電子發燒友網報道（文/周凱揚）在上游的半導體制造產業中，除了***等設備外，光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質量與良率的關鍵因素。就拿掩膜版來說，這個承載設計圖形的材料，經過曝光后將圖形信息轉移到晶圓上。

掩膜版的精度、尺寸乃至瑕疵，都會對光刻這一流程的結果造成影響。正因如此，掩膜版成了半導體芯片的重要上游材料之一，哪怕其并不會出現在終端產品之上。就連與之配套的Mask Writer設備、防護膜等，也都是不小的產業。

不過對于大部分晶圓廠來說，他們確實更傾向于自制掩膜版，成熟工藝的掩膜版再轉向第三方采購。那么國產第三方半導體掩膜版廠商和國際大廠的現狀如何，我們不妨拿兩家代表性廠商對比一下。

Photronics

作為全球最大的第三方掩膜版廠商之一，Photronics是目前少數幾家目前可以提供先進工藝所需掩膜版的廠商之一，甚至已經開始提供EUV掩膜版產品。其二元OPC掩膜版已經可以支持到14nm到28nm的工藝節點，而PSM相移技術的加入，進一步提高了圖形曝光分辨率，使其得以突破14nm，乃至提供5nm及之后節點的EUV掩膜版。

哪怕是在半導體行業有所萎靡的當下，Photronics依然在第二季度創造了業績記錄，其中來自半導體掩膜版的收入同比增長了15%。不過這還是取決于全球晶圓廠在成熟工藝產能擴張上的推進，以及半導體掩膜版的單價有所改善。反倒是28nm以下的高端工藝帶來的需求有所下滑，不過結合不少亞洲晶圓廠的高端工藝產能利用率情況來看，也就不意外了。

值得注意的是，根據其最新的財報會議透露的內容，Photronics已經開始在今年第二季度出貨他們的首個EUV DRAM掩膜版了，所以對于美光、三星等客戶來說，選擇Photronics的概率一下就變大了。

龍圖光罩

雖然從營收總額來看，國內清溢光電和路維光電兩家上市企業占大頭，但從營收占比的角度來看，相較這兩家這樣更加專注在平板顯示掩膜版的企業，龍圖光罩則專注于精度要求更高且毛利率更高的半導體掩膜版。從其營業收入就可以看出，最近三年龍圖光罩的營收年復合增長率達到了75.09%，去年營業收入也達到了1.61億元，來自半導體掩膜版的收入占比高達85.44%。

相對國際大廠來說，目前的龍圖光罩主要專注于特色工藝的半導體掩膜版制造。從其現有工藝水平來看，龍圖光罩在國內已經達到了領先水平，可以提供130nm工藝節點所需的掩膜版。得益于這一技術突破，龍圖光罩已經可以為MEMS傳感器、IGBT、MOSFET、射頻器件等產品的制造提供掩膜版，也因此收獲了中芯集成、士蘭微、比亞迪等一系列客戶。

從其招股書中的募集資金投資項目來看，龍圖光罩將專心發展高端半導體掩膜版的制造和研發，比如對KrF和ArF掩膜技術的攻關等。這也意味著龍圖光罩開始朝更高的半導體工藝進發，從而加速實現國產替代。

寫在最后

顯而易見，目前半導體掩膜版市場主要玩家還是歐美與日本公司，國產廠商目前還是主要在成熟工藝可用的掩膜版上發力，甚至落后于國內目前的晶圓制造工藝。但在大力發展半導體制造行業的背景下，國產廠商仍在推動更先進工藝下的掩膜版制造。

比如龍圖光罩就計劃在未來繼續深耕特色工藝，實現最高65nm的工藝節點的掩膜版量產，并逐漸開始實現模擬芯片、MCU、DSP和CIS芯片所用掩膜板的替代。哪怕是半導體掩膜版營收占比不高的清溢光電，也已經在開展130nm-65nm半導體芯片掩膜版的研發，甚至已經開始規劃28nm半導體芯片所需的掩膜版工藝開發。由此看來，半導體掩膜版的國產替代雖然道阻且長，但依然前景廣闊。