掩膜版作為微納加工技術中光刻工藝所使用的圖形母版，在IC、平版顯示器、印刷電路版、微機電系統等領域具有廣泛的應用。隨著信息技術和智能制造的快速發展，特別是智能手機、平板電腦、車載電子等市場的快速增長，光掩膜版的市場需求也在快速增長。
掩膜版，也稱為光掩膜基版或光罩，是微電子制造過程中的圖形轉移工具或母版，是承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的載體。在光刻過程中，掩膜版起到設計圖形的載體作用。通過光刻工藝，掩膜版上的設計圖形被轉移到光刻膠上，然后經過刻蝕，將圖形刻到襯底上，從而實現圖形到硅片的轉移。掩膜版是光刻過程中的關鍵部件，其性能的好壞直接影響光刻的效果。
鉻板掩膜和光刻掩膜的區別
鉻板掩膜是光刻掩膜其中的一種類別，兩者在材質、應用場景等方面存在一定區別：
材質特性
鉻板掩膜：通常基于高純度、低反射率、低熱膨脹系數的石英玻璃基板，其不透光層是通過濺射方法鍍在玻璃下方厚度約 0.1um 的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小，雖不易受損但有可能被玻璃傷害。
光刻掩膜：由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，待加工的光刻掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構成，其材質更為寬泛，基板常見的還有蘇打玻璃。
應用場景
鉻板掩膜：具有高敏感度特性的鉻板掩膜應用于芯片制造，此外還能用于 LCD、PCB 等方面。
光刻掩膜：應用范圍十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用，包括 IC（集成電路）、FPD（平板顯示器）、PCB（印刷電路板）、MEMS（微機電系統）等。
所屬關系
鉻板掩膜：屬于光刻掩膜其中一個具體類型。
光刻掩膜：光刻掩膜是一個更大的概念。常見的光刻掩膜除了鉻版外，還有干版，凸版、液體凸版等種類，其中干版涂附的乳膠，硬度小且易吸附灰塵，不過干版還有包膜和超微顆粒干版，后者可應用于芯片制造 。
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審核編輯 黃宇