国产精品久久久aaaa,日日干夜夜操天天插,亚洲乱熟女香蕉一区二区三区少妇,99精品国产高清一区二区三区,国产成人精品一区二区色戒,久久久国产精品成人免费,亚洲精品毛片久久久久,99久久婷婷国产综合精品电影,国产一区二区三区任你鲁

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

全光譜橢偏儀測量:金屬/半導體TMDs薄膜光學常數與高折射率特性

Flexfilm ? 2025-07-21 18:17 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

過渡金屬二硫族化合物(TMDs)因其獨特的激子效應、高折射率和顯著的光學各向異性,在納米光子學領域展現出巨大潛力。本研究采用Flexfilm全光譜橢偏儀結合機械剝離技術,系統測量了多種多層TMD薄膜材料的光學常數。研究表明,半導體性TMD(如MoTe?)表現出極高的折射率(n∥≈4.84)和強雙折射(Δn≈1.54),而金屬性TMD(如TaS?)在近紅外波段顯示出雙曲型光學響應。這些結果為未來全TMD納米光子器件的設計提供了重要的數據支持,并指出了各向異性光調控的新方向。

1

實驗方法:機械剝離與橢偏技術

flexfilm

efe22760-661b-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

機械剝離的多層TMDs基底上的光譜橢偏測量示意圖

樣品制備: 采用機械剝離法(Scotch-tape method)從高質量塊體晶體制備多層TMD樣品。為提高測量精度,本文優化了干法轉移工藝:

  • 通過加熱PDMS至60°C降低TMD薄膜粘附力,實現大面積均勻轉移(橫向尺寸>300 μm);
  • 半導體TMD薄膜(如MoS?)轉移至表面有自然氧化層(~1-3 nm)的硅襯底;
  • 金屬性TMD薄膜(如TaS?)則轉移至3/8.8 μm厚的熱氧化SiO?/Si襯底,以增強光信號干涉調制。

厚度通過表面輪廓儀校準(范圍:50 nm - 數微米),確保全光譜橢偏對各向異性的敏感性。

1

橢偏測量

flexfilm

f00c42ac-661b-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

用于橢偏測量的剝離 TMD 薄片的示例性圖像

使用全光譜橢偏儀儀,在300-1700 nm波段(步長1 nm)和20°–75°入射角下測量Mueller矩陣。針對不同類型的TMD,采用定制化分析模型:

  • 半導體TMD薄膜:采用多振蕩Tauc-Lorentz模型描述面內介電函數,單一紫外振子模型描述面外分量;
  • 金屬TMD薄膜:引入Drude模型擬合自由電子響應,并結合干涉法提高數據可靠性;
  • 雙軸薄膜:通過樣品旋轉測量分離ε??和ε??分量

數據分析中嚴格考慮表面粗糙度、厚度不均儀器帶寬效應,均方誤差(MSE)<10驗證了模型的準確性。

1

半導體TMDs:高折射率與強各向異性

flexfilm

f03431b8-661b-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

單軸半導體 TMD 薄片的介電常數:(a) MoS?,(b) MoSe?,(c) MoTe?,(d) WS?,和 (e) WSe?

關鍵數據:

  • 最高折射率:MoTe?在1550 nm處達 n∥≈4.84,遠超傳統材料(硅~3.47,砷化鎵~3.37)。
  • 折射率趨勢:Mo基 > W基,且遵循 nMoS?< nMoSe??< nMoTe?,與DFT預測一致。 ?
  • 低損耗窗口:近紅外區吸收可忽略,適用于低損耗波導與諧振腔。

各向異性:

f05cae36-661b-11f0-a486-92fbcf53809c.png

1550 nm處常見TMDs的折射率與傳統半導體對比:(a) 面內折射率, (b) 面外折射率, (c) 雙折射率Δn=n∥?n⊥半導體TMD在1550 nm的光學參數對比

f07c88b4-661b-11f0-a486-92fbcf53809c.png
  • 雙折射值Δn(n∥ - n⊥):MoTe?最高(~1.54),是傳統雙折射材料(如TiO?, Δn≈0.3)的5倍以上,為偏振光學器件提供新可能。
  • 面外折射率差異:n⊥范圍2.44(WS?)至3.3(MoTe?),導致顯著雙折射。

1

金屬TMDs:雙曲行為與等離子體特性

flexfilm

f094661e-661b-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

單軸金屬TMD薄片的介電常數:(a) TaS?, (b) TaSe?, (c) NbSe?

單軸金屬:

  • TaS?/TaSe?:面內Re(ε)在~1110/1217 nm處由正轉負,面外Re(ε)始終為正 → 天然雙曲材料,支持等離子體應用。
  • NbSe?:>1390 nm時介電函數實部全為負,面外負值源于洛倫茲響應(非自由電子)。
f0cf684a-661b-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

雙軸材料介電常數:(a) 半導體ReS?, (b) 金屬WTe?

雙軸金屬WTe?:

  • 無近紅外雙曲性(多層削弱效應),但面內雙折射Δ(n?? - n??)高達~1.12(880 nm)
  • 800 nm附近異常各向異性:Re(ε??) > Re(ε??) > Re(ε??)。

本研究通過寬波段(300-1700 nm)全光譜橢偏儀測量,系統地分析了多層過渡金屬二硫族化合物(TMDs)的光學常數(折射率、介電函數、各向異性等)。研究包含半導體性(WS?/WSe?/MoS?等)、面內各向異性(ReS?/WTe?)和金屬性(TaS?/TaSe?等)TMDs,揭示了其高折射率(MoTe?達~4.84)、強光學各向異性(Δn≈1.54)近紅外低損耗等特性,并發現金屬性TMD在1000-1300 nm范圍內存在雙曲型光學響應潛力。

Flexfilm全光譜橢偏儀

flexfilm

f0f59b14-661b-11f0-a486-92fbcf53809c.png

全光譜橢偏儀擁有高靈敏度探測單元光譜橢偏儀分析軟件,專門用于測量和分析光伏領域中單層或多層納米薄膜的層構參數(如厚度)和物理參數(如折射率n、消光系數k)

  • 先進的旋轉補償器測量技術:無測量死角問題。
  • 粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測量:先進的光能量增強技術,高信噪比的探測技術。
  • 秒級的全光譜測量速度:全光譜測量典型5-10秒。
  • 原子層量級的檢測靈敏度:測量精度可達0.05nm。

本研究通過Flexfilm全光譜橢偏儀系統建立了10種TMDs薄膜的光學數據庫,揭示了高折射率(MoTe?, n4.84)、強雙折射(Δn1.54)及金屬TMDs的雙曲響應特性,為光伏與納米光子學薄膜分析提供關鍵技術支撐。原文出處:《Optical Constants of Several Multilayer Transition Metal Dichalcogenides Measured by Spectroscopic Ellipsometry in the 300?1700 nm Range: High Index, Anisotropy, and Hyperbolicity》

*特別聲明:本公眾號所發布的原創及轉載文章,僅用于學術分享和傳遞行業相關信息。未經授權,不得抄襲、篡改、引用、轉載等侵犯本公眾號相關權益的行為。內容僅供參考,如涉及版權問題,敬請聯系,我們將在第一時間核實并處理。


聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 半導體
    +關注

    關注

    339

    文章

    30725

    瀏覽量

    264032
  • 測量
    +關注

    關注

    10

    文章

    5632

    瀏覽量

    116718
  • TMDS
    +關注

    關注

    1

    文章

    25

    瀏覽量

    15997
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    基于超構表面陣列的微型單次曝光光譜研究

    半導體芯片和光學元件加工等應用中,精確測量薄膜的厚度和折射率至關重要。光譜
    的頭像 發表于 04-19 09:17 ?2224次閱讀
    基于超構表面陣列的微型單次曝光<b class='flag-5'>光譜</b><b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>研究

    原理和應用 | 精準測量不同基底光學薄膜TiO?/SiO?的光學常數

    費曼儀器作為國內領先的薄膜材料檢測解決方案提供商,致力于為全球工業智造提供精準測量解決方案。其中光譜
    的頭像 發表于 07-22 09:51 ?1544次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>原理和應用 | 精準<b class='flag-5'>測量</b>不同基底<b class='flag-5'>光學薄膜</b>TiO?/SiO?的<b class='flag-5'>光學</b><b class='flag-5'>常數</b>

    測量薄膜厚度的原理與應用

    半導體光學鍍膜及新能源材料等領域,精確測量薄膜厚度和光學常數是材料表征的關鍵步驟。Flexf
    的頭像 發表于 07-22 09:54 ?2212次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b><b class='flag-5'>測量</b><b class='flag-5'>薄膜</b>厚度的原理與應用

    與DIC系統聯用測量半導體超薄圖案化SAM薄膜厚度與折射率

    高對比度圖像指導測量位置,結合改進的分析模型,實現對圖案化SAM薄膜厚度與折射率的高精度無損表征。費曼儀器
    的頭像 發表于 08-11 18:02 ?820次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>與DIC系統聯用<b class='flag-5'>測量</b><b class='flag-5'>半導體</b>超薄圖案化SAM<b class='flag-5'>薄膜</b>厚度與<b class='flag-5'>折射率</b>

    薄膜測量原理和方法:光學模型建立和仿真

    領先的薄膜材料檢測解決方案提供商,致力于為全球工業智造提供精準測量解決方案。其中Flexfilm光譜
    的頭像 發表于 08-15 18:01 ?4241次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b><b class='flag-5'>薄膜</b><b class='flag-5'>測量</b>原理和方法:<b class='flag-5'>光學</b>模型建立和仿真

    的原理和應用 | 薄膜材料或塊體材料光學參數和厚度的測量

    是一種基于橢圓偏振分析的光學測量儀器,通過探測偏振光與樣品相互作用后偏振態的變化,獲取材料的光學
    的頭像 發表于 08-27 18:04 ?1717次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>的原理和應用 | <b class='flag-5'>薄膜</b>材料或塊體材料<b class='flag-5'>光學</b>參數和厚度的<b class='flag-5'>測量</b>

    半導體薄膜厚度測量中的應用:基于光譜干涉法研究

    薄膜厚度的測量在芯片制造和集成電路等領域中發揮著重要作用。法具備測量精度的優點,利用寬譜
    的頭像 發表于 09-08 18:02 ?1789次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>在<b class='flag-5'>半導體</b><b class='flag-5'>薄膜</b>厚度<b class='flag-5'>測量</b>中的應用:基于<b class='flag-5'>光譜</b>干涉<b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b>法研究

    常見技術問題解答(一)

    是一種基于橢圓偏振分析的光學測量儀器,通過探測偏振光與樣品相互作用后偏振態的變化,獲取材料的光學
    的頭像 發表于 09-26 18:04 ?899次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>常見技術問題解答(一)

    常見技術問題解答(二)

    是一種基于橢圓偏振分析的光學測量儀器,通過探測偏振光與樣品相互作用后偏振態的變化,獲取材料的光學
    的頭像 發表于 10-10 18:05 ?429次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>常見技術問題解答(二)

    基板效應下OLED有機薄膜折射率梯度:光譜法的精確表征與分析

    影響研究。這種數據匱乏嚴重制約了研究人員在材料選擇和器件設計時做出充分知情的決策。Flexfilm光譜可以非接觸對
    的頭像 發表于 11-17 18:05 ?490次閱讀
    基板效應下OLED有機<b class='flag-5'>薄膜</b>的<b class='flag-5'>折射率</b>梯度:<b class='flag-5'>光譜</b><b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b>法的精確表征與分析

    術精準測量薄膜n,k值及厚度:利用光學各向異性襯底

    傳統測量在同時確定薄膜光學常數(復折射率n,k)與厚度d時,通常要求
    的頭像 發表于 12-08 18:01 ?388次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b>術精準<b class='flag-5'>測量</b>超<b class='flag-5'>薄膜</b>n,k值及厚度:利用<b class='flag-5'>光學</b>各向異性襯底

    微區成像光譜測量:精準表征二維ReS?/ReSe?面內雙折射率Δn≈0.22

    、消光系數)尚缺乏系統的定量表征,傳統光譜因空間分辨不足而難以實現微區精確測量。Flex
    的頭像 發表于 12-17 18:02 ?491次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>微區成像<b class='flag-5'>光譜測量</b>:精準表征二維ReS?/ReSe?面內雙<b class='flag-5'>折射率</b>Δn≈0.22

    半導體的應用|不同厚度c-AlN外延薄膜的結構和光學性質

    隨著半導體器件向高溫、高頻、功率方向發展,氮化鋁(AlN)等寬禁帶半導體材料的外延質量至關重要。薄膜的厚度、界面粗糙度、光學
    的頭像 發表于 12-26 18:02 ?1208次閱讀
    <b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>在<b class='flag-5'>半導體</b>的應用|不同厚度c-AlN外延<b class='flag-5'>薄膜</b>的結構和<b class='flag-5'>光學</b>性質

    光譜在二維材料光學表征中的應用綜述

    實現超薄材料的高精度光學常數提取,已成為該領域不可或缺的工具。Flexfilm光譜
    的頭像 發表于 01-12 18:03 ?150次閱讀
    <b class='flag-5'>光譜</b><b class='flag-5'>橢</b><b class='flag-5'>偏</b><b class='flag-5'>儀</b>在二維材料<b class='flag-5'>光學</b>表征中的應用綜述

    基于光譜法研究不同基底對TiO?/SiO?薄膜光學常數的影響

    費曼儀器作為國內領先的薄膜材料檢測解決方案提供商,致力于為全球工業智造提供精準測量解決方案。其中Flexfilm光譜
    的頭像 發表于 02-13 18:01 ?62次閱讀
    基于<b class='flag-5'>橢</b>偏<b class='flag-5'>光譜</b>法研究不同基底對TiO?/SiO?<b class='flag-5'>薄膜光學</b><b class='flag-5'>常數</b>的影響