2026年3月25日至27日，全球半導體行業矚目的SEMICON China 2026將在上海新國際博覽中心盛大啟幕。作為國內光學量檢測裝備領域的領軍企業，御微半導體將以“在Epsilon的尺度上，構建確定性”為主題，重磅登陸N2館2531展位。屆時，御微將全景呈現其在掩模基板制造、掩模版制造、芯片制造及先進封裝四大領域的核心技術突破與全產業鏈解決方案，向業界展示國產高端量檢測設備的“確定性”力量。

展位亮點：新品首發+ 多維技術演講

位于核心展區的御微展臺，將化身技術秀場。展會首日（3月25日）14:00-14:25，御微將迎來年度重磅時刻——新品發布會。依托在高精密光學設備領域的技術積淀，此次新品創新融合"高分辨率透射+反射雙光路同步紫外成像技術”，“納米級運動控制技術“及“超大規模圖像計算技術”，旨在樹立全新的性能標桿。

值得關注的是，本次發布會將同步開啟現場直播，未能親臨的朋友可掃描上方視頻號二維碼，云端共鑒高光時刻。

此外，御微特別策劃了五場硬核技術演講，從工藝演進的前瞻視角到AI賦能的實際落地，全程高能輸出：

3月25日 11:00-11:20：《Logic工藝技術演變淺談——從planar CMOS到GAA——》 （曾安生）

3月26日 11:00-11:20：《御微助力光掩模客戶降本增效——全生命周期解決方案》 （聶秋平）

3月26日 14:00-14:20：《御微助力先進封裝工藝節點提升》（劉云芳）

3月26日 15:00-15:20：《晶圓量檢測方案助力集成電路制造良率提升》（趙赫）

3月27日 10:00-10:20：《從“看見”到“自主”閉環：量檢測解決方案的AI自動駕駛之路》（韓晶晶）

全產品矩陣：深耕四大領域，構筑核心工藝壁壘

本次展會，御微不僅止于發布，更在于呈現成熟的產業化成果。四大應用領域的產品矩陣彰顯其從設備到工藝的深刻理解，多款核心設備已實現批量交付與規模化量產。

掩模基板制造：Halo系列掩模基板檢測設備，以高精度與高缺陷抓取率，兼容多類型版庫，實現全自動缺陷回看與分析。

掩模版制造：構建全生命周期品質監控體系。i6R系列覆蓋全流程監控；Raptor系列掩模圖形缺陷檢測設備關鍵缺陷檢出率達100%；APEX-R1系列工業級原子力顯微鏡實現高精度納米形貌表征與低損傷修復；掩模表面缺陷檢測設備獨創“檢測+清潔”一體，對水漬、指紋等疑難缺陷實現100%檢出率。

芯片制造：i12-U系列為無圖形晶圓提供全表面檢測，i12-F系列圖形晶圓缺陷檢測設備已批量交付頭部客戶，其中i12-F300支持明暗場同時檢測與無硅片處方功能，大幅提升產線效率、縮短NPI周期。HOUYI系列套刻量測設備已廣泛應用于國內邏輯與存儲芯片產線。APEX-X1系列原子力顯微鏡量測設備，專攻FinFET、3D NAND等復雜三維結構。再搭配Raptor 系列產品，可實現缺陷源頭管控。

先進封裝：i12-F系列圖形晶圓缺陷檢測設備可支持Frame、翹曲片、透明/半透明等多種物料類型，檢測缺陷尺寸可達0.12um，滿足先進封裝TSV、正面金屬制程、背面工藝、堆疊制程等工序檢測；i12-FEB5系列高精度晶圓邊背缺陷檢測設備，可捕獲小至0.125μm的邊緣缺陷，并集成多種輪廓測量、缺陷分類功能，完美契合HBM及3D封裝混合鍵合的嚴苛需求。

關于御微半導體

自2019年成立以來，御微半導體已成功推出數十款量檢測設備，并持續供貨給國際知名集成電路廠商。依托上海、合肥、西安、北京、南京等地的全國布局，公司已榮獲國家級專精特新“小巨人”稱號。憑借在高分辨率成像光學、納米級運動控制等七大核心技術領域的深厚積累，御微正以硬科技實力為國產半導體產業鏈構建堅實的技術護城河。

3月25日-27日，上海新國際博覽中心N2館2531號展位，誠邀您與御微一同探索Epsilon尺度的微觀世界，共同見證國產半導體檢測設備邁向確定性的每一步。