其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例,這是決定芯片 圖案能否被精準 刻下來的“感光神經膜”。并且隨著芯片步入 7nm及以下先進制程芯片 時代,不僅需要EUV光刻機,更需要EUV光刻膠的參與。但在過去 國內長期依賴進
2025-10-28 08:53:35
6234 Luminbox太陽光模擬器,精準模擬太空紫外光譜,系統探究了兩種硅橡膠材料在模擬太陽紫外輻照下的結構與性能演變規律,為航天服材料的選用與壽命評估提供理論依據。研
2026-01-05 18:02:03
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您現在正在為一座新園區制定計劃,這里將成為多個總部、研發機構、自動化工廠、以及一兩處停車場的所在地。考慮的一個問題就是連接園區網絡的基礎設施。 1選擇的將會是光纖,然而,是哪種光纖呢? 你們當中
2025-12-25 10:18:05
190 DLP7000UV:高性能紫外光數字微鏡器件的深度解析 在如今的電子科技領域,數字微鏡器件(DMD)在眾多應用中發揮著至關重要的作用。DLP7000UV作為一款專為紫外光應用設計的數控MEMS空間光
2025-12-15 10:50:06
1028 很多朋友在組建網絡時都會遇到一個核心問題:我到底該用多模光纖還是單模光纖?今天,小易就為大家徹底講清楚這兩者的區別,幫助您做出最經濟、高效的選擇。
2025-12-08 14:12:20
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、定位偏差等導致的精度問題。 邁威選擇性波峰焊視覺編程系統以創新的實時在機視覺編程技術,徹底改變了這一現狀。該系統通過高精度工業相機直接對已裝夾的PCB板進行快速掃描與成像,使編程人員能夠基于真實的板卡狀態進行可視化操作,
2025-12-05 08:54:36
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支持 PWM 信號輸入實現亮度(功率)調節,可根據不同殺菌場景(如快速殺菌、長效抑菌)切換紫外光強度,常亮不調光時將 EN 腳與 VDD 腳短接即可,操作便捷。可靠性設計貼合紫外殺菌燈的長期穩定運行
2025-11-28 16:07:03
高分子材料因質輕、耐腐、加工性好等優勢,廣泛應用于汽車、電子電器等領域。太陽光中的紫外輻射是導致戶外高分子材料老化的首要環境因素。為在實驗室內實現可控、可重復及加速的老化研究,太陽光模擬器成為關鍵
2025-11-19 18:03:00
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具備光催化活性,在實際太陽光(含紫外光譜)照射下會激發產生電子-空穴對,引發界面氧化還原反應,導致相鄰鈣鈦礦層的催化分解,嚴重制約了電池的長期運行穩定性。以TiO?
2025-10-27 09:03:59
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一、引言
玻璃晶圓在半導體制造、微流控芯片等領域應用廣泛,光刻工藝作為決定器件圖案精度與性能的關鍵環節,對玻璃晶圓的質量要求極為嚴苛 。總厚度偏差(TTV)是衡量玻璃晶圓質量的重要指標,其厚度
2025-10-09 16:29:24
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EUV(極紫外)光刻技術憑借 13.5nm 的短波長,成為 7nm 及以下節點集成電路制造的核心工藝,其光刻后形成的三維圖形(如鰭片、柵極、接觸孔等)尺寸通常在 5-50nm 范圍,高度 50-500nm。
2025-09-20 09:16:09
592 技術等領域加速老化測試、耐候性評估的核心工具。下文,光子灣科技將從光源選擇、光譜調節、溫控設計、設備選型四個方面,詳解UV紫外鹵素燈太陽模擬器的設計原理。光源選擇
2025-09-17 18:03:18
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隨著AI技術應用越來越廣,算力需求激增,光通信系統正加速向小型化、高密度、多通道方向演進。硅光芯片、高速光模塊等核心器件內部的光纖通道數量成倍增加,波導結構愈發精細,傳統檢測手段因分辨率不足、效率
2025-09-17 17:37:02
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在電子制造行業, 選擇性波峰焊(Selective Wave Soldering,簡稱 SWS) ?已經成為解決局部焊接需求的重要工藝。它能夠在同一塊 PCB 上,對不同區域實現差異化焊接,避免整板
2025-09-17 15:10:55
1010 選擇合適的光纖適配器需綜合考慮接口類型、應用場景、性能參數、兼容性及成本等因素。以下是詳細的選擇指南和實操建議: 一、明確核心需求:接口類型與連接方式 光纖適配器的核心功能是連接不同類型的光纖或設備
2025-09-17 10:11:45
630 一、核心綜合優勢 1.高性價比 在保障性能、可靠性與擴展性的基礎上,有效控制成本,為用戶提供兼具品質與經濟性的選擇,該優勢在需求中多次提及,是設備核心競爭力之一。 2.強靈活性 依托模塊化設計與擴展
2025-09-10 17:11:17
604 那么,選擇性波峰焊和手工焊之間究竟有什么區別呢?它們各自又有哪些優點和缺點? 1.焊接質量 從焊接質量的角度來看,選擇性波峰焊通常優于手工焊接。研究表明,選擇性波峰焊的一致性高達95%以上,而手工
2025-09-10 17:10:05
637 多模光纖型號的選擇需根據傳輸距離、帶寬需求、成本預算及未來擴展性綜合評估,推薦企業按以下場景直接選用對應型號: 一、按傳輸距離與速率需求選擇 短距離( OM3:支持10Gbps傳輸300米,40G
2025-09-10 10:10:06
591 在光纖器件與模塊的規模化制造中,每一個微小的裂紋、瑕疵都可能成為網絡系統中潛在的“定時炸彈”。一些高精度檢測設備雖性能卓越,但其高昂的成本和復雜的操作流程,往往讓大批量、低售價、全檢式的產線
2025-08-29 20:50:43
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選擇性波峰焊以其精準焊接、高效生產和自動化優勢,已成為SMT后段工藝中不可或缺的一環。AST埃斯特憑借領先的技術和優質的產品,為電子制造企業提供了強有力的插件焊接設備解決方案。無論是消費電子還是
2025-08-28 10:11:44
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在電子制造智能化、精細化的趨勢下,選擇一款 高效、穩定、可追溯 的焊接設備,是企業提升競爭力的關鍵。
AST SEL-31 單頭選擇性波峰焊,以 精度、效率與智能化 為核心,為客戶帶來穩定可靠的生產力。無論是 汽車電子、通信設備、工業控制,還是消費電子,AST 都能為您提供量身定制的解決方案。
2025-08-28 10:05:39
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一、為什么通孔焊接需要選擇性波峰焊? 傳統波峰焊(整板浸錫)的痛點: 浪費錫料:僅 10% 通孔需要焊接,其余 90% 焊盤被冗余覆蓋 熱損傷風險:電容、晶振等熱敏元件耐溫<260℃,整板過爐易失效
2025-08-27 17:03:50
686 隨著科技的不斷進步,光纖光譜儀在材料分析、化學分離、環境檢測等領域的應用日益廣泛。而市場上光纖光譜儀的種類繁多,如何選擇一款合適的光纖光譜儀成為了用戶關注的焦點。根據市場研究,預計光譜儀市場自
2025-08-26 16:43:20
586 在電子制造領域,技術的每一次微小進步,都可能引發行業的巨大變革。AST 埃斯特作為行業內的佼佼者,憑借一系列軟件著作權專利,在選擇性波峰焊及相關領域展現出非凡的創新實力,為企業生產效率與產品質量提升注入強大動力。
2025-08-25 10:15:03
528 在電子制造領域,焊接工藝的優劣直接關乎產品質量與生產效率。隨著電子產品朝著小型化、高密度化發展,傳統焊接工藝逐漸難以滿足復雜電路板的焊接需求。選擇性波峰焊作為一種先進的焊接技術,正憑借其獨特優勢在行業內嶄露頭角,為電子制造帶來新的變革,AST 埃斯特在這一領域擁有深厚技術積累與豐富實踐經驗。
2025-08-25 09:53:25
919 在芯片制造領域的光刻工藝中,光刻膠旋涂是不可或缺的基石環節,而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優可測薄膜厚度測量儀AF系列憑借高精度、高速度的特點,為光刻膠厚度監測提供了可靠解決方案。
2025-08-22 17:52:46
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在追求高效率和高質量的電子制造領域,選擇性焊接工藝對確保最終產品可靠性至關重要。AST埃斯特推出的SEL-32D選擇性焊接機,憑借其創新的在線式設計、精密的分段焊接控制以及穩定的性能參數,已成為滿足現代SMT后段焊接需求的理想工業設備。
2025-08-20 16:52:04
666 AST ASEL-450是一款高性能的離線式選擇性波峰焊設備,專為中小批量、多品種的PCB焊接需求設計。該機型采用一體化集成設計,將噴霧、預熱和焊接功能融為一體,不僅節省空間,還顯著降低能耗,是電子制造企業中理想的選擇性焊接設備。
2025-08-20 16:49:42
648 澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(EBL)是一款高性能、高精度的光刻設備,專為半導體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設計。該系統采用先進的場發射電子槍,結合一體化的高速圖形發生系統,確保光刻質量優異且
2025-08-15 15:14:01
電子束光刻(EBL)是一種無需掩模的直接寫入式光刻技術,其工作原理是通過聚焦電子束在電子敏感光刻膠表面進行納米級圖案直寫。
2025-08-14 10:07:21
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惡劣環境 防水防潮:光纖暴露在雨雪、潮濕環境中易導致性能下降或損壞,套管(如金屬軟管、PVC管)可有效隔絕水分。 防紫外線:長期紫外線照射會加速光纖外護套老化,套管(如黑色PE管)能提供紫外線防護。 防機械損傷:在道路、施
2025-08-07 09:45:21
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光刻工藝是芯片制造的關鍵步驟,其精度直接決定集成電路的性能與良率。隨著制程邁向3nm及以下,光刻膠圖案三維結構和層間對準精度的控制要求達納米級,傳統檢測手段難滿足需求。光子灣3D共聚焦顯微鏡憑借非
2025-08-05 17:46:43
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線(UV),同時透過 500-600nm 的黃色安全光波段,在避免紫外線危害的同時,滿足特定場景的照明需求。?在光刻車間、半導體工廠、實驗室等對紫外線敏感的場所,紫
2025-08-04 20:52:27
光纖布線已成為現代網絡的骨干,提供高帶寬、低延遲和長距離傳輸能力。但升級總是合適的時機嗎?本光纖布線選擇指南可幫助您根據三個關鍵因素判斷現在是否是購買光纖布線的最佳時機:項目階段(新建 vs. 改造
2025-07-30 10:53:53
391 極紫外光刻(EUVL)技術作為實現先進工藝制程的關鍵路徑,在半導體制造領域占據著舉足輕重的地位。當前,LPP-EUV 光源是極紫外光刻機所采用的主流光源,其工作原理是利用波長為 10.6um 的紅外
2025-07-22 17:20:36
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應用。傳統光伏模塊(如晶硅電池)雖效率高,但完全遮擋光線,導致室內熱增益增加。因此,光譜選擇性設計成為解決這一問題的有效途徑。本研究開發了一種柔性PDMS/ITO/PET
2025-07-22 09:51:27
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晶圓蝕刻與擴散是半導體制造中兩個關鍵工藝步驟,分別用于圖形化蝕刻和雜質摻雜。以下是兩者的工藝流程、原理及技術要點的詳細介紹:一、晶圓蝕刻工藝流程1.蝕刻的目的圖形化轉移:將光刻膠圖案轉移到晶圓表面
2025-07-15 15:00:22
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光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是一種關鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下,溶解度會發生變化,主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業。由于
2025-07-11 15:53:24
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CPO模塊面臨的挑戰與光纖微裂紋的風險高密度集成:CPO將光引擎與計算芯片(如ASIC、GPU、CPU)緊密封裝在同一個基板或插槽上,空間極其緊湊。高頻彎曲與應力集中:為了在狹小空間內布線,光纖跳線
2025-07-11 09:08:45
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什么是PID光離子化傳感器? 光離子傳感器(PID)是一種利用 高能量紫外光 將檢測物從分子狀態離子化成離子和電子的傳感器,用于 檢測低濃度的揮發性有機物(VOC)和少量的氣態無機物質 。光離子化
2025-07-10 10:29:47
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選擇正確的光纖尾纖取決于應用、距離和設備。以下是需要考慮的因素: 1. 選擇正確的光纖類型:單模還是多模 單模光纖尾纖(OS2)專為城域網、骨干鏈路或5G前傳等長距離傳輸而設計。它們具有低插入損耗
2025-07-09 09:54:28
668 本文主要介紹了光的分類和紫外線的定義,以及紫外線的特性、應用和固化原理。
2025-06-30 17:27:51
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的應用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優化曝光工藝參數 曝光是決定光刻圖形線寬的關鍵步驟。精確控制曝光劑量,可避免因曝光過度導致光刻膠過度反應,使線寬變寬;或曝光不足造成線寬變窄。采用先進的曝光設備,如極紫外(EUV)光刻機
2025-06-30 15:24:55
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聯網終端需應對碎片化訂單,傳統大批量流水線遭遇致命挑戰:換線成本高、治具開發周期長、小批量生產虧損。當“柔性響應能力”成為制造企業生死線,選擇性波峰焊正成為破局關鍵。
傳統焊接:柔性生產鏈條上
2025-06-30 14:54:24
引言 在半導體制造與微納加工領域,光刻圖形的垂直度對器件的電學性能、集成密度以及可靠性有著重要影響。精準控制光刻圖形垂直度是保障先進制程工藝精度的關鍵。本文將系統介紹改善光刻圖形垂直度的方法,并
2025-06-30 09:59:13
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是 ASML 在極紫外光刻(EUV)技術基礎上的革命性升級。通過將光學系統的數值孔徑(NA)從 0.33 提升至 0.55,其分辨率從 13.5nm(半節距)躍升至 8nm(半節
2025-06-29 06:39:00
1916 在 MEMS(微機電系統)制造領域,光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環節。光刻 Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機將不同層設計圖案對準精度的關鍵指標。光刻 Overlay 指的是芯片制造過程中,前后兩次光刻工藝形成的電路圖案之間的對準精度。
2025-06-18 11:30:49
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在現代科學研究和工業應用中,離子選擇性電極和pH測量扮演著至關重要的角色。這些技術廣泛應用于環境監測、食品工業、醫藥研究以及化學分析等領域。Keithley 6517B靜電計作為一種高精度、高靈敏度
2025-06-18 10:52:34
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聲波振蕩、等離子體處理和超臨界干燥,確保掩膜板圖案的完整性與光刻精度。該設備適用于EUV(極紫外光刻)、ArF(氟化氬光刻)及傳統光刻工藝,支持6寸至30寸掩膜板的
2025-06-17 11:06:03
通過使用光掩膜和光刻膠在基板上復制流體圖案的過程。基板將涂覆硅二氧化層絕緣層和光刻膠。光刻膠在被紫外光照射后可以容易地用顯影劑溶解,然后在腐蝕后,流體圖案將留在基板上。無塵室(Cleanroom)排除掉空間范圍內空氣中的微
2025-06-16 14:36:25
1070 干涉儀在光刻圖形測量中的應用。 ? 減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法 ? 優化光刻膠材料選擇 ? 選擇與半導體襯底兼容性良好的光刻膠材料,可增強光刻膠與襯底的粘附力,減少剝離時對襯底的損傷風險。例如,針對特定的硅基襯
2025-06-14 09:42:56
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LC并非特指某一種光纖,而是一種小型化、模塊化的光纖連接器類型,廣泛應用于光通信領域,用于實現光纖與設備或光纖與光纖之間的低損耗、高可靠性連接。以下是對LC光纖連接器的詳細介紹: 一、LC光纖連接器
2025-06-12 09:46:57
1435 網絡性能下降甚至故障的隱形"殺手"。傳統檢測手段精度不足、效率低下,如何快速定位隱患,實現精準維護?武漢昊衡科技OLI光纖微裂紋檢測儀,以革新科技為光纖安全保駕護航!技術原理:白光相干
2025-06-11 17:29:39
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的隱形"殺手"。傳統檢測手段精度不足、效率低下,如何快速定位隱患,實現精準維護?武漢昊衡科技 OLI光纖微裂紋檢測儀 ,以革新科技為光纖安全保駕護航! 技術原理:白光相干技術賦能,科學定位隱患 OLI光纖微裂紋檢測儀基于 白光相干技
2025-06-11 11:41:29
620 光纖配線架的環境適配性主要體現在以下幾個方面: 溫度與濕度適應性:光纖配線架應能在特定的溫度和濕度范圍內穩定工作。一般來說,其工作溫度范圍較寬,如-40℃至+85℃,相對濕度也有明確限制,以確保在
2025-06-11 10:31:06
434 選擇光纖配線架時,需綜合考慮技術參數、環境適配性、管理需求、成本與擴展性等多方面因素。以下是具體分析框架和關鍵考量點: 一、核心參數匹配 光纖芯數與端口密度 需求匹配:根據當前光纖芯數(如24芯
2025-06-11 10:13:53
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在材料研發和產品質量控制領域,紫外老化試驗箱扮演著至關重要的角色。它能模擬自然環境中的紫外輻射、溫度、濕度等條件,加速材料老化過程,幫助科研人員和生產者快速評估材料的耐候性與使用壽命。?上海和晟HS
2025-06-11 10:02:57
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,推出OLI光纖微裂紋檢測儀,以秒級檢測、微米級定位、分布式回損分析為核心優勢,為行業樹立了高精度分布式檢測的新標桿。四大技術突破,重塑檢測效率與精度1秒級測量,
2025-06-05 17:31:44
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,是指通過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射,溶解度會發生變化的耐蝕刻薄膜材料,是光刻工藝中的關鍵材料。 從芯片生產的工藝流程上來說,光刻膠的應用處于芯片設計、制造、封測當中的制造環節,是芯片制造過程里光刻工
2025-06-04 13:22:51
992 在芯片制造中,光刻技術在硅片上刻出納米級的電路圖案。然而,當制程進入7納米以下,傳統光刻的分辨率已逼近物理極限。這時, 自對準雙重圖案化(SADP) 的技術登上舞臺, 氧化物間隔層切割掩膜 ,確保數十億晶體管的精確成型。
2025-05-28 16:45:03
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路徑避開強電或干擾源,以減少信號干擾。 準備材料和工具: 光纖線纜:根據傳輸距離和帶寬需求選擇合適的光纖類型(如單模或多模)。 連接器:如LC、SC、MPO等,需與設備接口匹配。 配線架或ODF:用于光纖端接和管理,建議采用模塊化
2025-05-16 10:47:40
1093 隨著極紫外光刻(EUV)技術面臨光源功率和掩模缺陷挑戰,X射線光刻技術憑借其固有優勢,在特定領域正形成差異化競爭格局。
2025-05-09 10:08:49
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一定的局限性。在大型工業生產環境中,設備分布廣泛,長距離傳輸信號時,信號衰減和電磁干擾問題會嚴重影響通信的穩定性和準確性。而光纖通信具有傳輸距離遠、抗電磁干擾能力強、傳輸速率高等顯著優勢。將 VING
2025-05-08 10:22:31
一站式PCBA加工廠家今天為大家講講PCBA加工選擇性波峰焊與傳統波峰焊有什么區別?選擇性波峰焊與傳統波峰焊的區別及應用。在PCBA加工中,DIP插件焊接是確保產品連接可靠性的重要工序。而在實現
2025-05-08 09:21:48
1289 選擇性外延生長(SEG)是當今關鍵的前端工藝(FEOL)技術之一,已在CMOS器件制造中使用了20年。英特爾在2003年的90納米節點平面CMOS中首次引入了SEG技術,用于pMOS源/漏(S/D
2025-05-03 12:51:00
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光刻圖形轉化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導體通用格式的圖紙轉換成如bmp或者tiff格式進行掩模版加工制造,在掩膜加工領域或者無掩膜光刻領域不可或缺,在業內也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10
在當今蓬勃發展的測試與測量領域,選擇正確的互連解決方案對于確保準確、可靠和高速的數據傳輸至關重要。光纖和同軸電纜是行業的主流選擇,在不同的應用場景中,它們各自擁有獨特的優勢與局限性。本文探討了光纖與同軸互連的主要差異,并為高速測試環境下的理想解決方案選擇提供了指導。
2025-04-29 14:06:12
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光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:33
7833 
IBC太陽能電池因其背面全電極設計,可消除前表面金屬遮擋損失,成為硅基光伏技術的效率標桿。然而,傳統圖案化技術(如光刻、激光燒蝕)存在工藝復雜或硅基損傷等問題。本研究創新性地結合激光摻雜與濕法氧化
2025-04-23 09:03:43
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,效率顯著提升,實現“一加一大于二”的效果。
適用場景:多光纖并行處理,適合大規模生產。
雙路注膠系統光纖涂覆機
特點:出口級產品,具備雙系統備份和固態封裝設計,可10年免維護,可靠性。
適用
2025-04-03 09:13:01
的應用需要解決一系列多芯光纖連接、多芯光纖與傳統光纖的連接等問題,需要開發MCF光纖連接器、實現MCF-SCF轉換的扇入扇出器件等周邊相關組件產品,并考慮與現有技術和商用技術的兼容性和通用性。
多芯
2025-04-01 11:33:40
滿足硬度和曲度的增減轉換,適應不同需求
實施效果 :
? 適配傳感光纖/通信光纖差異化需求
? 客戶定制化響應周期縮短80%
? 特殊場景訂單量增長200%
金標準⑥ 高效均勻固化技術
技術突破
2025-03-28 11:45:04
光刻工藝貫穿整個芯片制造流程的多次重復轉印環節,對于集成電路的微縮化和高性能起著決定性作用。隨著半導體制造工藝演進,對光刻分辨率、套準精度和可靠性的要求持續攀升,光刻技術也將不斷演化,支持更為先進的制程與更復雜的器件設計。
2025-03-27 09:21:33
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紫外線對產品的危害紫外線,作為電磁波譜中紫光之外的不可見光,其對產品的破壞性不容忽視。在眾多外界因素中,紫外線是導致材料性能劣變的關鍵因素之一。材料或產品在加工、貯存或使用過程中,會受到熱、光、氧
2025-03-26 15:34:44
1506 
膠(或其他感光材料)上時,光子能量被光刻膠分子吸收,使分子內部能量升高并引發化學反應,通常為化學鍵的斷裂或者交聯等反應。然后通過顯影過程選擇性去除特定區域的光刻膠形成期望的圖形。不同類型和波長的激光可以
2025-03-25 17:42:21
選擇光纖線的好壞需綜合考慮以下關鍵因素,以確保性能、成本和需求的平衡: 1. 確定應用場景與需求 傳輸距離: 短距離(≤500米):多模光纖(MMF)更經濟,適合數據中心、局域網。 長距離(≥500
2025-03-19 10:06:30
1278 體。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時,若采用適當的有選擇性的光刻膠,可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類
2025-03-18 13:59:53
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不同材料的刻蝕速率比,達到?>5:1?甚至更高的選擇比標準?。 一、核心價值與定義 l?精準材料去除? 高選擇性蝕刻通過調整反應條件,使目標材料(如多晶硅、氮化硅)的刻蝕速率遠高于掩膜或底層材料(如氧化硅、光刻膠),實現
2025-03-12 17:02:49
809 之間的電氣連接方式和性能。焊點圖案設計不僅需要考慮電氣性能和可靠性,還需要兼顧散熱、制造工藝和成本控制。
2025-03-06 16:44:18
1603 隨著全球能源需求的增長,開發高效率太陽能電池變得尤為重要。本文旨在開發一種成本效益高且可擴展的制備工藝,用于制造具有前側SiOx/多晶硅選擇性發射極的雙面TOPCon太陽能電池,并通過優化工藝實現
2025-03-03 09:02:29
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光刻中得到了常規應用。
利用快速物理光學建模和設計軟件VirtualLab Fusion的場跟蹤技術,可以充分研究這種效應及其應用。請看下面的例子,在這些例子中,我們用線性和交叉圖案演示Talbot效應
2025-02-26 08:49:53
紫外光通信的應用場景十分廣泛,它正逐漸滲透到我們生活的各個角落。在軍事領域,紫外光通信可用于戰場短距離保密通信。在戰場上,士兵們可以利用紫外光通信設備,在不暴露自身位置的情況下,安全地傳遞情報和指令
2025-02-21 13:32:51
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在芯片制造的復雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環節。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關鍵指標。簡單來說,它就像建造摩天大樓
2025-02-17 14:09:25
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正性光刻對掩膜版的要求主要包括以下幾個方面: 基板材料:掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、穩定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料,因為它具有較低的熱膨脹系數,能夠在溫度變化時保持尺寸穩定
2025-02-17 11:42:17
855 在現代制造業中,紫外光固化技術已成為一種高效、環保的固化方式,廣泛應用于涂料、油墨、膠水等多個領域。紫外點光源固化燈,尤其是365nm波長的紫外燈,因其獨特的光學性能和應用優勢,成為高精度固化過程中
2025-02-13 15:44:39
2484 光刻技術對芯片制造至關重要,但傳統紫外光刻受衍射限制,摩爾定律面臨挑戰。為突破瓶頸,下一代光刻(NGL)技術應運而生。本文將介紹納米壓印技術(NIL)的原理、發展、應用及設備,并探討其在半導體制造中
2025-02-13 10:03:50
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密度。其中,軟金屬在電化學過程中通過晶粒選擇性生長形成的紋理是一個影響功率和安全性的關鍵因素。 在此,美國芝加哥大學Ying Shirley Meng(孟穎)教授和美國密西根大學陳磊教授等人制定了一個通用的熱力學理論和相場模型來研究軟金屬的晶粒選擇性生長,研究重點
2025-02-12 13:54:13
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Poly-SEs技術通過在電池的正面和背面形成具有選擇性的多晶硅層,有效降低了電池的寄生吸收和接觸電阻,同時提供了優異的電流收集能力。在n型TOPCon太陽能電池中,Poly-SEs的應用尤為重要
2025-02-06 13:59:42
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光刻是芯片制造過程中至關重要的一步,它定義了芯片上的各種微細圖案,并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細介紹,包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻
2025-01-28 16:36:00
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近來,為提高IC芯片性能,倒裝芯片鍵合被廣泛采用。要實現倒裝芯片鍵合,需要大量的通孔。因此,硅通孔(TSV)被應用。然而,硅有幾個缺點,例如其價格相對較高以及在高射頻下會產生電噪聲。另一方面,玻璃具有適合用作中介層材料的獨特性質,即低介電常數、高透明度和可調節的熱膨脹系數。由于其介電常數低,可避免信號噪聲;由于其透明度,可輕松實現三維對準;由于其熱膨脹可與Si晶片匹配,可防止翹曲。因此,玻璃通孔(TGV )正成為
2025-01-23 11:11:15
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采用氧化局限技術制作面射型雷射元件最關鍵的差異在于磊晶成長時就必須在活性層附近成長鋁含量莫耳分率高于95%的砷化鋁鎵層,依據眾多研究團隊經驗顯示,最佳的鋁含量比例為98%,主要原因在于這個比例的氧化速率適中,而且氧化后較不容易因為熱應力造成上反射鏡磊晶結構破裂剝離。砷化鋁(AlAs)材料氧化機制普遍認為相對復雜,可能的化學反應過程可能包含下列幾項: 通常在室溫環境下鋁金屬表面自然形成的氧化鋁是一層致密的薄膜,可以
2025-01-23 11:02:33
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選擇合適的光纖傳感器需要考慮多個因素,以下是一些關鍵的步驟和要點: 一、明確測量需求 測量點數 : 根據需要測量的點數來確定采用“分布式”還是“單點式”傳感器。通常測量點少于20個時,采用“單點式
2025-01-18 10:27:47
1255 本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片光刻機和面板光刻機。面板光刻機的工作原理和芯片光刻機相似
2025-01-16 09:29:45
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太陽能電池,如直接破壞Si-H鍵、產生熱載流子等。美能復合紫外老化試驗箱進行加速老化測試,該試驗箱能夠提供280至400nm范圍內的紫外光譜,模擬太陽光中的紫外部分,同時
2025-01-10 09:03:31
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,使打印出的成品在視覺和觸覺上更加貼近設計意圖,為后續改進提供了便利性。那什么是SLA立體光固化成型技術(以下簡稱SLA技術)呢?其實,它的核心原理就是利用一定波長和強度的紫外光(如波長325nm
2025-01-09 18:57:50
芯片制造、價值1.5億美元的極紫外(EUV,https://spectrum.ieee.org/tag/euv)光刻掃描
2025-01-09 11:31:18
1280 ? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統。 光刻技術作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現這一工藝的核心設備,它的工作原理類似于傳統攝影中的曝光過程,但精度要求極高,能夠達到
2025-01-07 10:02:30
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