今天，在Globalfoundries公司（簡稱GF，中文名：格芯）宣布將旗下的光掩膜業(yè)務(wù)出售給日本Toppan公司的子公司Toppan Photomasks。
2019-08-14 17:56:31
8120 掩模版（Photomask）又稱光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是光刻工藝中關(guān)鍵部件之一，是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具
2023-12-25 11:41:1380530 
億。 ? 路維光電主要從事掩膜版的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，產(chǎn)品主要涵蓋平板顯示掩膜版、半導(dǎo)體掩膜版兩大系列。作為國內(nèi)首家打破國外廠商半色調(diào)掩膜版技術(shù)壟斷，并建立國內(nèi)首條G11超高世代掩膜版生產(chǎn)線的企業(yè)，其在科創(chuàng)板上市引起廣泛關(guān)注。 ? 路維光電此次IPO擬募集4.05億元資
2022-08-18 07:46:003271 3337.50萬股，募集6.63億元資金，用于高端半導(dǎo)體芯片掩膜版制造基地項(xiàng)目等。 ? 龍圖光罩無控股股東，柯漢奇、葉小龍、張道谷為龍圖光罩的共同實(shí)際控制人，他們分別持有龍圖光罩26.33%、26.33%、19.56%的股份，三人合計(jì)控制龍圖光罩75.99%股權(quán)。天眼查
2023-05-31 00:11:003799 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）在上游的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中，除了光刻機(jī)等設(shè)備外，光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質(zhì)量與良率的關(guān)鍵因素。就拿掩膜版來說，這個(gè)承載設(shè)計(jì)圖形的材料，經(jīng)過曝光后將圖形信息轉(zhuǎn)移到晶
2023-06-22 01:27:006658 , MT機(jī)芯彩電上采用，掩膜后型號仍為LA76930;在王牌TCL-AT2116Y彩電上采用，掩膜后型號為13 -WS9301-AOP；在TCL-AT21266Y彩電上采用，掩膜后型號為13
2021-05-20 06:03:30
`集成電路（IC）光掩模，又稱光罩、掩膜版、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。掩膜版用于下游電子元器件
2019-12-10 17:18:10
、LA76932，分別被廈華、康佳、TCL王牌等公司采用。其中LA76930在廈華TS, TF, MT機(jī)芯彩電上采用，掩膜后型號仍為LA76930;在王牌TCL-AT2116Y彩電上采用，掩膜后型號為13
2021-05-21 07:08:06
厚度的兩倍，在這類應(yīng)用中，最常使用的就是厚度為3mil (0.003in) 的掩膜。如果不遵守這一簡單的規(guī)則可能會導(dǎo)致在焊墊或印制線邊緣出現(xiàn)細(xì)小的毛細(xì)裂縫，這些裂縫的尺寸正好發(fā)生毛細(xì)抽吸，將波峰焊接或
2013-02-25 11:37:02
【G11】HTC G11 MIUI V5 ROM刷機(jī)包基于安卓4.1.2多重優(yōu)化適用機(jī)型：HTC G11 | Incredible S文件大小：187 MB安卓版本：刷機(jī)交流：群131057236刷
2013-04-20 16:54:51
光掩膜版
光掩膜版使芯片設(shè)計(jì)與芯片制造之間的數(shù)據(jù)中介，可以看作芯片設(shè)計(jì)公司傳遞給芯片制造廠的用于制造芯片的“底片”或“母版”。
光掩膜版主要由基板和不透光材料組成。基板是一塊光學(xué)性能非常好的適應(yīng)
2025-04-02 15:59:44
三種常見的光刻技術(shù)方法根據(jù)暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻技術(shù)。 ◆投影式暴光是利用透鏡或反射鏡將掩膜版上的圖形投影到襯底上的暴光方法.在這種暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
什么是OSP膜？如何去分析新一代耐高溫OSP膜的相關(guān)耐熱特性？經(jīng)過測試，OSP膜有什么優(yōu)點(diǎn)？
2021-04-22 07:32:25
名稱，版別等LOGO。光掩膜(mask)資料整理本文將收集涉及光掩膜從材料到檢測的一些資料，進(jìn)行整理和粗略的概括。在半導(dǎo)體制造的整個(gè)流程中，其中一部分就是從版圖到wafer制造中間的一個(gè)過程，即光掩膜或
2012-01-12 10:36:16
光刻掩膜設(shè)計(jì)與加工制造服務(wù)，請問可以加工二元光學(xué)器件嗎？相位型光柵那種.
2024-04-22 06:24:37
全國首條5G環(huán)線在成都正式開通，在全國率先實(shí)現(xiàn)5G外場試商用。
2020-12-22 06:46:54
條件下制造的干膜防焊膜厚度均勻，應(yīng)用該掩膜時(shí)使用高壓層壓機(jī)，以保證整個(gè)制程板區(qū)域覆膜均勻一致，這種方法也可以使不同批次和爐次的制程板覆膜保持均勻一致。麥|斯|艾|姆|P|CB樣板貼片,麥1斯1艾1姆1科1
2013-09-11 10:56:17
掩膜寬度的選擇 干膜寬度的選擇應(yīng)當(dāng)根據(jù)制程板的寬度而定，干膜的寬度不應(yīng)當(dāng)超過制程板寬10 mm 以上，以避免邊緣修整損耗。壓合時(shí)可以同時(shí)壓合兩面也可以先壓合完一面再壓合另一面，這主要根據(jù)所使用層壓
2018-09-05 16:39:00
` 本帖最后由 jswanglp 于 2015-3-31 03:00 編輯
如題，程序是用掩膜法對數(shù)字圖像進(jìn)行空域處理的，程序中用的掩膜是拉普拉斯算子，如果不清楚的同學(xué)可以查閱《數(shù)字圖像處理
2015-03-31 02:56:01
我公司在制作非接觸視頻銀行卡時(shí)，用國內(nèi)帶鋁膜（鐳射膜）復(fù)合卡基后，信號變?nèi)趿耍趺唇鉀Q。
2018-10-15 22:57:00
請大家?guī)兔榻B下國內(nèi)可以做掩膜版的廠家呢目前已知的是深圳龍圖謝謝！
2022-11-30 18:16:06
可用于刻寫通信、傳感、激光器等領(lǐng)域的各類光纖光柵，從而應(yīng)用于l 光纖光柵濾波器，增益平坦濾波器2 光纖傳感3 激光諧振腔反射鏡，激光偏振、縱模、橫模等模式選擇器4 激光功率/頻率穩(wěn)定的鑒頻器5 色散補(bǔ)償、脈沖壓縮等色散管理器
2016-12-23 15:00:12
方法比較容易，有效地制成各種形狀的印制電路。 碳膜印制板的生產(chǎn)工藝是組合了減成法和加成法的印制板制造方法。目前碳膜印制板在應(yīng)用的領(lǐng)域方面已有了突破性的進(jìn)展，特別是在電功率較小的電子產(chǎn)品上得到了廣泛
2018-08-30 16:22:32
面對掩膜制造成本呈倍數(shù)攀升，過去許多中、小用量的芯片無法用先進(jìn)的工藝來生產(chǎn)，對此不是持續(xù)使用舊工藝來生產(chǎn)，就是必須改用FPGA芯片來生產(chǎn)……
2019-10-28 07:06:37
語音芯片開發(fā)QGPN5M 多通道可編程掩膜系列詳細(xì)描述：多通道Speech/Melody IC QGPN5系列4位
2022-03-08 15:42:57
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
單片機(jī)程序掩膜
2010-08-08 17:20:22
35 一、產(chǎn)品概述全自動Mask掩膜板清洗機(jī)是半導(dǎo)體光刻工藝中用于清潔光罩（Reticle/Mask）表面的核心設(shè)備，主要去除光刻膠殘留、顆粒污染、金屬有機(jī)物沉積及蝕刻副產(chǎn)物。其技術(shù)覆蓋濕法化學(xué)清洗、兆
2025-06-17 11:06:03
澤攸科技ZML10A是一款創(chuàng)新的桌面級無掩膜光刻設(shè)備，專為高效、精準(zhǔn)的微納加工需求設(shè)計(jì)。該設(shè)備采用高功率、高均勻度的LED光源，并結(jié)合先進(jìn)的DLP技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了黃光或綠光引導(dǎo)曝光功能，真正做到
2025-08-15 15:11:55
1、干膜濕膜基本上功能是類似的，但是如果表面較不平整或不必建立較厚的高度或要十分薄的膜厚等狀況，廠商都可以考慮使用濕膜。如果是有孔的電路板，則
2010-09-20 00:50:453831 摘要:針對MOD IS的林火探測算法第四版區(qū)域適應(yīng)性差的不足,利用基于熱帶雨林特性的潛在火點(diǎn)判定閾值和基 于煙羽掩膜的自適應(yīng)窗口調(diào)節(jié)技術(shù),對第四版算法進(jìn)行了改進(jìn). 煙羽掩膜有利于輔助火點(diǎn)探測,而調(diào)整閾值則能改 善火點(diǎn)探測的敏感性. 根據(jù)熱帶雨林地區(qū)森林火
2011-01-13 15:43:1437 集成電路掩膜板設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)室畫版圖的都要先看這本書，非常不錯(cuò)，后面還帶有放大器和混頻器的詳細(xì)版圖設(shè)計(jì)例子，對初學(xué)者來說不錯(cuò)。
2011-12-29 15:29:51100 對先進(jìn)光刻掩膜光衍射的精密EMF模擬已成為預(yù)知光刻模擬的必做工作。
2012-05-04 16:28:418137 
使用ABI Cloud Mask算法，結(jié)合多種基礎(chǔ)的表數(shù)據(jù)，對MTSAT-1R衛(wèi)星圖像進(jìn)行了云掩膜分類。將衛(wèi)星圖像中的像素成功分為了4類：晴空似晴空似云云 。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，本掩膜計(jì)算方便，達(dá)到了
2013-01-08 14:56:0219 光刻機(jī)掩膜臺微動臺調(diào)平控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)_何良辰
2017-01-28 21:37:1518
據(jù)媒體報(bào)道，全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈全面緊缺，比特幣、人工智能帶動的高端芯片熱潮，迫使臺積電、三星對外釋出高端 28/16/14/10 納米的光掩膜訂單，加上國內(nèi)有接近30 座的新晶圓廠在建，近幾個(gè)月
2018-07-18 08:39:001551 光掩摸制造，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中承上啟下的重要一環(huán)，目前被美國和日本的企業(yè)壟斷，高端核心技術(shù)成為國內(nèi)企業(yè)入局的門檻。掩摸行業(yè)投入高、規(guī)模小、技術(shù)精密度高、且產(chǎn)品零缺陷等特點(diǎn)，讓很多擔(dān)心無回報(bào)的公司望而卻步
2018-08-15 10:07:002048 愛發(fā)科光罩掩膜版項(xiàng)目總投資5億元，占地25畝，是全國第一座10.5代光罩掩膜版生產(chǎn)基地，項(xiàng)目投產(chǎn)后將輻射全國主要面板和半導(dǎo)體配套廠商，將更顯著的提升合肥液晶面板及半導(dǎo)體關(guān)鍵零配件的配套能力。未來，愛
2018-09-26 11:27:2510150 再投240億美元，紫光成都存儲器制造基地成又一個(gè)長江存儲！ 繼2016年12月30日，紫光集團(tuán)聯(lián)合國家集成電路產(chǎn)業(yè)基金、湖北省地方基金、湖北省科投共同投資建設(shè)，項(xiàng)目總投資為240億美元的長江存儲國家
2018-10-15 17:07:021241 10月12日，紫光成都存儲器制造基地項(xiàng)目開工動員活動在成都雙流自貿(mào)試驗(yàn)區(qū)隆重舉行。
2018-10-18 09:34:1711110 研發(fā)電鑄式Shadow Mask（金屬掩膜版）的Wave Electronics與中國最大面板廠商簽訂了開發(fā)合同。三星顯示此前在電鑄式導(dǎo)入上一直停滯不前，因此開始探索在中國的可能性。今后是否應(yīng)用于實(shí)際量產(chǎn)中還有待關(guān)注。
2018-11-22 08:40:124891 自成立以來，清溢光電以實(shí)際行動振興民族產(chǎn)業(yè)，報(bào)效祖國，為國內(nèi)顯示產(chǎn)業(yè)國產(chǎn)化配套方面做出了突出貢獻(xiàn)。。清溢光電經(jīng)過二十一年的精心鉆研，在技術(shù)實(shí)力、市場占有率上均取得了重大成績。目前，清溢光電已成為中國大陸成立最早、規(guī)模最大、技術(shù)最先進(jìn)的專業(yè)制作高精度掩膜版和相關(guān)精密設(shè)備的國家高新技術(shù)企業(yè)。
2019-01-16 13:43:319305 2019年1月23日，位于成都市高新西區(qū)的成都路維光電有限公司（簡稱“成都路維”）迎來了自開工建設(shè)以來的重要時(shí)刻：國內(nèi)首條第11代高世代掩膜版項(xiàng)目的首張掩膜版產(chǎn)品成功下線。由此，我國首條自主研發(fā)生產(chǎn)的高精度第11代掩膜版正式誕生！
2019-01-27 09:53:303812 從奠基儀式上揮動第一鏟土到向客戶運(yùn)輸?shù)谝黄?b class="flag-6" style="color: red">掩膜，我們走過了16個(gè)月的時(shí)間。在這個(gè)過程中，我們建廠，裝配機(jī)器、并且調(diào)試出世界上最先進(jìn)的面板光掩膜工廠，沒有之一。我們走到這個(gè)里程碑的過程里得到了大量的幫助，要感謝那些支持和幫助過我們的人。
2019-04-30 17:36:0016877 國內(nèi)掩膜版行業(yè)的龍頭企業(yè)深圳清溢光電股份有限公司（以下簡稱“清溢光電”）科創(chuàng)板申請獲受理，公司擬募集資金4.03億元，保薦機(jī)構(gòu)為廣發(fā)證券。
2019-05-29 14:34:103550 繼此前格芯（Globalfoundries）出售新加坡Fab 3E 200mm晶圓廠以及美國紐約州Fab 10 300mm晶圓廠之后，今天格芯又宣布將旗下的光掩膜業(yè)務(wù)出售給日本Toppan公司的子公司Toppan Photomasks。
2019-08-16 11:00:004073 隨著電子產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展，PCB布線越來越精密，多數(shù)PCB廠家都采用干膜來完成圖形轉(zhuǎn)移，干膜的使用也越來越普及，但仍遇到很多客戶在使用干膜時(shí)產(chǎn)生很多誤區(qū)，現(xiàn)總結(jié)出來，以便借鑒。
一、干膜掩孔出現(xiàn)破孔
2019-12-19 15:10:214550 DNP 通過自身在印刷技術(shù)、信息處理技術(shù)方面的優(yōu)勢，為 Society5.0 所追求的先進(jìn)信息社會提供各種解決方案。其中，要生產(chǎn)先進(jìn)信息社會所必須的高性能半導(dǎo)體，需要靈活運(yùn)用“細(xì)微加工技術(shù)（應(yīng)用和發(fā)展印刷工藝）”，繼續(xù)強(qiáng)化掩膜板的供給體制，以滿足未來不斷高漲的細(xì)微化半導(dǎo)體的需求。
2020-08-31 14:52:443000 掩膜板產(chǎn)品的原材料和中間材料為玻璃基板、鍍鉻膜層、光刻膠、光學(xué)膜等，其中主要原材料為玻璃基板，按材質(zhì)可以分為石英基板和蘇打基板，石英基板使用石英玻璃作為材料，光學(xué)透過率高，熱膨脹率低，相比蘇打玻璃
2020-09-17 17:24:465467 
掩膜版（Photomask），又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。掩膜版用于下游電子元器件制造業(yè)批量生產(chǎn)，是下游行業(yè)生產(chǎn)流程銜接的關(guān)鍵部分，是下游產(chǎn)品精度和質(zhì)量的決定因素之一。
2020-10-12 09:44:4213415 
根據(jù)技術(shù)成熟度模型，掩膜式壓力傳感器是典型的高技術(shù)產(chǎn)品，其技術(shù)的創(chuàng)新提高到商品同樣要經(jīng)過四個(gè)階段，第一階段進(jìn)行基礎(chǔ)研究，第二階段進(jìn)行應(yīng)用研究，第三階段進(jìn)行產(chǎn)品開發(fā)，第四階段進(jìn)行產(chǎn)品生產(chǎn)。
2021-03-18 15:24:214 2021年12月22日，由中成空間打造的國內(nèi)首個(gè)光伏氣膜60kW發(fā)電項(xiàng)目，正式并網(wǎng)發(fā)電。該項(xiàng)目通過特殊的技術(shù)手段，在原氣膜上鋪設(shè)柔性單晶硅光伏板，將光伏與氣膜有效結(jié)合，不僅能為火力發(fā)電、鋼鐵、港口
2021-12-27 15:41:01701 在半導(dǎo)體制造中，許多芯片工藝步驟采用光刻技術(shù)，用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜(也稱作“掩模”)，其作用是在硅片上選定的區(qū)域中對一個(gè)不透明的圖形模板遮蓋，繼而下面的腐蝕或擴(kuò)散將只影響選定的區(qū)域以外
2022-03-07 12:49:501221 掩膜版的質(zhì)量會直接影響光刻的質(zhì)量，掩膜版上的制造缺陷和誤差也會伴隨著光刻工藝被引入到芯片制造中。因此，掩膜版是下游產(chǎn)品精度和質(zhì)量的決定因素之一。
2022-06-21 15:08:185432 
路維光電主要從事掩膜版的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，產(chǎn)品主要涵蓋平板顯示掩膜版、半導(dǎo)體掩膜版兩大系列。作為國內(nèi)首家打破國外廠商半色調(diào)掩膜版技術(shù)壟斷，并建立國內(nèi)首條G11超高世代掩膜版生產(chǎn)線的企業(yè)，其在科創(chuàng)板上市引起廣泛關(guān)注。
2022-08-18 15:13:491616 摘要：本文著重闡述了鋰離子電池中負(fù)極表面的“固體電解質(zhì)界面膜”(SEI 膜) 的成膜機(jī)理，并通過參考文獻(xiàn)分析了SEI膜形成過程中可能的影響因素。
2022-10-31 14:47:587557 和晶圓制造工藝類似，圖形放置位置是光掩膜量測中相當(dāng)重要的一部份。完整的芯片設(shè)計(jì)不僅對每一層光掩膜的特征圖形位置有嚴(yán)格的精準(zhǔn)度要求，并且為了得到能正常運(yùn)行的電子組件
2022-11-07 11:43:165329 不同的語音IC芯片除了內(nèi)容詞條不同，最直觀的就在于封裝上的差異處，那語音芯片掩膜中SOP封裝與DIP封裝不同之處在哪里？
2022-11-15 14:03:112387 
華映科技公開的應(yīng)用在OLED顯示面板上的掩膜板貼合系統(tǒng)及方案，該方案能夠保證金屬掩膜板四個(gè)角平衡地貼合在襯底玻璃基板上面，既不產(chǎn)生縫隙，也不會壓彎襯底玻璃基板，從而大大提高產(chǎn)品的質(zhì)量。 集微網(wǎng)
2022-11-21 10:28:371868 
掩膜版（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。
2023-01-09 10:52:074926 2023年1月11日富巴傳感科技（成都）有限公司購地自建的，富巴壓力傳感器中國總部及生產(chǎn)基地項(xiàng)目在成都高新西區(qū)正式開工。 成都高新區(qū)電子信息產(chǎn)業(yè)局、北京智路資產(chǎn)管理有限公司、成都高新策源投資集團(tuán)
2023-01-14 01:18:321924 目前國產(chǎn)化的推進(jìn)，半導(dǎo)體公司對于掩膜版的需求也不斷增加；同時(shí)半導(dǎo)體材料處于整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈的上游環(huán)節(jié)，這也將對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展起著重要的作用....
2023-04-15 15:56:3213877 3337.50萬股，募集6.63億元資金，用于高端半導(dǎo)體芯片掩膜版制造基地項(xiàng)目等。 龍圖光罩無控股股東，柯漢奇、葉小龍、張道谷為龍圖光罩的共同實(shí)際控制人，他們分別持有龍圖光罩26.33%、26.33%、19.56%的股份，三人合計(jì)控制龍圖光罩75.99%股權(quán)。天眼查
2023-06-01 01:15:032324 
，將設(shè)計(jì)在掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上形成集成電路。本設(shè)備是專門針對企業(yè)及科研單位研發(fā)的一種精密光刻機(jī)，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面
2022-12-20 09:24:263273 
光掩膜版基本上是 IC 設(shè)計(jì)的“主模板”。掩模版有不同的尺寸。常見尺寸為 6 x 6 英寸一般的掩膜版由石英或玻璃基板組成。光掩膜版涂有不透明薄膜。更復(fù)雜的掩模版使用其他材料。
2023-09-24 15:18:347048 
其中，步進(jìn)投影式光刻機(jī)（stepper）的一個(gè)shot一個(gè)shot進(jìn)行曝光的，并不是一整張晶圓同時(shí)曝光，那么stepper的shot是什么樣的？多大尺寸？需要多大的掩膜版？
2023-10-09 18:13:2611761 
近日報(bào)道，由于中國芯片制造公司和晶圓代工廠對光掩膜的需求仍然非常強(qiáng)勁，光掩膜市場的短缺情況并未得到緩解，預(yù)計(jì)到2024年光掩膜的價(jià)格將上漲。
2023-11-29 18:25:092329 會通股份公司在安徽蕪湖市三山經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)舉行了盛大的鋰電池濕法隔離膜項(xiàng)目開工儀式。這個(gè)基地總投資高達(dá)20億元，一旦建成，將具備每年生產(chǎn)17億平方米濕法隔離膜的能力。
2024-01-02 16:41:521014 掩膜版保護(hù)膜，mask pellicle，是一種透明的薄膜，在生產(chǎn)中覆蓋在掩膜版的表面。顧名思義，主要對掩膜版起物理與化學(xué)保護(hù)作用。
2024-01-04 18:15:082634 
微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移母版掩膜版（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，是圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。
2024-01-06 11:33:5549325 
鑒于掩膜版制作技術(shù)難度大，故我國在 130nm 及其以下制程節(jié)點(diǎn)對國外進(jìn)口的依賴程度較深。據(jù)蘇州工業(yè)園區(qū)一網(wǎng)通辦公布的信息，江蘇路芯半導(dǎo)體科技是蘇州路行維遠(yuǎn)、蘇州產(chǎn)業(yè)基金和睿興投資三家機(jī)構(gòu)聯(lián)手打造的
2024-01-19 14:09:082039 根據(jù)蘇州工業(yè)園區(qū)融媒體中心報(bào)道，江蘇路芯半導(dǎo)體科技有限公司，由業(yè)界頂級企業(yè)與金融巨頭聯(lián)合創(chuàng)立，主要研發(fā)和生產(chǎn)低至28nm，高端至45nm甚至更高節(jié)點(diǎn)的掩膜版，產(chǎn)品研發(fā)與生產(chǎn)規(guī)模居于行業(yè)前列。
2024-01-24 14:33:482457 據(jù)悉，佛山清溢微電子有限公司就是深圳清溢光電股份有限公司（以下簡稱為“清溢光電”）在佛山設(shè)立的分公司。該公司創(chuàng)立于1997年，至2019年已成功上市；主營業(yè)務(wù)涵蓋了掩膜版的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造及銷售。
2024-01-30 14:34:412313 該公司自創(chuàng)建以來始終致力于掩膜版的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造以及銷售業(yè)務(wù)，目前已成為國內(nèi)唯一擁有涉及平板顯示器和半導(dǎo)體掩膜版的完整產(chǎn)業(yè)鏈的企業(yè)，也是我國最大的平板顯示掩膜版制造商之一。
2024-03-19 09:41:27797 ，相互配合才可能完成。其中光學(xué)掩膜的質(zhì)量直接關(guān)系到芯片最終的良品率。 近日，來自著名的瑞士保羅謝勒研究所的研究人員報(bào)告了一種光化無透鏡成像方法可以用于檢測極紫外(EUV)掩膜，可用于完善先進(jìn)芯片制程生產(chǎn)工藝。 圖1：本文
2024-05-10 06:34:20955 
據(jù)重慶兩江新區(qū)官微消息，近日，重慶邁特光電有限公司光掩膜版項(xiàng)目自去年4月開工以來，經(jīng)過1年多的建設(shè)，正在積極推動試產(chǎn)前序工作，預(yù)計(jì)今年底開始正式投產(chǎn)。 據(jù)悉，重慶邁特光電有限公司由HOYA（豪雅
2024-05-15 17:20:481140 
130nm-65nm 的 PSM 和 OPC 工藝的掩膜版開發(fā)和 28nm 半導(dǎo)體芯片所需的掩膜版工藝開發(fā)規(guī)劃。 此外，高端半導(dǎo)體掩膜版生產(chǎn)基地建設(shè)項(xiàng)目主要設(shè)備已下單，設(shè)備交期總體較之前預(yù)計(jì)縮短，未受到海外限制政策限制的影響，目前佛山生產(chǎn)基地項(xiàng)目已進(jìn)入廠房建設(shè)階段
2024-05-17 16:16:37994 ? 基于掩膜的傳統(tǒng)光刻技術(shù)，其成本正呈指數(shù)級攀升。而無掩膜的電子束光刻技術(shù)提供了補(bǔ)充性選項(xiàng)，可以幫助芯片制造商更快地將產(chǎn)品推向市場。電子束光刻技術(shù)采用電子束在硅晶圓上生成圖案，無需等待掩膜制造過程
2024-05-22 18:41:413965 近日，江蘇省鹽城市建湖縣在高新區(qū)隆重舉行了一場重大產(chǎn)業(yè)項(xiàng)目推進(jìn)暨開工活動。此次活動的主角是貝迪膜材料項(xiàng)目，該項(xiàng)目計(jì)劃總投資高達(dá)20億元，標(biāo)志著建湖縣在產(chǎn)業(yè)升級道路上邁出了堅(jiān)實(shí)步伐。
2024-06-03 10:05:471153 計(jì)算機(jī)圖形軟件設(shè)計(jì)微通道，?并將設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)換為圖形文件。?這些設(shè)計(jì)圖形隨后被用于指導(dǎo)掩膜版的制作。? 在制版階段，?設(shè)計(jì)好的圖形通過直寫光刻設(shè)備（?如激光直寫光刻機(jī)或電子束光刻機(jī)）?在玻璃/石英基片上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)
2024-08-08 14:56:05929 半導(dǎo)體掩膜版制造工藝及流程 掩膜版（Photomask）又稱光罩，是液晶顯示器、半導(dǎo)體等制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具。光掩膜基版是制作微細(xì)光掩膜圖形的理想感光性空白板，被刻蝕上掩膜圖形
2024-08-19 13:20:434314 
光刻掩模是光的一種掩蔽模片，其作用有類似于照相的通過它，可以使它“底下“的光劑部分成光，難溶于有機(jī)藥品，一部分不感光，易溶于有機(jī)藥品，以而制得選擇擴(kuò)散所需的窗口和互速所需的圖案。 掩膜版有兩種：一種
2024-09-04 14:55:551014 掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色，它們的功能和作用各有側(cè)重，但共同促進(jìn)了芯片的精確制造。? 掩膜版?，也稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版，是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移母版。它的主要功能
2024-09-06 14:09:472516 掩膜版產(chǎn)品誕生至今約70多年，是電子制造行業(yè)中使用的生產(chǎn)制具。由于掩膜版技術(shù)演變較慢，下游運(yùn)用廣泛且不同行業(yè)對掩膜版的性能、成本等要求不同，不同代別的產(chǎn)品存續(xù)交疊期長，如第二代菲林掩膜版誕生
2024-09-10 14:00:531503 
使用計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)(CAD)軟件來實(shí)現(xiàn)。設(shè)計(jì)好后，會生成一個(gè)掩模圖案的數(shù)據(jù)文件。 2. 選擇基板 選擇適當(dāng)?shù)幕宀牧鲜侵谱鞴饪?b class="flag-6" style="color: red">掩膜的重要環(huán)節(jié)。常用的基板材料是石英或玻璃。基板應(yīng)該具有高透明度、低膨脹系數(shù)、高抗拉強(qiáng)度等特性。 3. 涂覆
2024-09-14 13:26:222269 想必大家都有所了解，光刻機(jī)對芯片制造的重要性，而光掩膜版又稱光罩，光掩膜等； 光掩膜版是由制造商通過光刻制版工藝將電路圖刻制于基板上制作而成，主要作用體現(xiàn)為利用已設(shè)計(jì)好的圖案，通過透光與非透光方式
2024-10-09 14:24:531578 光刻掩膜（也稱為光罩）和模具在微納加工技術(shù)中都起著重要的作用，但它們的功能和應(yīng)用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微納加工技術(shù)中常用的光刻工藝所使用的圖形母版。它由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成
2024-10-14 14:42:031183 微流控SU8掩膜版的制作是一個(gè)復(fù)雜的工藝過程，涉及到多個(gè)步驟。以下是詳細(xì)的制作流程： 1. 掩膜版設(shè)計(jì) 原理圖設(shè)計(jì)：根據(jù)微流控芯片的設(shè)計(jì)要求，進(jìn)行原理圖設(shè)計(jì)，分析元件需接線方向，設(shè)計(jì)需要在掩膜版上
2024-11-20 16:07:331153 在正性光刻過程中，掩膜版（Photomask）作為圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具，其性能直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。以下是正性光刻對掩膜版的主要要求： 圖案準(zhǔn)確性 在正性光刻中，掩膜版上的圖案需要被準(zhǔn)確
2024-12-20 14:34:311162 本文簡單介紹了極紫外光（EUV）掩膜版的相關(guān)知識，包括其構(gòu)造與作用、清洗中的挑戰(zhàn)以及相關(guān)解決方案。
2024-12-27 09:26:161308 ?? 光刻掩膜簡介 ?? ? 光刻掩膜（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，通常簡稱“mask”，是半導(dǎo)體制造過程中用于圖案轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具，對于光刻工藝的重要性不弱于光刻機(jī)、光刻膠
2025-01-02 13:46:225050 
正性光刻對掩膜版的要求主要包括以下幾個(gè)方面： 基板材料：掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、穩(wěn)定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料，因?yàn)樗哂休^低的熱膨脹系數(shù)，能夠在溫度變化時(shí)保持尺寸穩(wěn)定
2025-02-17 11:42:17856 掩膜版與光罩的區(qū)別與應(yīng)用 掩膜版和光罩是半導(dǎo)體制造過程中的兩個(gè)重要概念，它們雖然都扮演著不可或缺的角色，但存在一些區(qū)別。 掩膜版和光罩的概念及作用 掩膜版：用于制作芯片的模板，通常由透明或半透明
2025-02-18 16:42:281004 ，光掩膜版的市場需求也在快速增長。 掩膜版，也稱為光掩膜基版或光罩，是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。在光刻過程中，掩膜版起到設(shè)計(jì)圖形的載體作用。通過光刻工
2025-02-19 16:33:121048 。 然而，隨著摩爾定律逼近物理極限，傳統(tǒng)掩模設(shè)計(jì)方法面臨巨大挑戰(zhàn)，以2nm制程為例，掩膜版上的每個(gè)圖形特征尺寸僅為頭發(fā)絲直徑的五萬分之一，任何微小誤差都可能導(dǎo)致芯片失效。對此，新思科技（Synopsys）推出制造解決方案，尤其是
2025-05-16 09:36:475598 
目錄一、什么是掩膜版：定義、分類二、掩膜版制造加工工藝：關(guān)鍵參數(shù)量測及檢測三、掩膜版產(chǎn)業(yè)鏈：產(chǎn)業(yè)鏈、結(jié)構(gòu)與成本四、掩膜版技術(shù)演變：OPC和PSM五、半導(dǎo)體掩膜版：市場及行業(yè)特征六、平板顯示掩膜
2025-06-07 05:59:512003
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