靠性,為生產過程監控奠定堅實基礎。
其次,針對 FDC 數據進行深層次的挖掘,不僅能為新機臺的發布設定標準, PM前后的機臺進行有效管理,其報表功能(如 OOC report 等)豐富多樣,支持內嵌和自定義報表,并且能自動調整Control Spec,進一步挖掘數據價值,優化生產管理。
最終,落腳于良率提升這一關鍵目標。通過跨良率/量測Vs FDC等不同數據類型的分析,豐富多樣的分析手段,以及內嵌和自建模型等方式,為online control系統提供具有指導意義的spec反饋,從而實現良率的提升。這一過程意義重大,良率提升可直接帶來經濟效益的增長,使企業在市場競爭中更具優勢,同時也能促進資源的高效利用,助力企業可持續發展。
-
半導體
+關注
關注
339文章
30737瀏覽量
264186 -
數據分析
+關注
關注
2文章
1516瀏覽量
36224 -
普迪飛
+關注
關注
1文章
33瀏覽量
130
發布評論請先 登錄
普迪飛 Exensio?數據分析平臺 | 鑄就良率提升與量產加速之路
普迪飛 Exensio?數據分析平臺 | Test Operations解鎖半導體測試新紀元
普迪飛 Exensio?數據分析平臺 | 助力提升半導體制造的可追溯性
普迪飛CV系統:芯片研發與生產的效能加速器,為Fab/Fabless/IDM提供定制化解決方案
Exensio 應用篇:晶圓廠的智能大腦,為生產運營保駕護航
測試效率低、數據難對齊?Freemium 助力工程師解鎖高效分析,讓良率、效率、質量問題無所遁形!
Exensio 應用篇:數據驅動 OSAT 智能化,破解半導體封測效率與品控雙難題
普迪飛 Exensio?數據分析平臺| FDC領航者,提升良率的關鍵鑰匙!
評論