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意法半導體與 Soitec 就碳化硅襯底制造技術達成合作

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2024-01-29 14:36:571705

芯動半導體半導體簽署碳化硅戰略合作協議

近日,國內領先的半導體企業芯動半導體與國際知名半導體供應商半導體成功簽署碳化硅(SiC)芯片戰略合作協議。這一協議的達成,標志著雙方在SiC功率模塊領域的合作邁出了堅實的一步,將共同推動SiC芯片在新能源汽車市場的廣泛應用。
2024-03-15 09:44:431103

SiCrystal與半導體新簽協議,擴大碳化硅襯底供應

羅姆與服務多重電子應用領域、全球排名前列的半導體公司半導體(簡稱ST)宣布,雙方將在意半導體與羅姆集團旗下SiCrystal公司現有的150mm(6英寸)碳化硅(SiC)襯底晶圓多年長期供貨協議基礎上,
2024-04-23 10:17:57957

羅姆旗下SiCrystal與半導體新簽協議,擴大碳化硅襯底供應

代碼:STM) 宣布,雙方將在意半導體與羅姆集團旗下SiCrystal公司現有的150mm (6英寸) 碳化硅 (SiC) 襯底晶圓多年長期供貨協議基礎上,繼續擴大合作。根據新簽署的長期供貨協議
2024-04-26 11:30:001058

羅姆集團旗下SiCrystal與半導體新簽協議

羅姆集團與全球知名的半導體巨頭半導體(簡稱ST)近日共同宣布,雙方將深化合作關系,進一步擴展在碳化硅(SiC)襯底晶圓領域的合作。此次合作基于雙方現有的針對150mm(6英寸)碳化硅襯底晶圓的多年長期供貨協議,半導體將獲得羅姆集團旗下SiCrystal公司更大量的碳化硅襯底晶圓供應。
2024-05-07 10:16:491123

X-Fab與Soitec攜手推進碳化硅功率器件生產

近日,純晶圓代工廠X-Fab與Soitec宣布將開展深度合作,共同推動碳化硅(SiC)功率器件的生產。此次合作將依托X-Fab位于德克薩斯州拉伯克的工廠,利用Soitec的SmartSiC技術生產碳化硅功率器件。
2024-05-30 11:39:201196

半導體50億歐元建廠!

來源:國芯網,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 6月2日消息,半導體宣布將在意大利卡塔尼亞建設世界首個全流程垂直集成的碳化硅工廠。 在該園區中,半導體將整合碳化硅產業鏈從襯底開發到外延生長
2024-06-04 09:34:281497

半導體與吉利汽車深化碳化硅器件合作

近日,汽車電子領域的佼佼者半導體(簡稱ST)與全球知名汽車及新能源汽車制造商吉利汽車集團宣布了一項重要合作。雙方已簽署碳化硅(SiC)器件的長期供應協議,標志著雙方在原有合作基礎上,對碳化硅器件的聯合研發與應用將邁入新的階段。
2024-06-04 14:30:471236

半導體(ST)在意大利打造世界首個一站式碳化硅產業園

。 ??卡塔尼亞碳化硅產業園將實現ST的碳化硅制造全面垂直整合計劃,在一個園區內完成從芯片研發到制造、從晶圓襯底到模塊的碳化硅功率器件全部生產,賦能汽車和工業客戶的電氣化進程和高能效轉型。 半導體(簡稱ST)宣布將在意大利卡塔
2024-06-06 09:15:261623

半導體與吉利汽車簽署長期碳化硅供應協議

近日,半導體行業的佼佼者半導體(STMicroelectronics)與領先的汽車制造商吉利汽車集團宣布簽署了一份長期碳化硅(SiC)供應協議。此舉不僅鞏固了雙方在SiC器件領域的現有合作,更標志著雙方合作關系的進一步深化。
2024-06-06 09:40:44994

半導體將在意大利新建8英寸SiC工廠

全球半導體行業的領軍企業半導體(簡稱ST)近日宣布,將在意大利卡塔尼亞建立一座全新的綜合性大型制造基地,專注于8英寸碳化硅(SiC)功率器件和模塊的制造、封裝、測試等全流程生產。這一重要舉措不僅體現了半導體碳化硅技術領域的深厚實力,也標志著公司向全面垂直整合碳化硅產業鏈邁出了堅實的一步。
2024-06-07 18:07:053036

重慶三安8英寸碳化硅襯底廠已投產

近日,重慶三安8英寸碳化硅(SiC)襯底廠正式投產,標志著這一高科技項目比預期提前兩個月進入生產階段,為中國電動汽車產業供應鏈注入了強勁動力。該項目由全球領先的半導體制造半導體
2024-09-04 18:07:241531

半導體第四代碳化硅功率技術問世

半導體(簡稱ST)推出第四代STPOWER碳化硅(SiC)MOSFET技術。第四代技術有望在能效、功率密度和穩健性三個方面成為新的市場標桿。在滿足汽車和工業市場需求的同時,半導體還針對
2024-10-12 11:30:592195

半導體與雷諾集團簽署碳化硅長期供貨協議

????????半導體與雷諾集團簽署長期供貨協議,保證安培碳化硅功率模塊的供應安全。
2024-12-05 10:41:211095

半導體STGAP3S系列電隔離柵極驅動器概述

半導體的STGAP3S系列碳化硅(SiC)和 IGBT功率開關柵極驅動器集成了半導體最新的穩健的電隔離技術、優化的去飽和保護功能和靈活的米勒鉗位架構。
2025-01-09 14:48:331280

碳化硅襯底的環吸方案相比其他吸附方案,對于測量碳化硅襯底 BOW/WARP 的影響

半導體領域,隨著碳化硅(SiC)材料因其卓越的電學性能、高熱導率等優勢逐漸嶄露頭角,成為新一代功率器件、射頻器件等制造的熱門襯底選擇,對碳化硅襯底質量的精準把控愈發關鍵。其中,碳化硅襯底的 BOW
2025-01-13 14:36:13394

不同的碳化硅襯底的吸附方案,對測量碳化硅襯底 BOW/WARP 的影響

在當今蓬勃發展的半導體產業中,碳化硅(SiC)襯底作為關鍵基礎材料,正引領著高性能芯片制造邁向新的臺階。對于碳化硅襯底而言,其 BOW(彎曲度)和 WARP(翹曲度)參數猶如精密天平上的砝碼,細微
2025-01-14 10:23:10400

碳化硅襯底的生產過程

碳化硅(SiC)作為一種寬禁帶半導體材料,因其出色的物理和化學特性,如高硬度、高熔點、高熱導率和化學穩定性,在半導體產業中得到了廣泛的應用。SiC襯底制造高性能SiC器件的關鍵材料,其生產過程復雜
2025-02-03 14:21:001983

碳化硅襯底的特氟龍夾具相比其他吸附方案,對于測量碳化硅襯底 BOW/WARP 的影響

一、引言 隨著碳化硅半導體等領域的廣泛應用,對其襯底質量的檢測愈發關鍵。BOW(翹曲度)和 WARP(彎曲度)是衡量碳化硅襯底質量的重要參數,準確測量這些參數對于保證器件性能至關重要。而不同的吸附
2025-01-23 10:30:54286

碳化硅半導體中的作用

碳化硅(SiC)在半導體中扮演著至關重要的角色,其獨特的物理和化學特性使其成為制作高性能半導體器件的理想材料。以下是碳化硅半導體中的主要作用及優勢: 一、碳化硅的物理特性 碳化硅具有高禁帶寬度、高
2025-01-23 17:09:352673

三安光電與半導體重慶8英寸碳化硅項目通線

三安光電和半導體于2023年6月共同宣布在重慶成立8英寸碳化硅晶圓合資制造廠(安半導體有限公司,簡稱安),全面落成后預計總投資約為230億元人民幣(約32億美元)。該合資廠預計將在2025年四季度投產,屆時將成為國內首條8英寸車規級碳化硅功率芯片規?;慨a線。
2025-02-27 18:12:341593

合資工廠通線啟示:國產自主品牌碳化硅功率半導體的自強之路

近日,三安光電與半導體在重慶合資設立的安半導體碳化硅晶圓工廠正式通線,預計2025年四季度批量生產,形成了合資碳化硅功率器件的鯰魚效應,結合過去二十年合資汽車和自主品牌的此消彼長發展歷程,不難看出國產碳化硅功率半導體必須走自立自強與突圍之路:從合資依賴到自主創新的路徑分析。
2025-03-01 16:11:141016

半導體與重慶郵電大學達成戰略合作

日前,服務多重電子應用領域、全球排名前列的半導體公司半導體(ST)與重慶郵電大學在重慶安半導體碳化硅晶圓廠通線儀式后的“碳化硅產業發展論壇”上正式簽署產學研戰略合作協議。
2025-03-21 09:39:241358

碳化硅晶圓特性及切割要點

01襯底碳化硅襯底是第三代半導體材料中氮化鎵、碳化硅應用的基石。碳化硅襯底碳化硅粉末為主要原材料,經過晶體生長、晶錠加工、切割、研磨、拋光、清洗等制造過程后形成的單片材料。按照電學性能
2025-07-15 15:00:19962

【新啟航】如何解決碳化硅襯底 TTV 厚度測量中的各向異性干擾問題

摘要 本文針對碳化硅襯底 TTV 厚度測量中各向異性帶來的干擾問題展開研究,深入分析干擾產生的機理,提出多種解決策略,旨在提高碳化硅襯底 TTV 厚度測量的準確性與可靠性,為碳化硅半導體制造工藝提供
2025-08-08 11:38:30659

激光干涉碳化硅襯底 TTV 厚度測量中的精度提升策略

提供理論與技術支持。 引言 隨著碳化硅半導體產業的蓬勃發展,對碳化硅襯底質量要求日益嚴苛,晶圓總厚度變化(TTV)作為關鍵質量指標,其精確測量至關重要。激光干涉
2025-08-12 13:20:16779

碳化硅襯底 TTV 厚度測量數據異常的快速診斷與處理流程

,為半導體制造工藝的穩定運行提供支持。 引言 在碳化硅半導體制造過程中,TTV 厚度測量數據是評估襯底質量的關鍵依據。然而,受測量設備性能波動、環境變化、樣品特性
2025-08-14 13:29:381028

【新啟航】國產 VS 進口碳化硅襯底 TTV 厚度測量儀的性價比分析

本文通過對比國產與進口碳化硅襯底 TTV 厚度測量儀在性能、價格、維護成本等方面的差異,深入分析兩者的性價比,旨在為半導體制造企業及科研機構選購測量設備提供科學依據,助力優化資源配置。 引言 在
2025-08-15 11:55:31707

【新啟航】探針式碳化硅襯底 TTV 厚度測量儀的操作規范與技巧

摘要 本文圍繞探針式碳化硅襯底 TTV 厚度測量儀,系統闡述其操作規范與實用技巧,通過規范測量流程、分享操作要點,旨在提高測量準確性與效率,為半導體制造過程中碳化硅襯底 TTV 測量提供標準化操作
2025-08-20 12:01:02552

探針式碳化硅襯底 TTV 厚度測量儀的操作規范與技巧

本文圍繞探針式碳化硅襯底 TTV 厚度測量儀,系統闡述其操作規范與實用技巧,通過規范測量流程、分享操作要點,旨在提高測量準確性與效率,為半導體制造過程中碳化硅襯底 TTV 測量提供標準化操作指導
2025-08-23 16:22:401083

碳化硅襯底 TTV 厚度測量技術的最新發展趨勢與未來展望

摘要 本文聚焦碳化硅襯底晶圓總厚度變化(TTV)厚度測量技術,剖析其在精度提升、設備小型化及智能化測量等方面的最新發展趨勢,并對未來在新興應用領域的拓展及推動半導體產業發展的前景進行展望,為行業技術
2025-09-01 11:58:10840

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