在近日落幕的SEMICON China 2026上，中微半導體設備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”；股票代碼：688012）成為全場最受矚目的焦點。在匯聚全球數千家頂尖企業的頂級平臺上，中微公司不僅作為唯一獲獎企業，獨攬了象征行業榮譽的“杰出半導體設備獎”，更在展會期間重磅發布了四款覆蓋關鍵工藝的全新產品，以硬核實力展現了其作為平臺型半導體設備龍頭企業的創新動能與全球競爭力。

此次SEMICON China吸引了來自設計、制造、封裝測試、設備與材料等全鏈條的數千家領軍企業同臺展示與競技。中微公司從中脫穎而出，獨家榮獲“杰出半導體設備獎”。中微公司董事長兼總經理尹志堯博士代表公司登臺領獎，接過這份象征實力的行業殊榮。該獎項不僅是對中微公司二十余年來在刻蝕、薄膜沉積、MOCVD等設備領域所取得技術突破和市場領導地位的權威認證，更是對其推動全球半導體產業進步所作貢獻的極高褒獎。

在承載榮光的同時，中微公司以持續創新引領行業風向。展會期間，公司舉辦了新品發布會，宣布推出了四款瞄準前沿工藝需求的新產品，包括新一代電感耦合ICP等離子體刻蝕設備Primo Angnova?、高選擇性刻蝕機Primo Domingo?、Smart RF Match智能射頻匹配器以及藍綠光Micro LED量產MOCVD設備Preciomo Udx?，進一步豐富了公司在刻蝕設備、薄膜沉積設備及核心智能零部件領域的產品組合及系統化解決方案能力，持續夯實平臺化發展的基礎，助力公司在規?；卣沟倪M程中實現高質量發展。

中微公司作為高端半導體設備領域的創新者與引領者，持續以核心技術突破推動產業進步。中微公司開發的CCP高能等離子體和ICP低能等離子體刻蝕兩大類，包括20多種細分刻蝕設備已可以覆蓋95%以上的幾百種刻蝕應用。中微公司的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國內和國際一線客戶，可以覆蓋從65納米到3納米及更先進工藝的眾多刻蝕應用。中微公司最近十年著重開發多種導體和半導體化學薄膜設備，如MOCVD、LPCVD、ALD、PVD、PECVD和EPI設備，并取得了非?？焖?、可喜的進展。中微公司開發的用于LED照明、顯示和功率器件外延片生產的MOCVD設備早已在客戶生產線上投入量產，并在全球氮化鎵基LED MOCVD設備市場占據領先地位。此外，中微公司正在布局濕法設備并已全面布局光學和電子束量檢測設備，開發多種泛半導體微觀加工設備，包括在玻璃基板上制造微觀結構的大平板顯示設備等。這些設備都是制造各種微觀器件的關鍵設備，可加工和檢測微米級和納米級的各種器件。

未來，中微公司將繼續堅持“三維立體生長” 與 “有機生長和外延擴展”相結合的戰略，持續鞏固在集成電路關鍵設備領域的核心競爭力和優勢，不斷拓展泛半導體關鍵設備應用，并通過持續的技術升級和深度的產業鏈合作進行新興領域探索，通過“科創企業五個十大”的學習和傳承，使企業總能量、對外競爭的凈能量最大化，實現高速、穩定、健康、安全的高質量發展，為2035年在規模、產品競爭力和客戶滿意度上成為全球第一梯隊的半導體設備公司打下堅實的基礎。