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IMEC開發出最新的硅襯底芯片

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2023-02-06 16:44:264975

基氮化鎵介紹

基氮化鎵技術是一種將氮化鎵器件直接生長在傳統襯底上的制造工藝。在這個過程中,由于氮化鎵薄膜直接生長在襯底上,可以利用現有基半導體制造基礎設施實現低成本、大批量的氮化鎵器件產品的生產。
2023-02-10 10:43:342743

基氮化鎵襯底是什么 襯底減薄的原因

  基氮化鎵襯底是一種新型的襯底,它可以提高襯底的熱穩定性和抗拉強度,從而提高襯底的性能。它主要用于電子、光學、電力、航空航天等領域。
2023-02-14 14:36:082354

砷化鎵芯片芯片區別 砷化鎵芯片襯底是什么

 砷化鎵芯片芯片的最大區別是:芯片是進行物理刻蝕線路工藝(凹刻),可以5-100納米工藝,而砷化鎵芯片采取的工藝是多層化學堆砌線路(凸堆),線路線寬40-100納米。所以,能做芯片的公司是做不了砷化鎵芯片的。
2023-02-20 16:53:1010760

Imec開發虛擬晶圓廠

imec指出,IC制造衍生的二氧化碳排放量預計在未來10年增長4倍,一來是先進制程技術漸趨復雜,二來晶圓總產量增加; 為逆轉未來局勢,領先業界的半導體大廠已承諾在2030至2050年前達到碳中和或凈零。
2023-03-20 09:58:311553

IMEC計劃在日本北海道設立研究中心,協助實現2nm芯片工藝目標

IMEC IMEC總部設在比利時魯汶(Leuven, Belgium),雇員超過一千七百名,包括超過三百五十名常駐研究員及客座研究員。IMEC有一條0.13微米8寸試生產線并已通過ISO9001認證。
2023-05-22 16:19:161859

絕緣體上(SOI)驅動芯片技術優勢及產品系列

在之前的技術文章中,介紹了驅動芯片的概覽和PN結隔離(JI)技術,本文會繼續介紹英飛凌的絕緣體上(SOI)驅動芯片技術。高壓柵極驅動IC的技術經過長期的發展,走向了絕緣體上
2022-04-02 09:51:322509

亞毫米級別分辨率的芯片“可視化”測試設備

芯片是通過標準半導體工藝將光材料和器件集成在一起的集成光路,主要由光源、調制器、探測器、無源波導器件等組成,并且將光器件集成在同一襯底上。芯片具有集成度高、成本低、傳輸更好等特點。在
2022-07-26 09:36:572067

日本電產三協成功研發出裝有圓柱形凝膠的觸覺裝置

日本電產三協成功研發出使用圓柱形凝膠的觸覺設備,該圓柱形凝膠是三協的自主產品。
2022-12-07 17:04:041328

晶能光電首發12英寸襯底InGaN基三基色外延

近日,晶能光電發布12英寸襯底InGaN基紅、綠、藍全系列三基色Micro LED外延技術成果。
2023-09-01 14:07:442195

淺析MEMS芯片晶圓級的氣密封裝技術

這篇筆記介紹MEMS型芯片封裝的一則最新進展,瑞典皇家理工學院KTH研究組聯合洛桑聯邦理工學院EPFL、愛爾蘭的Tyndall、IMEC等多個機構,共同開發了MEMS芯片晶圓級的氣密封裝技術(hermetic sealing)。
2023-09-19 09:32:394832

晶能光電襯底UVA LED 產品性能處于行業先進水平

LED技術開發及應用》的報告,介紹了襯底GaN基紫外LED的的技術特點以及應用新方向。 紫外LED主要分為:UVA LED(320nm-410nm),UVB(280nm-320nm),UVC
2023-09-19 11:11:288675

芯片從幕后走向臺前,制造良率仍是最大問題

芯片并非取代傳統的集成電路技術,而是在后摩爾時代,幫助集成電路擴充其技術功能。此外,由于芯片是基于晶圓開發出的光子集成芯片,因此芯片所需的制造設備和技術與傳統集成電路基本一致,技術遷移成本較低,這也成為了芯片得天獨厚的優勢?!崩钪救A說。
2023-10-08 11:40:282437

什么是SOI襯底?SOI襯底的優勢是什么?

SOI是Silicon-On-Insulator的縮寫。直譯為在絕緣層上的。實際的結構是,硅片上有一層超薄的絕緣層,如SiO2。在絕緣層上又有一層薄薄的層,這種結構將有源層與襯底層分開。而在傳統的制程中,芯片直接在襯底上形成,沒有使用絕緣體層。
2023-10-10 18:14:036763

晶能光電:襯底GaN材料應用大有可為

襯底GaN材料在中低功率的高頻HEMT和LED專業照明領域已經實現規模商用?;?b class="flag-6" style="color: red">硅襯底GaN材料的Micro LED微顯技術和低功率PA正在進行工程化開發。DUV LED、GaN LD以及GaN/CMOS集成架構尚處于早期研究階段。
2023-10-13 16:02:311827

匯頂科技“芯片芯片的制造方法”專利獲授權

 根據專利摘要,芯片及其芯片制造方法。芯片包括芯片本體(10)。芯片本體(10)包括:襯底(101)、器件層(102)和多孔結構,器件層(102)位于襯底(101);多孔結構設置于襯底(101)上,多孔結構用于與化學開蓋溶液反應以破壞芯片本體(10)。
2023-10-20 10:19:311383

臺積電開發出SOT-MRAM陣列芯片

據報道,全球領先的半導體制造公司臺積電在次世代MRAM存儲器相關技術方面取得了重大進展。該公司成功開發出自旋軌道轉矩磁性存儲器(SOT-MRAM)陣列芯片,并搭配創新的運算架構,使其功耗僅為其他類似技術的1%。
2024-01-19 14:35:127883

國信光電子創新中心發布首款2Tb/s光互連芯粒

該團隊在 2021 年 1.6T 光互連芯片的基礎上,運用先進的光電協同設計仿真方法,開發出適配光的單路超 200G driver 和 TIA 芯片,同時攻克了基光電三維堆疊封裝工藝難題,形成了完整的芯片 3D 芯粒集成方案。
2024-05-10 11:43:251619

imec CEO建議臺積電分散設廠降低風險

imec專注于半導體前沿技術的研發創新,其客戶群體涵蓋了全球知名的半導體制造商如臺積電、聯電、聯發科、韓國三星及美國英特爾等。同時,imec也是歐盟推動芯片自給自足計劃的關鍵力量。
2024-05-23 08:45:181071

芯片與傳統芯片的區別

材料差異: 芯片主要使用作為材料,而傳統芯片則使用晶體。芯片利用的光學特性,而傳統芯片則利用的電學特性。 功能差異: 芯片主要用于光通信、光計算等領域,可以實現光信號的傳輸、處理
2024-07-12 09:33:1012384

imec實現基量子點創紀錄低電荷噪聲

比利時微電子研究中心(imec)近期在量子計算領域取得了重大突破,成功在12英寸CMOS平臺上制造出了具有創紀錄低電荷噪聲的Si MOS量子點。這一里程碑式的成就不僅展示了imec在量子技術前沿的領先地位,更為大規模基量子計算機的實現奠定了堅實基礎。
2024-08-07 11:37:161187

芯片無壓燒結銀,助力客戶降本增效

作為全球燒結銀的領航者,善仁新材重“芯“出發,再次開發出引領燒結銀行業的革命----推出裸芯片的無壓燒結銀AS9332,此款燒結銀得到客戶的廣泛認可。
2024-10-29 18:16:541185

用于切割碳化硅襯底TTV控制的棒安裝機構

的加工過程中,TTV控制是至關重要的一環。 二、棒安裝機構的設計原理 為了有效控制碳化硅襯底的TTV,我們設計了一種新型的棒安裝機構。該機構通過精確控制棒的定
2024-12-26 09:51:54465

芯片制造中的多晶介紹

多晶(Polycrystalline Silicon,簡稱Poly)是由無數微小晶粒組成的非單晶材料。與單晶(如襯底)不同,多晶的晶粒尺寸通常在幾十到幾百納米之間,晶粒間存在晶界。
2025-04-08 15:53:453617

為什么芯片制造常用P型

從早期的平面 CMOS 工藝到先進的 FinFET,p 型襯底在集成電路設計中持續被廣泛采用。為什么集成電路的制造更偏向于P型?
2025-05-16 14:58:301012

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