推動科技進步的半導體技術真的會停滯不前嗎？這也不太可能，7nm工藝節點將開始應用EUV光刻工藝，研發EUV光刻機的ASML表示EUV工藝將會支持未來15年，部分客戶已經在討論2030年的1.5nm工藝路線圖了。
2017-01-22 11:45:42
3754 傳統的光刻工藝是相對目前已經或尚未應用于集成電路產業的先進光刻工藝而言的，普遍認為 193nm 波長的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺（見下表）。這是因為 193nm 的光刻依靠浸沒式和多重曝光技術的支撐，可以滿足從 0.13um至7nm 共9個技術節點的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2917458 在之前的文章里，我們介紹了晶圓制造、氧化過程和集成電路的部分發展史。現在，讓我們繼續了解光刻工藝，通過該過程將電子電路圖形轉移到晶圓上。光刻過程與使用膠片相機拍照非常相似。但是具體是怎么實現的呢？
2023-06-28 10:07:476929 
光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:246309 
光刻工藝貫穿整個芯片制造流程的多次重復轉印環節，對于集成電路的微縮化和高性能起著決定性作用。隨著半導體制造工藝演進，對光刻分辨率、套準精度和可靠性的要求持續攀升，光刻技術也將不斷演化，支持更為先進的制程與更復雜的器件設計。
2025-03-27 09:21:333276 
本文系統梳理了直寫式、多電子束與投影式EBL的關鍵技術路徑，涵蓋掃描策略、束流整形、鄰近效應校正與系統集成等方面，并探討其在精度、效率與成本間的技術矛盾與未來發展方向。
2025-04-30 11:00:073832 
全國首臺國產商業電子束光刻機問世，精度比肩國際主流 ? 近日，全國首臺國產商業電子束光刻機"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發并進入應用測試階段。該設備精度達到0.6nm，線寬
2025-08-15 10:15:172938 
隨著半導體技術的發展，光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數量級（從毫米級到亞微米級），已從常規光學技術發展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
時)。EUV光刻和X光光刻則可以達到更高的分辨率。然而, 它們存在的掩膜制造困難，且掩膜易被強光損傷等缺陷限制了它們的工業化生產。而電子束光刻膠極有可能在集成電路線寬降至納米級時大顯身手，目前國外電子束膠
2018-08-23 11:56:31
一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類型：正性光刻和負性光刻，區別如下
2021-01-12 10:17:47
關于光刻工藝的原理，大家可以想象一下膠片照片的沖洗，掩膜版就相當于膠片，而光刻機就是沖洗臺，它把掩膜版上的芯片電路一個個的復制到光刻膠薄膜上，然后通過刻蝕技術把電路“畫”在晶圓上。 當然
2020-07-07 14:22:55
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
2025-05-07 06:03:45
電子束半導體圓筒聚焦電極
在傳統電子束聚焦中，需要通過調焦來確保電子束焦點在目標物體上。要確認是焦點的最小直徑位置非常困難，且難以測量。如果焦點是一條直線，就可以免去調焦過程，本文將介紹一種能把
2025-05-10 22:32:27
都按指數規律變化,實際電子束自發輻射的總輻射功率與金屬-介質多層膜的空間周期成反比。【關鍵詞】：激光技術;;史密斯-帕塞爾效應;;金屬-介質多層膜;;光柵【DOI】：CNKI:SUN
2010-04-26 16:15:43
各位朋友請問下:電子束的概念是什么?
2013-03-26 11:02:59
UMS的CHA3688aQDG是款三級自偏置寬帶單片低噪聲放大器單片電路。
CHA3688aQDG選用 pHEMT 工藝技術、0.25μm 柵極尺寸、橫穿基板的通孔、空氣橋和電子束柵極光刻工藝生產
2024-03-06 15:46:20
下方的蝕刻速率遠高于沒有金屬時的蝕刻速率，因此當半導體正被蝕刻在下方時，金屬層會下降到半導體中。4 本報告描述了使用 MacEtch 工藝制造 100 到 1000 nm 的納米柱。電子束光刻：硅晶片用
2021-07-06 09:33:58
業界對哪種半導體工藝最適合某一給定應用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術能更好地服務一些應用，但其它工藝技術也有很大的應用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP
2019-07-05 08:13:58
業界對哪種半導體工藝最適合某一給定應用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術能更好地服務一些應用，但其它工藝技術也有很大的應用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP
2019-08-20 08:01:20
如何提高多層板層壓品質在工藝技術
2021-04-25 09:08:11
失效分析實驗室中，我們檢查了電阻對比成像(RCI)和電子束感應電流(EBIC)，并成功將其用作失效點隔離技術。從這些技術獲得的結果得到了其它失效分析方法的支持，例如光學顯微鏡和曲線軌跡分析等。最后
2018-10-22 16:44:07
過程中焊接深度以及焊接寬度之間的比值較高，第四是電子束焊接技術在應用的過程中不僅僅局限在導電材料的焊接工藝中，第五是電子束焊接技術受到磁場的影響較小，再次是電子束焊接在應用的過程中不會出現 X 射線
2018-03-15 11:18:40
。IBM采用0.18um光刻工藝制成的120GHz Ft SiGe晶體管是一個很好的例子。 處理這一例子，鍺化硅工藝技術還在哪些高速通信領域應用呢？
2019-07-30 07:56:50
根據電子束焊機的控制系統的要求，提出用三菱公司的FX 系列的可編程邏輯控制器對電子束焊機進行數字量控制和模擬量控制。結合電子束焊機焊接工藝需要，分別對控制軟件的
2009-05-26 11:04:23
48 價格貨期電議電子束蒸鍍設備 E-beam Evaporation System電子束蒸發與熱蒸發對比, 能夠在非常高的溫度下熔化材料, 如鎢, 石墨 ... 等等. 結合石英震蕩片的反饋信號, 可
2022-11-04 11:01:13
隨著納米科技的迅速發展，下一代光刻技術在微細加工領域發揮著日益重要的作用。作為復雜半導體加工主要手段之一的電子束曝光系統，需要穩定完善的控制軟件來保證其正常
2009-06-29 08:58:0319 大面積均勻電子束產生實驗研究:在電子束泵浦氣體激光實驗中，大面積均勻電子束是獲得高效能激光輸出的必要條件。介紹了利用SPG-200脈沖功率源產生大面積均勻電子
2009-10-26 21:53:4716 電子束輻照對玻璃微球儲氚性能的影響:以研究氚衰變β電子對玻璃微球保氣性能為目標，利用ＸＰＳ在線測量技術研究了電子束照射下堿式硼硅酸鹽玻璃中Ｋ＋ 離子的遷移以及由此
2009-10-31 14:20:2912 強流短脈沖電子束束剖面測量技術 摘 要: 束流剖面信息的獲得對于加速器的研究有著重要的意義。對強流短脈沖電子加速器束剖面測量技術作了評述。目
2010-06-10 16:26:557 隨著納米科技的迅速發展，下一代光刻技術在微細加工領域發揮著日益重要的作用。作為復雜半導體加工主要手段之一的電子束曝光系統，需要穩定完善的控制軟件來保證其正常運
2010-07-14 14:34:5613 電子束管
2006-04-16 23:34:542633 
澤攸科技ZEL304G電子束光刻機（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設備，專為半導體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設計。該系統采用先進的場發射電子槍，結合一體化的高速圖形發生系統，確保光刻質量優異且
2025-08-15 15:14:01
電子束焊機用高壓電源中的PLC控制系統的設計
摘要：介紹了電子束焊機用高壓電源及其控制系統的要求，根據PLC控制技術的
2009-07-07 11:04:371147 
電子束爐變壓器的故障檢查研究
引言 EBCHR2/50/500電子束爐是西北有色金屬研究院從德國ALD 公司進口的大型設備，適用于熔煉和
2009-12-12 09:41:21843 英特爾認為浸入式光刻能延伸到11納米
英特爾的先進光刻和制造部的Yan Borodovsky表明,英特爾希望EUV或者無掩模電子束光刻能作為193納米浸入式光刻在11納米的后補者
2010-02-25 10:17:551136 
超細線蝕刻工藝技術介紹
目前，集成度呈越來越高的趨勢，許多公司紛紛開始SOC技術，但SOC并不能解決所有系統集成的問題，因
2010-03-30 16:43:082052 光刻膠與光刻工藝技術 微電路的制造需要把在數量上精確控制的雜質引入到硅襯底上的微小 區域內,然后把這些區域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區域圖形 的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:210 研究了低能電子束輻照對發光二極管(Light emitting diode，LED)發光性能的影響。利用實驗室加速器提供的電子束模擬空間電子輻射，分別對發不同顏色的光的LED進行不同劑量的輻照，并對比
2011-04-16 15:30:3122 電子束加工原理和應用以及電子束加工特點。
2011-05-22 12:46:1124808 
隨著 納米加工 技術的發展,納米結構器件必將成為將來的集成電路的基礎. 本文介紹了幾種用電子束光刻、反應離子刻蝕方法制備硅量子線、量子點和用電子束光刻、電子束蒸發以及剝
2011-06-20 16:16:0936 麻省理工學院 (MIT)的研究人員表示，已經開發出一種技術，可望提升在芯片上寫入圖案的高速電子束光刻解析度，甚至可達9nm，遠小于原先所預期的尺寸
2011-07-12 09:01:371956 焊接技術的創新和發展。在我國的焊接領域，電子束焊接技術主要有七個主要的優點，首先是電子束焊接技術在焊接的過程中產生的焊接變形較小，其次是電子束焊接技術產生的熱量影響區域較小，第三是電子束焊接技術在焊接過程
2018-01-26 17:01:102 隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產，2018年EUV光刻工藝終于商業化了，這是EUV工藝研發三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規模量產還有很多技術挑戰，目前的光源功率以及晶圓產能輸出還沒有
2018-10-30 16:28:404245 本文研究了 基于形狀修正的電子束光刻分級鄰近效應校正技術，在內部鄰近效應校正的基礎上，在計算圖形之間產生的相互鄰近效應過程中，采用了局部曝光窗口和全局曝光窗口機制。局部曝光窗口的區域小，對計算精度
2018-12-05 11:20:266 實際上，電子束固化技術一種是捕獲一些自然存在的電子形式的電子束，然后將其在較短的距離內加速到接近光速的工具，該過程產生巨大的能量，然后將這種能量應用于涂、油墨和粘合劑的固化過程中，這就是電子束固化技術。簡言之，電子束固化就是使用由電子加速器產生的高能電子束來引發樹脂的聚合或交聯。
2019-04-07 09:04:001613 PCB板上的線路圖形就是PCB線路板廠家采用曝光成像與顯影蝕刻工藝技術來完成的，無論是PCB多層線路板還是柔性線路板在制作線路圖形時都要用到曝光成像與顯影工藝技術。下面來詳細介紹這兩種工藝的加工特點及加工原理。
2019-04-28 15:10:5236634 石墨烯層可以作為電子束的鏡子，這是物理學家Dani l Geelen和同事使用一種新型電子顯微鏡發現的，其研究結果發表在《物理評論快報》期刊上。這種新技術稱為“eV-TEM”，這是電子顯微鏡的一種新變體，它能將電子束對準樣品，以便對其成像。
2019-08-26 15:43:324368 本文首先闡述了電子束焊原理，其次介紹了電子束焊技術指標，最后介紹了電子束焊特點。
2019-12-10 10:18:2616754 至今，電子束焊經過不斷發展已經成為一種成熟的加工技術，無論是汽車制造，還是航空航天，都起著舉足輕重的作用。而40多年來，激光加工已從實驗室走向了實用化階段，并進入了原來由電子束加工的各個領域，大有
2019-12-10 10:28:4321014 本文首先介紹了電子束焊優缺點，其次闡述了電子束焊接工藝。最后闡述了電子束焊的基本工藝流程。
2019-12-10 10:37:3837081 冰膠電子束光刻（簡稱冰刻）是一種新型加工方法。
2020-01-26 10:27:003161 電子束焊是指利用加速和聚焦的電子束轟擊置于真空或非真空中的焊接面，使被焊工件熔化實現焊接。真空電子束焊是應用最廣的電子束焊。
2020-09-02 16:42:3010084 本文首先介紹了電子束焊的焊接參數，其次闡述了電子束焊的技術要求，最后介紹了電子束焊的特點。
2020-09-02 16:50:2214137 本文首先闡述了電子束焊分類，其次介紹了電子束焊主要用途，最后介紹了電子束焊的技術指標。
2020-09-03 16:36:0610228 本文主要闡述了電子束曝光原理及結構。
2020-11-27 15:21:3911776 技術研究開發經驗，研制成功了我國第一條國產雙金屬鋸帶生產線設備。其中高壓電源是雙金屬鋸帶焊接設備的關鍵技術之一，它主要為電子槍提供加速電壓，其性能好壞直接決定電子束焊接工藝和焊接質量。
2021-03-03 17:12:187717 電子束是從電子槍中產生的。通常電子是以熱發射或場致發射的方式從發射體（陰極）逸出。在25-300kV加速電壓的作用下，電子被加速到0.3-0.7倍的光速，具有一定的動能，經電子槍中靜電透鏡和電磁透鏡的作用，電子會聚成功率密度很高的電子束。
2021-03-04 14:43:0623756 
電子束加工（Electron Beam Machining 簡稱EBM）起源于德國。1948年德國科學家斯特格瓦發明了第一臺電子束加工設備。它是一種利用高能量密度的電子束對材料進行工藝處理的方法統。
2021-03-10 14:25:3324209 
電子束加工和離子束加工是近年來得到較大發展的新型特種加工。他們在精密微細加工方面，尤其是在微電子學領域中得到較多的應用。通常來說，電子束加工主要用于打孔、焊接等熱加工和電子束光刻化學加工，而離子束加工則主要用于離子刻蝕、離子鍍膜和離子注入等加工。?
2021-03-17 20:10:4815 光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產業的關鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學敏感性的混合液體。其利用光化學反應，經曝光、顯影等光刻工藝，將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上，是用于微細加工技術的關鍵性電子化學品。
2022-06-21 09:30:0922720 根據所使用的輻射，有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學光刻技術中，有部分不透明和部分不透明的圖案掩模(光片)半透明區域被使用。紫外線輻射或氣體激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例減少。
2022-07-27 16:54:534814 
氫去鈍化光刻(HDL)是電子束光刻(EBL)的一種形式，它通過非常簡單的儀器實現原子分辨率，并使用能量非常低的電子。它使用量子物理學有效地聚焦低能電子和振動加熱方法，以產生高度非線性（多電子）的曝光機制。
2022-09-27 10:39:543586 全面解讀電子封裝工藝技術
2022-10-10 11:00:511455 光刻是半導體工藝中最關鍵的步驟之一。EUV是當今半導體行業最熱門的關鍵詞，也是光刻技術。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細看看光刻技術。
2022-10-18 12:54:056458 光掩模可以被認為是芯片的模板。光掩模用電子束圖案化并放置在光刻工具內。然后，光掩模可以吸收或散射光子，或允許它們穿過晶圓。這就是在晶圓上創建圖案的原因。
2023-03-03 10:10:323268 雖然激光焊接（LBW）以及電子束焊接（EBW）的擁護者們分別對其青睞的技術大加贊揚，但在許多情況下用戶的最佳選擇可能是同時采用這兩種技術，尤其是在焊接復雜結構以及滿足高品質冶金需要的情況下更是如此
2022-03-19 09:59:593916 
外，學生還就感興趣的課題做深入調研。師生共同討論調研報告，實現教學互動。調研的內容涉及光刻工藝、光刻成像理論、SMO、OPC和DTCO技術。
2023-07-07 11:21:321451 
半導體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:543038 
上海伯東客戶某光刻機生產商, 生產的電子束光刻機 Electron Beam Lithography System 最大能容納 300mmφ 的晶圓片和 6英寸的掩模版, 適合納米壓印, 光子器件
2023-06-02 15:49:401604 
直接蝕刻和剝離是兩種比較流行的圖案轉移工藝。在直接蝕刻工藝中，首先使用光刻技術對聚合物抗蝕劑進行構圖，然后通過干法蝕刻技術用抗蝕劑作為掩模將圖案轉移到襯底或子層上。
2023-09-07 09:57:141088 
在電子和電氣制造業中，光刻技術是制造無源/有源器件的重要步驟。
2023-11-20 09:30:052517 
電子束加工（Electron Beam Machining 簡稱EBM）起源于德國。1948年德國科學家斯特格瓦發明了第一臺電子束加工設備。它是一種利用高能量密度的電子束對材料進行工藝處理的方法統。
2023-12-07 11:31:233256 
光照條件的設置、掩模版設計以及光刻膠工藝等因素對分辨率的影響都反映在k?因子中，k?因子也常被用于評估光刻工藝的難度，ASML認為其物理極限在0.25，k?體現了各家晶圓廠運用光刻技術的水平。
2023-12-18 10:53:052730 
和光通信領域的客戶制造高精度微型光學元件。制造商是位于德國耶拿的電子束技術專家Vistec Electron Beam GmbH。該系統將于2025年初交付。 以最高精度創建最小的結構 這種類型的電子束光刻系統可以在直徑達300毫米的襯底上以10納米范圍（約為頭發絲的1/2,000）精度
2024-01-15 17:33:161649 電子束光刻（e-beam lithography，EBL）是無掩膜光刻的一種，它利用波長極短的聚焦電子直接作用于對電子敏感的光刻膠（抗蝕劑）表面繪制形成與設計圖形相符的微納結構。
2024-03-04 10:19:284196 
本文從光刻圖案設計、特征尺寸、電鏡參數優化等方面介紹電子束光刻的參數優化，最后介紹了一些常見問題。
2024-03-17 14:33:522862 
光刻材料一般特指光刻膠，又稱為光刻抗蝕劑，是光刻技術中的最關鍵的功能材料。這類材料具有光（包括可見光、紫外光、電子束等）反應特性，經過光化學反應后，其溶解性發生顯著變化。
2024-03-31 16:27:187398 
電子束技術在半導體制造行業一直是重要的應用技術。本文就電子束技術作一個簡單的圖文介紹。
2024-04-30 14:32:414155 
電子束焊接是一種高能電子束加熱并熔化工件以實現焊接的方法。在電子束焊中，通過利用一個電子槍發射一個高速電子束，將電子束照射到工件焊縫處，使焊縫瞬間被加熱并熔化，隨后快速冷卻并凝固形成焊接。電子束焊接
2024-05-17 18:32:141651 生物學和醫學領域的研究發生了革命性的變化。 隨著電子束技術的發展，掃描透射電子顯微鏡被研制出來，使得各種材料內部的顯微結構清晰的展現在人們面前。 ? 1933年，德國人Ruska設計制造了第一臺電子顯微鏡，此后人們研發出了能放大3萬倍的透射電
2024-05-18 17:42:292304 
? 基于掩膜的傳統光刻技術，其成本正呈指數級攀升。而無掩膜的電子束光刻技術提供了補充性選項，可以幫助芯片制造商更快地將產品推向市場。電子束光刻技術采用電子束在硅晶圓上生成圖案，無需等待掩膜制造過程
2024-05-22 18:41:413965 在萬物互聯，AI革命興起的今天，半導體芯片已成為推動現代社會進步的心臟。而光刻(Lithography)技術，作為先進制造中最為精細和關鍵的工藝，不管是半導體芯片、MEMS器件，還是微納光學元件都離不開光刻工藝的參與，其重要性不言而喻。本文將帶您一起認識光刻工藝的基本知識。
2024-08-26 10:10:073247 
分辨率增強及技術(Resolution Enhancement Technique, RET)實際上就是根據已有的掩膜版設計圖形，通過模擬計算確定最佳光照條件，以實現最大共同工藝窗口(Common Process Window)，這部分工作一般是在新光刻工藝研發的早期進行 。
2024-10-18 15:11:472854 
電子束光刻技術使得對構成多種納米技術基礎的納米結構特征實現精細控制成為可能。納米結構制造與測量的研究人員致力于提升納米尺度下的光刻精度，并開發了涵蓋從光學到流體等多個物理領域、用以制造創新器件和標準的工藝流程。
2024-10-18 15:23:261801 
“ 光刻作為半導體中的關鍵工藝，其中包括3大步驟的工藝：涂膠、曝光、顯影。三個步驟有一個異常，整個光刻工藝都需要返工處理，因此現場異常的處理顯得尤為關鍵”
2024-10-22 13:52:103498 納米科技是當前科學研究的前沿領域，納米測量學和納米加工技術在其中扮演著至關重要的角色。電子束和離子束等工藝是實現納米尺度加工的關鍵手段。特別是聚焦離子束（FIB）系統，通過結合高強度的離子束和實時
2024-11-14 23:24:131435 
某大型半導體制造企業專注于高端芯片的研發與生產，其電子束光刻設備在芯片制造的光刻工藝中起著關鍵作用。然而，企業所在園區周邊存在眾多工廠，日常生產活動產生復雜的振動源，包括重型機械運轉、車輛行駛以及建筑物內部的機電設備運行等，這些振動嚴重影響了電子束光刻設備的精度與穩定性。
2025-01-07 15:13:211321 
一、光刻工藝概述 光刻工藝是半導體制造的核心技術，通過光刻膠在特殊波長光線或者電子束下發生化學變化，再經過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程，將設計在掩膜上的圖形轉移到襯底上，是現代半導體、微電子、信息產業
2025-06-09 15:51:162129 電子束光刻（EBL）是一種無需掩模的直接寫入式光刻技術，其工作原理是通過聚焦電子束在電子敏感光刻膠表面進行納米級圖案直寫。
2025-08-14 10:07:212555 
一、引言
玻璃晶圓在半導體制造、微流控芯片等領域應用廣泛，光刻工藝作為決定器件圖案精度與性能的關鍵環節，對玻璃晶圓的質量要求極為嚴苛 。總厚度偏差（TTV）是衡量玻璃晶圓質量的重要指標，其厚度
2025-10-09 16:29:24576 
電子發燒友App
工商網監
評論