合作回顧
普迪飛&英特爾:數據驅動下的半導體良率優化實踐
深度合作落地:技術驅動半導體制造效率質量雙提升
英特爾召開2025年第四季度及全年財報電話會,CEO 陳立武(Lip-Bu Tan)重磅披露:旗下對標2nm級的18A先進制程,已實現月度環比 7%-8%的穩定良率提升,并明確將良率優化鎖定為2026年英特爾轉型突圍的核心杠桿。
從此次財報電話會,到會后舉辦的Cisco AI Summit全球行業峰會,陳立武在多個重磅公開場合,多次提及普迪飛(PDF Solutions)作為英特爾核心產業鏈合作伙伴,為18A工藝實現超預期良率爬坡提供了關鍵技術支撐。
行業焦點:18A 良率爬坡,成英特爾轉型核心勝負手
18A工藝,是英特爾沖擊全球先進制程第一梯隊、兌現IDM 2.0戰略、打開晶圓代工第二增長曲線的核心載體。
在納米級先進制程賽道,良率就是量產的 “生命線”。爬坡速度不僅直接決定工藝節點能否按時從實驗室走向規模化量產,更直接影響英特爾能否拿下全球頭部客戶訂單,在高端代工市場實現破局。
此次陳立武披露的月度環比7%-8%良率增幅,遠超 SEMI(國際半導體產業協會)統計的行業同級別先進節點平均爬坡水平,大幅縮短了18A工藝的量產落地周期。但他同時坦誠,當前18A工藝在缺陷密度、工藝一致性上,仍未達到行業領先標準 —— 這也是2nm級先進制程量產攻堅的全球共性難題。
18A工藝集成了全環繞柵極(GAA)晶體管、PowerVia背面供電、高數值孔徑EUV光刻等一系列前沿技術,制程復雜度呈指數級提升,隨之而來的是工藝窗口收窄、納米級缺陷溯源難度陡增、工藝波動管控要求極致嚴苛等挑戰,傳統的良率優化模式已無法適配如此精細化的管控需求。
普迪飛用戶大會 -英特爾 Aziz Safa演講主題 (點擊圖片查看演講內容)
攻堅破局:普迪飛全鏈條技術,破解先進制程良率痛點
面對這一行業級難題,陳立武上任后推動英特爾打破傳統封閉研發模式,開啟全產業鏈開放協同的攻堅之路,而深耕半導體良率管理領域30余年的普迪飛,正是其在該領域深度綁定的核心戰略合作伙伴。
在Cisco AI Summit的公開對話中,陳立武曾直言:“剛接手英特爾時,18A工藝的良率表現非常糟糕。為了扭轉局面,我找來了行業內所有頂尖伙伴提供全鏈條支持,全力確保實現行業最佳實踐級別的每月7%-8%良率提升,這其中就包括普迪飛(PDF Solutions)。敞開心扉讓外部伙伴進來幫忙的效果非常好,我們最終穩定達成了這一目標。”
從研發驗證到量產爬坡,普迪飛為18A工藝量身打造了端到端全鏈條良率提升解決方案,精準直擊制程攻堅的核心痛點:
1. 全流程數據打通,重構良率迭代效率
針對先進制程設計-制造數據壁壘高、良率瓶頸定位慢的行業痛點,普迪飛以AI驅動的半導體大數據分析平臺,打通了18A工藝從設計仿真、晶圓制造、缺陷檢測到電性測試的全流程數據鏈路。
通過自研算法模型,平臺可快速鎖定良率瓶頸,精準識別納米級工藝波動與缺陷根源,將傳統需要數周的良率診斷與優化周期壓縮至數天,極大提升了良率迭代效率,為18A工藝實現月度環比7%-8%的穩步增長提供了核心技術抓手。
2. 精細化工藝管控,直擊缺陷密度與一致性痛點
針對陳立武重點關注的缺陷密度與工藝一致性優化需求,普迪飛的解決方案實現了18A工藝全流程的精細化管控。通過對光刻、刻蝕、沉積等關鍵工序的實時數據監測與智能調優,持續收窄工藝偏差,穩步降低工藝缺陷密度,助力英特爾不斷提升18A工藝的量產穩定性與產品交付一致性,為工藝從試產走向規模化量產筑牢了技術根基。
3. 前置化設計優化,鋪平客戶量產導入之路
除了工藝本身的良率提升,普迪飛通過技術創新,提前介入工藝的設計規則優化,幫助英特爾及代工客戶在芯片設計階段就規避制造端的潛在風險。
這一動作不僅加速了18A工藝自身的成熟進度,更為外部客戶的批量導入鋪平了道路。陳立武在財報電話會中透露,目前已有多家外部客戶主動接洽 18A 工藝代工合作,而這正是基于工藝良率的超預期爬坡與成熟度的持續提升。
生態共贏:開放協同,共筑半導體產業創新底座
與英特爾在18A先進制程上的深度合作與取得成效,既是對普迪飛技術實力的認可,也是產業鏈開放協同創新的典型實踐。
Intel CEO 陳立武與PDF Solutions CEO John Kibarian在Intel代工大會同臺對話(點擊圖片查看演講內容)
作為全球領先的半導體端到端良率管理與制程優化解決方案提供商,普迪飛始終以技術創新為核心,打磨覆蓋芯片設計、制造、封測全流程的解決方案,服務全球主流晶圓廠、IC 設計企業與封測廠商,助力客戶提升良率、縮短研發周期、降低制造成本。
未來,普迪飛將繼續深化與英特爾等全球頂尖半導體企業的戰略合作,持續以技術創新破解先進制程發展難題,助力全球半導體產業突破技術邊界,共同構建更具活力與韌性的半導體產業創新生態。
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