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基于選擇性紫外光刻的光纖微圖案化

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2025-05-08 09:21:481289

半導體選擇性外延生長技術的發展歷史

選擇性外延生長(SEG)是當今關鍵的前端工藝(FEOL)技術之一,已在CMOS器件制造中使用了20年。英特爾在2003年的90納米節點平面CMOS中首次引入了SEG技術,用于pMOS源/漏(S/D
2025-05-03 12:51:003633

光刻圖形轉化軟件免費試用

光刻圖形轉化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導體通用格式的圖紙轉換成如bmp或者tiff格式進行掩模版加工制造,在掩膜加工領域或者無掩膜光刻領域不可或缺,在業內也被稱為矢量圖形光柵軟件
2025-05-02 12:42:10

光纖VS 同軸互連:如何選擇正確的高速測試方案?

在當今蓬勃發展的測試與測量領域,選擇正確的互連解決方案對于確保準確、可靠和高速的數據傳輸至關重要。光纖和同軸電纜是行業的主流選擇,在不同的應用場景中,它們各自擁有獨特的優勢與局限性。本文探討了光纖與同軸互連的主要差異,并為高速測試環境下的理想解決方案選擇提供了指導。
2025-04-29 14:06:121028

光刻膠的類型及特性

光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:337833

基于激光摻雜與氧化層厚度調控的IBC電池背表面場區圖案技術解析

IBC太陽能電池因其背面全電極設計,可消除前表面金屬遮擋損失,成為硅基光伏技術的效率標桿。然而,傳統圖案技術(如光刻、激光燒蝕)存在工藝復雜或硅基損傷等問題。本研究創新性地結合激光摻雜與濕法氧化
2025-04-23 09:03:43722

新一代光纖涂覆機

,效率顯著提升,實現“一加一大于二”的效果。 適用場景:多光纖并行處理,適合大規模生產。 雙路注膠系統光纖涂覆機 特點:出口級產品,具備雙系統備份和固態封裝設計,可10年免維護,可靠。 適用
2025-04-03 09:13:01

多芯光纖MCF(Multicore Fiber)互聯

的應用需要解決一系列多芯光纖連接、多芯光纖與傳統光纖的連接等問題,需要開發MCF光纖連接器、實現MCF-SCF轉換的扇入扇出器件等周邊相關組件產品,并考慮與現有技術和商用技術的兼容和通用。 多芯
2025-04-01 11:33:40

光纖涂覆質量金標準實施總結匯報

滿足硬度和曲度的增減轉換,適應不同需求 實施效果 : ? 適配傳感光纖/通信光纖差異化需求 ? 客戶定制響應周期縮短80% ? 特殊場景訂單量增長200% 金標準⑥ 高效均勻固化技術 技術突破
2025-03-28 11:45:04

光刻工藝的主要流程和關鍵指標

光刻工藝貫穿整個芯片制造流程的多次重復轉印環節,對于集成電路的微縮和高性能起著決定性作用。隨著半導體制造工藝演進,對光刻分辨率、套準精度和可靠的要求持續攀升,光刻技術也將不斷演化,支持更為先進的制程與更復雜的器件設計。
2025-03-27 09:21:333276

紫外線對產品的影響及紫外老化試驗的重要

紫外線對產品的危害紫外線,作為電磁波譜中紫光之外的不可見光,其對產品的破壞不容忽視。在眾多外界因素中,紫外線是導致材料性能劣變的關鍵因素之一。材料或產品在加工、貯存或使用過程中,會受到熱、光、氧
2025-03-26 15:34:441506

PCB的某專業詞匯,眾AI來了也有爭議,究竟誰的答案更專業

膠(或其他感光材料)上時,光子能量被光刻膠分子吸收,使分子內部能量升高并引發化學反應,通常為化學鍵的斷裂或者交聯等反應。然后通過顯影過程選擇性去除特定區域的光刻膠形成期望的圖形。不同類型和波長的激光可以
2025-03-25 17:42:21

選擇光纖線需考慮哪些關鍵因素

選擇光纖線的好壞需綜合考慮以下關鍵因素,以確保性能、成本和需求的平衡: 1. 確定應用場景與需求 傳輸距離: 短距離(≤500米):多模光纖(MMF)更經濟,適合數據中心、局域網。 長距離(≥500
2025-03-19 10:06:301278

半導體材料介紹 | 光刻膠及生產工藝重點企業

體。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時,若采用適當的有選擇性光刻膠,可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正、負兩大類
2025-03-18 13:59:533016

什么是高選擇性蝕刻

不同材料的刻蝕速率比,達到?>5:1?甚至更高的選擇比標準?。 一、核心價值與定義 l?精準材料去除? 高選擇性蝕刻通過調整反應條件,使目標材料(如多晶硅、氮化硅)的刻蝕速率遠高于掩膜或底層材料(如氧化硅、光刻膠),實現
2025-03-12 17:02:49809

芯片封裝中的焊點圖案設計

之間的電氣連接方式和性能。焊點圖案設計不僅需要考慮電氣性能和可靠,還需要兼顧散熱、制造工藝和成本控制。
2025-03-06 16:44:181603

22.0%效率的突破:前硅多晶硅選擇性發射極雙面TOPCon電池的制備與優化

隨著全球能源需求的增長,開發高效率太陽能電池變得尤為重要。本文旨在開發一種成本效益高且可擴展的制備工藝,用于制造具有前側SiOx/多晶硅選擇性發射極的雙面TOPCon太陽能電池,并通過優化工藝實現
2025-03-03 09:02:291206

VirtualLab Fusion應用:泰伯效應

光刻中得到了常規應用。 利用快速物理光學建模和設計軟件VirtualLab Fusion的場跟蹤技術,可以充分研究這種效應及其應用。請看下面的例子,在這些例子中,我們用線性和交叉圖案演示Talbot效應
2025-02-26 08:49:53

保密通信之紫外光無線通信!

紫外光通信的應用場景十分廣泛,它正逐漸滲透到我們生活的各個角落。在軍事領域,紫外光通信可用于戰場短距離保密通信。在戰場上,士兵們可以利用紫外光通信設備,在不暴露自身位置的情況下,安全地傳遞情報和指令
2025-02-21 13:32:511000

什么是光刻機的套刻精度

在芯片制造的復雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環節。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關鍵指標。簡單來說,它就像建造摩天大樓
2025-02-17 14:09:254467

光刻對掩膜版有何要求

光刻對掩膜版的要求主要包括以下幾個方面: 基板材料:掩膜版的基板材料需要具有良好的透光、穩定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料,因為它具有較低的熱膨脹系數,能夠在溫度變化時保持尺寸穩定
2025-02-17 11:42:17855

365nm紫外點光源固化燈的特點、優勢與應用

在現代制造業中,紫外光固化技術已成為一種高效、環保的固化方式,廣泛應用于涂料、油墨、膠水等多個領域。紫外點光源固化燈,尤其是365nm波長的紫外燈,因其獨特的光學性能和應用優勢,成為高精度固化過程中
2025-02-13 15:44:392484

納米壓印技術:開創下一代光刻的新篇章

光刻技術對芯片制造至關重要,但傳統紫外光刻受衍射限制,摩爾定律面臨挑戰。為突破瓶頸,下一代光刻(NGL)技術應運而生。本文將介紹納米壓印技術(NIL)的原理、發展、應用及設備,并探討其在半導體制造中
2025-02-13 10:03:503711

孟穎教授最新Joule:探索電化學過程中軟金屬的選擇性生長

密度。其中,軟金屬在電化學過程中通過晶粒選擇性生長形成的紋理是一個影響功率和安全的關鍵因素。 在此,美國芝加哥大學Ying Shirley Meng(孟穎)教授和美國密西根大學陳磊教授等人制定了一個通用的熱力學理論和相場模型來研究軟金屬的晶粒選擇性生長,研究重點
2025-02-12 13:54:13928

Poly-SE選擇性多晶硅鈍化觸點在n-TOPCon電池中的應用

Poly-SEs技術通過在電池的正面和背面形成具有選擇性的多晶硅層,有效降低了電池的寄生吸收和接觸電阻,同時提供了優異的電流收集能力。在n型TOPCon太陽能電池中,Poly-SEs的應用尤為重要
2025-02-06 13:59:421200

芯片制造:光刻工藝原理與流程

光刻是芯片制造過程中至關重要的一步,它定義了芯片上的各種微細圖案,并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細介紹,包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻
2025-01-28 16:36:003591

選擇性激光蝕刻中蝕刻劑對玻璃通孔錐角和選擇性有什么影響

近來,為提高IC芯片性能,倒裝芯片鍵合被廣泛采用。要實現倒裝芯片鍵合,需要大量的通孔。因此,硅通孔(TSV)被應用。然而,硅有幾個缺點,例如其價格相對較高以及在高射頻下會產生電噪聲。另一方面,玻璃具有適合用作中介層材料的獨特性質,即低介電常數、高透明度和可調節的熱膨脹系數。由于其介電常數低,可避免信號噪聲;由于其透明度,可輕松實現三維對準;由于其熱膨脹可與Si晶片匹配,可防止翹曲。因此,玻璃通孔(TGV )正成為
2025-01-23 11:11:151240

選擇性氧化知識介紹

采用氧化局限技術制作面射型雷射元件最關鍵的差異在于磊晶成長時就必須在活性層附近成長鋁含量莫耳分率高于95%的砷化鋁鎵層,依據眾多研究團隊經驗顯示,最佳的鋁含量比例為98%,主要原因在于這個比例的氧化速率適中,而且氧化后較不容易因為熱應力造成上反射鏡磊晶結構破裂剝離。砷化鋁(AlAs)材料氧化機制普遍認為相對復雜,可能的化學反應過程可能包含下列幾項: 通常在室溫環境下鋁金屬表面自然形成的氧化鋁是一層致密的薄膜,可以
2025-01-23 11:02:331085

如何選擇合適的光纖傳感器

選擇合適的光纖傳感器需要考慮多個因素,以下是一些關鍵的步驟和要點: 一、明確測量需求 測量點數 : 根據需要測量的點數來確定采用“分布式”還是“單點式”傳感器。通常測量點少于20個時,采用“單點式
2025-01-18 10:27:471255

光刻機的分類與原理

本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片光刻機和面板光刻機。面板光刻機的工作原理和芯片光刻機相似
2025-01-16 09:29:456359

工業級PERC、SHJ與TOPCon太陽能電池的紫外線UVID穩定性評估研究

太陽能電池,如直接破壞Si-H鍵、產生熱載流子等。美能復合紫外老化試驗箱進行加速老化測試,該試驗箱能夠提供280至400nm范圍內的紫外光譜,模擬太陽光中的紫外部分,同時
2025-01-10 09:03:312066

? SLA立體光固化成型:一項實現3D打印領域高精度數字模型實體的先鋒技術

,使打印出的成品在視覺和觸覺上更加貼近設計意圖,為后續改進提供了便利。那什么是SLA立體光固化成型技術(以下簡稱SLA技術)呢?其實,它的核心原理就是利用一定波長和強度的紫外光(如波長325nm
2025-01-09 18:57:50

納米壓印光刻技術旨在與極紫外光刻(EUV)競爭

芯片制造、價值1.5億美元的極紫外(EUV,https://spectrum.ieee.org/tag/euv)光刻掃描
2025-01-09 11:31:181280

組成光刻機的各個分系統介紹

? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統。 光刻技術作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要不言而喻。光刻機是實現這一工藝的核心設備,它的工作原理類似于傳統攝影中的曝光過程,但精度要求極高,能夠達到
2025-01-07 10:02:304530

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